一种全体冲突路径图形搜索方法、装置及存储介质制造方法及图纸

为了快速查找版图中是否存在设计不合理的地方导致的相邻图形着色相同(冲突)，本发明专利技术公开了一种集成电路物理版图双重曝光中指定掩膜的全体冲突路径图形搜索方法及装置，包括：对所找到的各版图区块的节点拓扑图中的每个冲突连接的左右两端进行广度优先遍历，以针对各冲突连接试图找到一条着色冲突路径，若判定为找到一条着色冲突路径，则将这个着色冲突路径经过的冲突连接识别并设定为有效冲突连接，从所述有效冲突连接的两端开始，分别广度优先遍历到能到达的所有人为着色点，并记录到达的所有人为着色点的路径，标记到达所有人为着色点的路径上的所有的图形。着色点的路径上的所有的图形。着色点的路径上的所有的图形。

【技术实现步骤摘要】
一种全体冲突路径图形搜索方法、装置及存储介质


[0001]本专利技术涉及半导体集成电路设计
，特别是涉及在先进工艺DRC中进行的双重曝光物理验证流程。具体地，涉及一种在二色掩模分配之后，寻找所有着色冲突路径上的所有图形的方法。

技术介绍

[0002]多重曝光(Multiple
‑
patterning)属于先进工艺DRC所需的流程和关键技术。在先进工艺物理版图中，某一材料层(Layer)的图形间距往往过小，所有图形放在一张掩模版(Mask)上光刻，干涉效应明显，导致刻蚀失败。由此衍生了多重曝光技术。技术原理很简单，将一张掩模版上的图形间隔分配到多张上，增大间距，降低干涉影响。
[0003]多重曝光工具采用DRC检查结果描述干涉效应。因此，工具的输入数据是材料层的图形，以及图形之间由于间距过小导致的DRC检查结果；工具的输出是对材料层图形的着色结果(即多张掩模版的分配方案)。
[0004]掩模版造价昂贵，因此颜色总数不会太多，最常用的是双重曝光(Double
‑
patterning)。双重曝光工具会进行二色掩模分配，一般在二色掩模分配之前可以先指定一些图形为指定的颜色，以便生成最符合工程师期望的着色结果，指定颜色的点称之为人为着色点，又称之为指定掩膜点。如果版图设计不合理，在二色掩模分配阶段会将相邻的图形着色成同一种颜色(称之为冲突)，即将相邻的图形分配到同一张掩模版，导致刻蚀失败。因此，在版图设计过程中，如果能够找到一种方法能够检查当前版图中是否存在设计不合理的地方导致相邻图形着色相同，并且定位出错误相关的位置，就能够避免设计错误，加快设计流程。

