缓冲结构制造技术

技术编号:3634529 阅读:169 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种缓冲结构,其用以降低外力通过一支撑元件从一电路板传导至一镜头模块,该缓冲结构包括:一个以上第一缓冲单元、及一个以上第二缓冲单元,其中该镜头模块是通过该等第一缓冲单元以固定于该支撑元件的一端,并且该支撑元件的另一端是通过该等第二缓冲单元以固定于该电路板上;借此,该镜头模块与该支撑元件之间是借助该等第一缓冲单元,以产生第一层的缓冲效果,另外该镜头模块与该支撑元件的组合与该电路板之间是通过该等第二缓冲单元,以产生第二层的缓冲效果。(*该技术在2016年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种缓冲结构,其用以降低外力通过一支撑元件从一电路板传导至一镜头模块;该缓冲结构,其特征在于,包括:一个以上第一缓冲单元、及一个以上第二缓冲单元,其中该镜头模块是通过该等第一缓冲单元以固定于该支撑元件的一端,并且该支撑元件的另一端是通过该等第二缓冲单元以固定于该电路板上;借此,该镜头模块与该支撑元件之间是借助该等第一缓冲单元,以产生第一层的缓冲效果,另外该镜头模块与该支撑元件的组合与该电路板之间是通过该等第二缓冲单元,以产生第二层的缓冲效果。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张丰林志圣
申请(专利权)人:华晶科技股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]

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