光刻机制造技术

本申请涉及一种光刻机。该光刻机包括光图形生成设备、空间光相位调制设备和投影设备；光图形生成设备用于投射光图形；空间光相位调制设备，用于接收光图形，并对光图形中部分区域图像的相位进行调制；其中，光图形在空间光相位调制设备上呈实像；投影设备，用于接收调制后的光图形并投射到目标位置；其中，调制后的光图形在目标位置发生干涉效应。通过光图形生成设备投射光图形，并在空间光相位调制设备形成实像。空间光相位调制设备对光图形的部分区域的相位进行调制，以实现通过投影设备投射到目标位置时光图形的不同区域互相发生干涉效应，在目标位置留下一段非曝光区，进而实现了用低分辨率的光刻机进行高分辨率的光刻的目的，节约了成本。节约了成本。节约了成本。

【技术实现步骤摘要】
光刻机


[0001]本申请涉及光刻
，特别是涉及一种光刻机。

技术介绍

[0002]光刻技术是集成电路制造的关键技术，在微纳光学、二维材料等领域扮演了重要的角色。在科研领域中，对于所需要的光刻图形，大部分区域需要的光刻分辨率并不高，但其中包含有较小的沟道，因此需要选择对应该沟道分辨率的光刻机进行光刻。通常而言，会将图形分离进行二次套刻，即先使用高分辨率光刻机刻写沟道，制作标记，然后用低分辨率光刻机对准标记刻写大部分区域。
[0003]在实现过程中，传统技术中至少存在如下问题：传统光刻机实现更高一级的分辨率光刻存在成本高的问题。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够通过低成本的方式实现高分辨率光刻的光刻机。
[0005]为了实现上述目的，本技术实施例提供了一种光刻机，包括：
[0006]光图形生成设备，用于投射光图形；
[0007]空间光相位调制设备，用于接收光图形，并对光图形中部分区域图像的相位进行调制；其中，光图形在空间光相位调制设备上呈实像；
[0008]投影设备，用于接收调制后的光图形并投射到目标位置；其中，调制后的光图形在目标位置发生干涉效应。
[0009]在其中一个实施例中，光图形包括第一区域光图像、第二区域光图像和第三区域光图像；
[0010]空间光相位调制设备对第二区域光图像的相位和第三区域光图像的相位进行调制。
[0011]在其中一个实施例中，还包括光束生成设备；
[0012]光束生成设备用于向光图形生成设备提供平顶均匀光束。
[0013]在其中一个实施例中，光束生成设备包括光源和全反射装置；
[0014]光源设于全反射装置内；全反射装置的出光口投射出平顶均匀光束。
[0015]在其中一个实施例中，还包括光开关；
[0016]光开关设于全反射装置的出光口至光图形生成设备间的光路上。
[0017]在其中一个实施例中，还包括滤光片；
[0018]滤光片设于全反射装置的出光口至光图形生成设备间的光路上。
[0019]在其中一个实施例中，还包括光反射器件；
[0020]光反射器件用于将平顶均匀光束反射进光图形生成设备内。
[0021]在其中一个实施例中，光源为高压汞灯。
[0022]在其中一个实施例中，还包括变倍扩束镜；
[0023]变倍扩束镜设于光图形生成设备和空间光相位调制设备间的光路上。
[0024]在其中一个实施例中，还包括控制设备；
[0025]控制设备连接空间光相位调制设备。
[0026]上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点和有益效果：
[0027]上述光刻机，通过光图形生成设备投射光图形，并在空间光相位调制设备形成实像。空间光相位调制设备对光图形的部分区域的相位进行调制，以实现通过投影设备投射到目标位置时光图形的不同区域互相发生干涉效应，在目标位置留下一段非曝光区，进而实现了用低分辨率的光刻机进行高分辨率的光刻的目的，节约了成本。同时，通过进行一次光刻即可完成光刻作业，提高了作业效率。
附图说明
[0028]通过附图中所示的本申请的优选实施例的更具体说明，本申请的上述及其它目的、特征和优势将变得更加清晰。在全部附图中相同的附图标记指示相同的部分，且并未刻意按实际尺寸等比例缩放绘制附图，重点在于示出本申请的主旨。
[0029]图1为一个实施例中光刻机的第一示意性结构框图；
[0030]图2为一个实施例中光刻机的第二示意性结构框图；
[0031]图3为一个实施例中光刻机的第三示意性结构框图；
[0032]图4为一个实施例中光刻机的第四示意性结构框图；
[0033]图5为一个实施例中光刻机的第五示意性结构框图；
[0034]图6为一个实施例中光刻机的第六示意性结构框图；
