烤盘及煎烤机制造技术

本申请涉及一种烤盘及煎烤机，烤盘包括烤盘本体，所述烤盘本体设有烹饪槽及水槽，所述烹饪槽及所述水槽由所述烤盘本体一体冲压成型，所述水槽设于所述烹饪槽外侧，所述烹饪槽和所述水槽之间设有阶梯结构。本申请提供的烤盘通过冲压成型的方式加工形成烹饪槽及水槽，加工方式简单。烹饪槽和水槽之间设有阶梯结构，阶梯结构能够有效加强烹饪槽和水槽之间的结构强度，也就是加强烤盘的结构强度，使得烤盘不易变形，从而有利于延长烤盘的使用寿命。从而有利于延长烤盘的使用寿命。从而有利于延长烤盘的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
烤盘及煎烤机


[0001]本技术涉及小型家用电器
，特别是涉及一种烤盘及煎烤机。

技术介绍

[0002]煎烤机一般具有“煎”、“烤”、“烙”等基础烹饪功能，可以满足消费者的多种烹饪需求。为了避免煎烤的食物太干，有的方案将煎烤机的烤盘的一部分区域做成水槽，水槽内装水，随着烤盘受热水被加热从而形成蒸汽，以加湿食物。
[0003]目前，烤盘的加工方式通常有两种，一种为压铸成型，另一种为冲压成型。冲压成型的烤盘往往厚度较薄，材料成本较低，然而冲压成型的烤盘存在强度差、易变形的问题。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要提供一种能够提高结构强度的烤盘及煎烤机。
[0005]一种烤盘，包括烤盘本体，所述烤盘本体设有烹饪槽及水槽，所述烹饪槽及所述水槽由所述烤盘本体一体冲压成型，所述水槽设于所述烹饪槽外侧，所述烹饪槽和所述水槽之间设有阶梯结构。
[0006]本申请提供的烤盘通过冲压成型的方式加工形成烹饪槽及水槽，加工方式简单。烹饪槽和水槽之间设有阶梯结构，阶梯结构能够有效加强烹饪槽和水槽之间的结构强度，也就是加强烤盘的结构强度，使得烤盘不易变形，从而有利于延长烤盘的使用寿命。
[0007]在其中一个实施例中，所述阶梯结构自所述烹饪槽的槽底朝远离所述烹饪槽的槽口的方向凹陷，所述水槽自所述阶梯结构的阶梯面朝远离所述烹饪槽的槽口的方向凹陷。
[0008]如此，阶梯结构低于烹饪槽，水槽低于阶梯结构，生产加工时，通过冲压烤盘本体即可形成烹饪槽、阶梯结构以及水槽。该烤盘结构简单，容易加工。
[0009]在其中一个实施例中，所述阶梯结构为环绕于所述烹饪槽的环形凹槽，所述水槽设于所述环形凹槽一侧。
[0010]如此，阶梯结构能够增强烹饪槽周侧的结构强度，减少烹饪槽槽底发生变形的情况。
[0011]在其中一个实施例中，所述阶梯结构的阶梯面与所述水槽的槽底之间的垂直距离为A，A为3mm～20mm，所述烹饪槽的槽底与阶梯结构的阶梯面之间的垂直距离为B，B为1mm～10mm。
[0012]如此，既保证了烤盘的结构强度，又保证了水槽的深度，使得水槽可以容纳一定量的水，从而有利于在烹饪时形成蒸汽而加湿食物，并且烤盘整体高度大小适中。
[0013]在其中一个实施例中，A为5mm～15mm，B为2mm～6mm。
[0014]如此，使得烤盘的结构强度、水槽的深度以及烤盘整体高度等方面都更优。
[0015]在其中一个实施例中，所述水槽的容积为V，V为10mL～80mL。
[0016]如此，该容积范围能够满足水槽产生足量蒸汽的需求，且不会导致烤盘体积太大。
[0017]在其中一个实施例中，V为15mL～60mL。
[0018]在其中一个实施例中，所述水槽的槽口的横截面积为S1，S1为1000mm2～8000mm2。
[0019]如此，既能保证不影响烹饪槽的烹饪空间，又能方便加水及方便清洗。
[0020]在其中一个实施例中，S1为1500mm2～6000mm2。
[0021]在其中一个实施例中，所述水槽的槽底的横截面积为S2，S2为500mm2～4000mm2。
[0022]如此，确保在水槽容积一定的情况下，水槽不会太深也不会太浅，从而既不影响烹饪槽的烹饪空间，也不会导致烤盘高度太高。
[0023]在其中一个实施例中，S2为1000mm2～3000mm2。
[0024]一种煎烤机，包括底座、加热组件以及如上所述的烤盘，所述加热组件设于所述底座内侧，所述烤盘设置于所述加热组件上。
[0025]在其中一个实施例中，所述底座设有铰链，所述水槽设于所述烤盘本体靠近所述铰链的一侧。
