耐超声空气桥及其制作方法技术

提供了一种耐超声空气桥的制作方法，所述制作方法包括：在沉积面上制作形成空气桥；其中，所述空气桥包括：与所述沉积面接触的桥墩部，以及跨接于所述桥墩部上的桥身部；在所述桥墩部和所述沉积面上制作形成加固部。还提供了一种耐超声空气桥。本发明专利技术的耐超声空气桥及其制作方法，由于在桥墩部和沉积面上沉积了加固材料，使得空气桥更加牢固，在超声环境下桥墩部和沉积面的连接处不易被冲击断裂。墩部和沉积面的连接处不易被冲击断裂。墩部和沉积面的连接处不易被冲击断裂。

【技术实现步骤摘要】
耐超声空气桥及其制作方法


[0001]本专利技术属于半导体
，具体地讲，涉及一种耐超声空气桥及其制作方法。

技术介绍

[0002]空气桥是一种跨线工艺，是一种用三维桥形结构来实现平面电路跨接的方式，可解决电路中非期望的寄生效应，因桥面与电路之间的介质为空气或真空，故称为空气桥(airbridge)。并且，在超导量子芯片领域，空气桥结构尤为常见。
[0003]目前常规的制备空气桥的方法大致如下：在材料平面涂胶曝光显影后，将光刻胶加热回流，形成拱形来作为桥撑，然后在光刻胶上沉积一层导电材料，再在沉积层上涂覆一层光刻胶，图形化光刻胶以保护桥面，后通过刻蚀去除桥面以外的沉积材料，最后去除所有光刻胶，即可得到空气桥。
[0004]然而，器件中使用由上述常规的制作空气桥的方法制作的空气桥时，常常会出现工作异常的情况。在显微镜下观察器件，是由于空气桥坍塌断裂所导致的器件损坏。尤其是在空气桥与衬底连接的拐角处容易断裂，其中原因有两个：第一，空气桥是拱形结构，主要的受力点是桥面与衬底的连接拐角处；第二，在空气桥“桥面”薄膜沉积过程中，由于拱形结构，在桥面与衬底连接的拐角处沉积的材料较其他地方更少，导致该拐角处更薄弱。在这种情况下，当器件工艺涉及到超声时，如超声去胶、清洗等，在超声波气泡的瞬间高压冲撞下，空气桥基本都会出现断裂，从而导致器件失效，这极大地限制了空气桥的使用范围。