[0035]图7为一个实施例中光刻机的第七示意性结构框图。
具体实施方式
[0036]为了便于理解本申请，下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的实施例。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使本申请的公开内容更加透彻全面。
[0037]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请。
[0038]可以理解，本申请所使用的术语“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各种元件，但这些元件不受这些术语限制。这些术语仅用于将第一个元件与另一个元件区分。
[0039]空间关系术语例如“在
……
下”、“在
……
下面”、“下面的”、“在
……
之下”、“在
……
之上”、“上面的”等，在这里可以用于描述图中所示的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。应当明白，除了图中所示的取向以外，空间关系术语还包括使用和操作中的器件的不同取向。例如，如果附图中的器件翻转，描述为“在其它元件下面”或“在其之下”或“在其下”元件或特征将取向为在其它元件或特征“上”。因此，示例性术语“在
……
下面”和“在
……
下”可包括上和下两个取向。此外，器件也可以包括另外地取向(譬如，旋转90度或其它取向)，并且在此使用的空间描述语相应地被解释。
[0040]在此使用时，单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也可以包括复数形式，除非上下文清楚指出另外的方式。还应当理解的是，术语“包括/包含”或“具有”等指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的存在，但是不排除存在或添加一个或更多个其他特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的可能性。
[0041]在一个实施例中，如图1所示，提供了一种光刻机，包括：
[0042]光图形生成设备10，用于投射光图形；
[0043]空间光相位调制设备20，用于接收光图形，并对光图形中部分区域图像的相位进行调制；其中，光图形在空间光相位调制设备20上呈实像；
[0044]投影设备30，用于接收调制后的光图形并投射到目标位置；其中，调制后的光图形在目标位置发生干涉效应。
[0045]其中，光图形生成设备可以为本领域任意一种的能够生成光图形的设备，例如可以基于现有的光刻机进行生成光图形。在一个具体示例中，光图形生成设备可以为DMD(数字微镜器件)，其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中，并根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片的微镜的转角，并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的光图形。需要说明的是，还可以通过其他手段进行生成光图形，包括利用液晶等光调制器式等投影式光刻机、掩模式光刻机、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻机，其特征在于，包括：光图形生成设备，用于投射光图形；空间光相位调制设备，用于接收所述光图形，并对所述光图形中部分区域图像的相位进行调制；其中，所述光图形在所述空间光相位调制设备上呈实像；投影设备，用于接收调制后的光图形并投射到目标位置；其中，所述调制后的光图形在所述目标位置发生干涉效应。2.根据权利要求1所述光刻机，其特征在于，所述光图形包括第一区域光图像、第二区域光图像和第三区域光图像；所述空间光相位调制设备对所述第二区域光图像的相位和所述第三区域光图像的相位进行调制。3.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，还包括光束生成设备；所述光束生成设备用于向所述光图形生成设备提供平顶均匀光束。4.根据权利要求3所述的光刻机，其特征在于，所述光束生成设备包括光源和全反射装置；所述光源设于所述全反射装置内；所述全...

【专利技术属性】
技术研发人员：李智斌，许智，
申请(专利权)人：松山湖材料实验室，
类型：新型
国别省市：