技术实现思路

[0005]本专利技术旨在提供一种寻找所有着色冲突路径上的图形的方法，以高效地找到二色掩模分配之后存在的和着色冲突相关的所有图形。
[0006]为了实现上述目的，本专利技术提出一种集成电路物理版图双重曝光中指定掩膜的全体冲突路径图形搜索方法。本方法是一种在给定图形层、人为指定着色层，且在二色掩模分配过程之后，寻找人为指定着色点之间所有着色存在冲突(相邻图形着色相同)的路径上的图形的方法。
[0007]本专利技术所述的方法，包括：
[0008]1、一种集成电路物理版图双重曝光中指定掩膜的全体冲突路径图形搜索方法，其特征在于，包括：
[0009]S01：对二着色后的各版图区块的节点拓扑图进行遍历处理，以寻找各版图区块的节点拓扑图中的所有的冲突连接，其中，针对各版图区块的节点拓扑图，设定为：1)当两个图形之间距离小于阈值时，这两个图形之间存在连接；2)当着色之后两个有连接的图形着色结果相同，那么这两个图形之间的连接为冲突连接；
[0010]S02：对所找到的各版图区块的节点拓扑图中的每个冲突连接的左右两端进行广度优先遍历，以针对各冲突连接试图找到一条着色冲突路径，其中，所述着色冲突路径满足下列条件：a)路径两端为人为指定着色点，中间无人为着色点；b)路径至少经过一个冲突连接；c)路径内部不能重复经过一个图形；
[0011]S03：若判定为通过步骤S02找到一条着色冲突路径，则将这个着色冲突路径经过的冲突连接识别并设定为有效冲突连接；
[0012]S04：从所述有效冲突连接的两端开始，分别广度优先遍历到能到达的所有人为着色点，并记录到达的所有人为着色点的路径，标记到达所有人为着色点的路径上的所有的图形。
[0013]在一种可实现方式中，如果各版图区块的节点拓扑图都没能找到有效冲突连接，则判定为整个集成电路的版图无着色冲突路径，结束全体冲突路径图形搜索。
[0014]在一种可实现方式中，步骤S02包括：从所述节点拓扑图中的未访问过的第一冲突连接开始，以该第一冲突连接的一端开始进行广度优先搜索寻找所有可能存在的人为着色点，当找到第一个人为着色点时，将该第一冲突连接的一端到第一个人为着色点的这条路径设置为已访问，再从该第一冲突连接的第二端开始广度优先搜索遍历寻找可能存在的人为着色点，如果从第二个端开始也能够找到一个人为着色点，那么则判定为找到一条所述着色冲突路径。
[0015]在一种可实现方式中，如果判断为从第一冲突连接的第二端无法不经过设置为已访问的上述路径才能找到一人为着色点，则从该第一冲突连接的一端的其他方向重新进行广度优先搜索人为着色点，当在其他方向找到下一个人为着色点时，将该第一冲突连接的一端到下一个人为着色点的路径设置为无法访问，然后从该第一冲突连接的第二端开始再次尝试寻找人为着色点，如果从所述第二端开始能够找到一个人为着色点，那么则判断为找到一条所述着色冲突路径。
[0016]在一种可实现方式中，步骤S04还包括标记到达的所有人为着色点的路径上的所有的图形所属的点双连通分量。
[0017]在一种可实现方式中，若到达的所有人为着色点的路径上存在一个图形所属的点双连通分量没有其他的图形也在该路径上，则不标记这个点双连通分量不在该路径上的其他图形。
[0018]优选的，通过图形或颜色在版图中标注到达所有人为着色点的路径上的所有的图形。
[0019]本专利技术还提供一种集成电路物理版图双重曝光中指定掩膜的全体冲突路径图形搜索装置，其特征在于，包括：
[0020]输入部，其用于输入与集成电路的版图相关的信息；
[0021]处理部，所述处理部包括：
[0022]图形分割部，其将集成电路的版图的图形层划分为多个版图区块；
[0023]着色部，其针对划分后的各版图区块的图形进行二着色；
[0024]冲突连接遍历部，其对二着色后的各版图区块的节点拓扑图进行遍历处理，以寻找各版图区块的节点拓扑图中的所有的冲突连接，其中，针对各版图区块的节点拓扑图，设定为：1)当两个图形之间距离小于阈值时，这两个图形之间存在连接；2)当着色之后两个有
连接的图形着色结果相同，那么这两个图形之间的连接为冲突连接；
[0025]着色冲突路径搜索部，其对所找到的各版图区块的节点拓扑图中的每个冲突连接的左右两端进行广度优先遍历，以针对各冲突连接试图找到一条着色冲突路径，其中，所述着色冲突路径满足下列条件：a)路径两端为人为指定着色点，中间无人为着色点；b)路径至少经过一个冲突连接；c)路径内部不能重复经过一个图形；以及