技术实现思路

[0005]为了解决上述现有技术存在的技术问题，本专利技术提供了一种能够加固空气桥薄弱处的耐超声空气桥及其制作方法。
[0006]根据本专利技术的实施例的第一方面提供的耐超声空气桥的制作方法，其包括：在沉积面上制作形成空气桥；其中，所述空气桥包括：与所述沉积面接触的桥墩部，以及跨接于所述桥墩部上的桥身部；在所述桥墩部和所述沉积面上制作形成加固部。
[0007]在上述第一方面提供的制作方法的一个示例中，所述制作方法还包括：在所述桥墩部和所述桥身部的连接处制作形成加固部。
[0008]在上述第一方面提供的制作方法的一个示例中，所述在沉积面上制作形成空气桥的方法包括：在所述沉积面上制作形成符合所述空气桥形状的桥撑结构；在所述桥撑结构上制作形成所述空气桥；将所述桥撑结构去除。
[0009]在上述第一方面提供的制作方法的一个示例中，所述在所述沉积面上制作形成符合所述空气桥形状的桥撑结构的方法包括：在所述沉积面上沉积桥撑材料；对所述桥撑材料进行图案化处理；对图案化处理后的桥撑材料进行加热回流处理，以形成包括桥撑部以及与所述桥撑部间隔的平面部的所述桥撑结构。
[0010]在上述第一方面提供的制作方法的一个示例中，在所述桥撑结构上制作形成所述空气桥的方法包括：在所述桥撑结构和所述沉积面上沉积桥材料；在所述桥材料上旋涂光
刻胶材料；对所述光刻胶材料进行图案化处理，仅保留位于所述桥撑部上以及位于所述桥撑部和所述平面部之间的间隔上的光刻胶材料；将暴露出的桥材料去除；将剩余的光刻胶材料、所述桥撑部和所述平面部去除，以形成所述空气桥。
[0011]在上述第一方面提供的制作方法的一个示例中，所述在所述桥墩部和所述沉积面上制作形成加固部的方法包括：在所述桥身部和所述沉积面上旋涂光刻胶材料；其中，所述沉积面上沉积的光刻胶材料与所述桥墩部之间具有间隔；在所述桥墩部、由所述间隔暴露出的沉积面以及所述光刻胶材料上沉积加固材料；将所述光刻胶材料及其上的加固材料去除，以在所述桥墩部和所述沉积面上形成所述加固部。
[0012]在上述第一方面提供的制作方法的一个示例中，所述在所述桥身部和所述沉积面上旋涂光刻胶材料的方法包括：在所述桥撑部和所述沉积面上依次形成第一光刻胶材料和层叠在所述第一光刻胶材料上的第二光刻胶材料；对所述第一光刻胶材料和所述第二光刻胶材料进行图案化处理，以将位于所述桥墩部上和位于所述间隔中的第一光刻胶材料和第二光刻胶材料去除。
[0013]根据本专利技术的实施例的第二方面提供的耐超声空气桥，其由上述的制作方法制作形成。
[0014]根据本专利技术的实施例的第三方面提供的耐超声空气桥，其包括：在沉积面上的桥墩部；跨接于所述桥墩部上的桥身部；在所述桥墩部上且延伸到所述沉积面上的加固部。
[0015]在上述第三方面提供的耐超声空气桥的一个示例中，所述加固部延伸至所述桥墩部和所述桥身部的跨接处。
[0016]有益效果：本专利技术的耐超声空气桥及其制作方法，由于在桥墩部和沉积面上沉积了加固材料，使得空气桥更加牢固，在超声环境下桥墩部和沉积面的连接处不易被冲击断裂。
附图说明
[0017]通过结合附图进行的以下描述，本专利技术的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：
[0018]图1是根据本专利技术的实施例的耐超声空气桥的结构示意图；
[0019]图2是根据本专利技术的实施例的耐超声空气桥的制作方法的流程图；
[0020]图3A至图3M是根据本专利技术的实施例的耐超声空气桥的详细制程图。
具体实施方式
[0021]以下，将参照附图来详细描述本专利技术的具体实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本专利技术，并且本专利技术不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本专利技术的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本专利技术的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。
[0022]如本文中使用的，术语“包括”及其变型表示开放的术语，含义是“包括但不限于”。术语“基于”、“根据”等表示“至少部分地基于”、“至少部分地根据”。术语“一个实施例”和“一实施例”表示“至少一个实施例”。术语“另一个实施例”表示“至少一个其他实施例”。术语“第一”、“第二”等可以指代不同的或相同的对象。下面可以包括其他的定义，无论是明确
的还是隐含的。除非上下文中明确地指明，否则一个术语的定义在整个说明书中是一致的。
[0023]图1是根据本专利技术的实施例的耐超声空气桥的结构示意图。
[0024]参照图1，根据本专利技术的实施例的耐超声空气桥10包括：在沉积面上的桥墩部11；跨接于所述桥墩部11上的桥身部12；在所述桥墩部11上且延伸到所述沉积面上的加固部13。
[0025]这里，所述沉积面可以是衬底20的一表面，当然也可以是其他对象的表面，本专利技术并不做具体限定。
[0026]进一步地，在另一实施方式中，所述加固部13延伸至所述桥墩部11和所述桥身部12的跨接处(或称拐角处)。
[0027]图2是根据本专利技术的实施例的耐超声空气桥的制作流程图。
[0028]一并参照图1和图2，在步骤S210中，在沉积面上制作形成空气桥10；其中，空气桥10包括：在沉积面上的桥墩部11；跨接于所述桥墩部11上的桥身部12。
[0029]在步骤S220中，在所述桥墩部11和所述沉积面上制作形成加固部13。
[0030]以下将参照图3A至图3M对根据本专利技术的实施例的耐超声空气桥的详细制程进行描述，从而可以进一步本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种耐超声空气桥的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：在沉积面上制作形成空气桥；其中，所述空气桥包括：与所述沉积面接触的桥墩部，以及跨接于所述桥墩部上的桥身部；在所述桥墩部和所述沉积面上制作形成加固部。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：在所述桥墩部和所述桥身部的连接处制作形成加固部。3.根据权利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述在沉积面上制作形成空气桥的方法包括：在所述沉积面上制作形成符合所述空气桥形状的桥撑结构；在所述桥撑结构上制作形成所述空气桥；将所述桥撑结构去除。4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述在所述沉积面上制作形成符合所述空气桥形状的桥撑结构的方法包括：在所述沉积面上沉积桥撑材料；对所述桥撑材料进行图案化处理；对图案化处理后的桥撑材料进行加热回流处理，以形成包括桥撑部以及与所述桥撑部间隔的平面部的所述桥撑结构。5.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，在所述桥撑结构上制作形成所述空气桥的方法包括：在所述桥撑结构和所述沉积面上沉积桥材料；在所述桥材料上旋涂光刻胶材料；对所述光刻胶材料进行图案化处理，仅保留位于所述桥撑部上以及位于所述桥撑部和所述平面部之间的间隔上的光刻胶材料；将暴露出的桥材料去...

【专利技术属性】
技术研发人员：周翼彪，熊康林，冯加贵，
申请(专利权)人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，
类型：发明
国别省市：