[0026]由于烤盘本体靠近铰链的一侧存在一定的剩余空间，水槽设于烤盘本体靠近铰链的一侧，可以合理利用烤盘本体该处的剩余空间，从而水槽的设置不会增加烤盘本体的外形尺寸。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本申请实施例或传统技术中的技术方案，下面将对实施例或传统技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]图1为本申请一实施例的烤盘的结构示意图；
[0029]图2为本申请一实施例的煎烤机的局部剖切立体图；
[0030]图3为本申请一实施例的煎烤机的爆炸图；
[0031]图4为本申请一实施例的煎烤机的剖面结构示意图；
[0032]图5为图4中C处的局部放大图。
[0033]附图标记：100、烤盘；10、烤盘本体；20、烹饪槽；30、水槽；40、阶梯结构；41、阶梯面；200、底座；210、铰链；300、加热组件；310、发热管；320、发热盘。
具体实施方式
[0034]为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。
[0035]需要说明的是，当组件被称为“固定于”或“设置于”另一个组件，它可以直接在另一个组件上或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中组件。本申请的说明书所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
[0036]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性
或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
[0037]在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”、“下”可以是第一特征直接和第二特征接触，或第一特征和第二特征间接地通过中间媒介接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0038]除非另有定义，本申请的说明书所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本申请。本申请的说明书所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0039]请参见图1至图5，本申请提供一种烤盘100本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种烤盘，其特征在于，包括烤盘本体(10)，所述烤盘本体(10)设有烹饪槽(20)及水槽(30)，所述烹饪槽(20)及所述水槽(30)由所述烤盘本体(10)一体冲压成型，所述水槽(30)设于所述烹饪槽(20)外侧，所述烹饪槽(20)和所述水槽(30)之间设有阶梯结构(40)。2.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于，所述阶梯结构(40)自所述烹饪槽(20)的槽底朝远离所述烹饪槽(20)的槽口的方向凹陷，所述水槽(30)自所述阶梯结构(40)的阶梯面(41)朝远离所述烹饪槽(20)的槽口的方向凹陷。3.根据权利要求2所述的烤盘，其特征在于，所述阶梯结构(40)为环绕于所述烹饪槽(20)的环形凹槽，所述水槽(30)设于所述环形凹槽的一侧。4.根据权利要求2所述的烤盘，其特征在于，所述阶梯结构(40)的阶梯面(41)与所述水槽(30)的槽底之间的垂直距离为A，A为3mm～20mm，所述烹饪槽(20)的槽底与所述阶梯结构(40)的阶梯面(41)之间的垂直距离为B，B为1mm～10mm。5.根据权利要求4所述的烤盘，其特征在于，A为5mm～15mm，B为2mm～6mm。...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨建刚，林达福，
申请(专利权)人：浙江苏泊尔家电制造有限公司，
类型：新型
国别省市：