[0026]判定部，其基于所述着色冲突路径搜索部的搜索结果判定是否找到一条着色冲突路径，若判定为找到一条着色冲突路径，则将这个着色冲突路径经过的冲突连接识别并设定为有效冲突连接；
[0027]标记部，其从所述有效冲突连接的两端开始，分别广度优先遍历到能到达的所有人为着色点，并记录到达的所有人为着色点的路径，标记到达所有人为着色点的路径上的所有的图形。
[0028]在一种可实现方式中，如果各版图区块的节点拓扑图都没能找到有效冲突连接，则判定为整个集成电路的版图无着色冲突路径，结束全体冲突路径图形搜索。
[0029]在一种可实现方式中，所述着色冲突路径搜索部从所述节点拓扑图中的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种集成电路物理版图双重曝光中指定掩膜的全体冲突路径图形搜索方法，其特征在于，包括：S01：对二着色后的各版图区块的节点拓扑图进行遍历处理，以寻找各版图区块的节点拓扑图中的所有的冲突连接，其中，针对各版图区块的节点拓扑图，设定为：1)当两个图形之间距离小于阈值时，这两个图形之间存在连接；2)当着色之后两个有连接的图形着色结果相同，那么这两个图形之间的连接为冲突连接；S02：对所找到的各版图区块的节点拓扑图中的每个冲突连接的左右两端进行广度优先遍历，以针对各冲突连接试图找到一条着色冲突路径，其中，所述着色冲突路径满足下列条件：a)路径两端为人为指定着色点，中间无人为着色点；b)路径至少经过一个冲突连接；c)路径内部不能重复经过一个图形；S03：若判定为通过步骤S02找到一条着色冲突路径，则将这个着色冲突路径经过的冲突连接识别并设定为有效冲突连接；以及S04：从所述有效冲突连接的两端开始，分别广度优先遍历到能到达的所有人为着色点，并记录到达的所有人为着色点的路径，标记到达所有人为着色点的路径上的所有的图形。2.根据权利要求1所述的全体冲突路径图形搜索方法，其特征在于，如果各版图区块的节点拓扑图都没能找到有效冲突连接，则判定为整个集成电路的版图无着色冲突路径，结束全体冲突路径图形搜索。3.根据权利要求1所述的全体冲突路径图形搜索方法，其特征在于，步骤S02包括：从所述节点拓扑图中的未访问过的第一冲突连接开始，以该第一冲突连接的一端开始进行广度优先搜索寻找所有可能存在的人为着色点，当找到第一个人为着色点时，将该第一冲突连接的一端到第一个人为着色点的这条路径设置为已访问，再从该第一冲突连接的第二端开始广度优先搜索遍历寻找可能存在的人为着色点，如果从第二个端开始也能够找到一个人为着色点，那么则判定为找到一条所述着色冲突路径。4.根据权利要求3所述的全体冲突路径图形搜索方法，其特征在于，如果判断为从第一冲突连接的第二端无法不经过设置为已访问的上述路径才能找到一人为着色点，则从该第一冲突连接的一端的其他方向重新进行广度优先搜索人为着色点，当在其他方向找到下一个人为着色点时，将该第一冲突连接的一端到下一个人为着色点的路径设置为无法访问，然后从该第一冲突连接的第二端开始再次尝试寻找人为着色点，如果从所述第二端开始能够找到一个人为着色点，那么则判断为找到一条所述着色冲突路径。5.根据权利要求1所述的全体冲突路径图形搜索方法，其特征在于，步骤S04还包括标记到达的所有人为着色点的路径上的所有的图形所属的点双连通分量。6.根据权利要求5所述的全体冲突路径图形搜索方法，其特征在于，若到达的所有人为着色点的路径上存在一个图形所属的点双连通分量没有其他的图形也在该路径上，则不标记这个点双连通分量不在该路径上的其他图形。7.根据权利要求1所述的全体冲突路径图形搜索方法，其特征在于，通过图形或颜色在版图中标注到达所有人为着色点的路径上的所有的图形。8.一种集成电路物理版图双重曝光中指定掩膜的全体冲突路径图形搜索装置，其特征
在于，包括：输入部，其用于输入与集成电路的版图相关的信息；处理部，所述处理部包括：图形分割部，其将集成电路的版图的图形层划分为多个版图区块；着色部，其针对划分后的各版...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡渲，于士涛，马海南，吴登辉，
申请(专利权)人：成都华大九天科技有限公司，
类型：发明
国别省市：