一种热屏装置和单晶炉热场制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种热屏装置和单晶炉热场，包括：热屏本体以及多个凸起结构，所述凸起结构用于反射和吸收热辐射，其中，多个所述凸起结构均设置于所述热屏本体的底部，所述凸起结构沿所述热屏本体的底部向远离所述热屏本体的方向延伸；多个所述凸起结构沿所述热屏本体的周向间隔设置，相邻两个所述凸起结构之间形成一个导流通道。可以增大晶棒沿其生长方向上的温度梯度，进而提高晶棒的生长速度；且相邻两个所述凸起结构之间形成一个导流通道，便于气体通过并带走固液界面的挥发物。便于气体通过并带走固液界面的挥发物。便于气体通过并带走固液界面的挥发物。

【技术实现步骤摘要】
一种热屏装置和单晶炉热场


[0001]本技术涉及光伏
，特别是涉及一种热屏装置和单晶炉热场。

技术介绍

[0002]随着光伏行业的发展，单晶硅的需要量越来越高。目前，为了降低单晶硅的生产成本，着重提高晶棒的生长速度。
[0003]目前常规的单晶炉热场通常采用导流筒加换热器的结构保证晶棒具有足够的温度梯度，但是由于拉晶过程中需要保证气体正常流动以带走坩埚中的固液界面的挥发物，使得热屏底部和固液界面之间需要具有一定的距离，即液口距。
[0004]然而，液口距的存在容易导致熔硅液和加热器均辐射热量至固液界面上方的晶棒上，使得固液界面上方的晶棒的温度升高，纵向温度梯度降低，晶体的生长速度变小。

技术实现思路

[0005]鉴于上述问题，提出了本技术以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种热屏装置和单晶炉热场。
[0006]为了解决上述问题，本技术公开了一种热屏装置，其特征在于，包括：热屏本体以及多个凸起结构，所述凸起结构用于反射和吸收热辐射，其中，
[0007]多个所述凸起结构均设置于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种热屏装置，其特征在于，包括：热屏本体以及多个凸起结构，所述凸起结构用于反射和吸收热辐射，其中，多个所述凸起结构均设置于所述热屏本体的底部，所述凸起结构沿所述热屏本体的底部向远离所述热屏本体的方向延伸；多个所述凸起结构沿所述热屏本体的周向间隔设置，相邻两个所述凸起结构之间形成一个导流通道。2.根据权利要求1所述的热屏装置，其特征在于，所述热屏本体的底部设置有用于穿设晶棒的第一通孔；每相邻的两个所述凸起结构包括第一凸起结构和第二凸起结构；所述第一凸起结构朝向所述第一通孔的中心线的正投影为第一投影，所述第二凸起结构朝向所述第一通孔的中心线的正投影为第二投影，所述第一投影和所述第二投影的至少部分重合。3.根据权利要求2所述的热屏装置，其特征在于，所述凸起结构包括相对设置的第一端和第二端，所述第一端靠近所述第一通孔的中心线设置；所述第一端至所述第一通孔的中心线的方向为第一方向，所述第一端至所述第二端的方向为第二方向，所述第一方向和所述第二方向之间的夹角为锐角或者钝角。4.根据权利要求2所述的热屏装置，其特征在于，所述凸起结构包括相对设置的第一端和第二端，所述第一端靠近所述第一通孔的中心线设置；所述第一端的截面面积大于或等于所述第二端的截面面积。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：文永飞，马少林，程磊，丁彪，马宝，张朝光，成路，王莎莎，
申请(专利权)人：隆基绿能科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：