【技术实现步骤摘要】
一种定向蚀刻添加剂合成装置
[0001]本专利技术涉及蚀刻添加剂合成
,尤其涉及一种定向蚀刻添加剂合成装置。
技术介绍
[0002]蚀刻添加剂也就是蚀刻液,是一种铜版画雕刻用原料,通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。从理论上讲,凡能氧化钢而生成可溶性铜盐的试剂,都可以用来蚀刻敷铜箔板。
[0003]在蚀刻添加剂合成的过程中,需要将固体原料和水定向的导入合成箱内进行溶解合成,但是在实际的生产中发现由于固体原料大多体积较大,不利于大批次的合成蚀刻添加剂,从而导致蚀刻添加剂合成的效率较低。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的是为了解决现有技术中不足的问题,而提出的一种定向蚀刻添加剂合成装置。
[0005]为了实现上述目的,本专利技术采用了如下技术方案:一种定向蚀刻添加剂合成装置,包括支架、设置于支架顶部的合成箱和设置于合成箱顶部的添加机构,所述添加机构包括安装于合成箱顶部的安装箱和设置于安装箱右上端的进料斗,所述进料斗下部设置有用于破碎原料的破碎机构,所述安装箱左侧安装有与破碎机构配合的辅助喷淋组件;所述破碎机构包括设置于安装箱内的放置箱、左右滑动设置于放置箱的冲击板、设置于冲击板右侧上部的多个破碎齿、设置于冲击板右侧下部的破碎板和设置于放置箱右侧内壁的垫板,所述冲击板顶部设置有限料板,所述限料板与放置箱顶部左右滑动连接,所述限料板右侧开设有与进料斗底部配合的进料口;所述限料板右侧与L型滑架滑架连接,所述L型滑架与安装箱内壁左右滑动连接,所述述L型滑架远离限料板的一端通过转 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种定向蚀刻添加剂合成装置,其特征在于,包括支架(1)、设置于支架(1)顶部的合成箱(2)和设置合成箱(2)顶部的添加机构(3),所述添加机构(3)包括安装于合成箱(2)顶部的安装箱(31)和设置于安装箱(31)右上端的进料斗(32),所述进料斗(32)下部设置有用于破碎原料的破碎机构(4),所述安装箱(31)左侧安装有与破碎机构(4)配合的辅助喷淋组件(6);所述破碎机构(4)包括设置于安装箱(31)内的放置箱(401)、左右滑动设置于放置箱(401)的冲击板(402)、设置于冲击板(402)右侧上部的多个破碎齿(403)、设置于冲击板(402)右侧下部的破碎板(404)和设置于放置箱(401)右侧内壁的垫板(405),所述冲击板(402)顶部设置有限料板(406),所述限料板(406)与放置箱(401)顶部左右滑动连接,所述限料板(406)右侧开设有与进料斗(32)底部配合的进料口(4061);所述限料板(406)右侧与L型滑架(407)滑架连接,所述L型滑架(407)与安装箱(31)内壁左右滑动连接,所述述L型滑架(407)远离限料板(406)的一端通过转轴与滑块转动连接,所述滑块左右滑动设置于转座(409)内,所述转座(409)偏心转动设置于安装箱(31)内壁底部;所述垫板(405)由上部的直角三角部和设置于直角三角部底部的方形部组成,所述直角三角部的斜边位于左侧。2.根据权利要求1所述的一种定向蚀刻添加剂合成装置,其特征在于,所述滑块的滑动通过调节组件(5)调节,所述调节组件(5)包括安装于转座(409)内的电动伸缩杆(57),所述滑块安装于电动伸缩杆(57)的工作端,所述安装箱(31)右上端安装有定位板(51),所述定位板(51)底部拆卸安装有多个安装柱(52),多个所述安装柱(52)底部均安装有安装座(53),多个所述安装座(53)内均嵌设有压力传感器(54),多个所述安装座(53)底部均上下滑动设置有与压力传感器(54)接触的触发板(55),所述触发板(55)与安装座(53)内壁之间设置有第一复位弹簧,所述限料板(406)顶部设置有与触发板(55)底部接触的凸块(56);多个所述压力传感器(54)的输出端均与处理器的输入端电连接,所述处理器的输出端与电动伸缩杆(57)电连接,所述处理器安装于控制面板(7)内,所述控制面板(7)安装于支架(1)顶部,所述控制面板(7)表面嵌设有显示屏和键盘,所述显示屏和键盘均与处理器电连接。3.根据权利要求1所述的一种定向蚀刻添加剂合成装置,其特征在于,所述放置箱(401)的右下端开设有多个出料口,所述放置箱(401)底端上下滑动设置有罩设多个出料口的接料罩(410),所述接料罩(410)的底部设置有伸入合成箱(2)的导料管(411),所述接料罩(410)上部设置有滑入多个出料口内的多个通料锥(412),所述导料管(411)与安装箱(31)底部内壁上下滑动连接,所述放置箱(401)底部开设有与接料罩(410)顶部插接的插接槽,所述冲击板(402)左侧下部设置堵料板(417),所述堵料板(417)底部与多个出料口顶部接触。4.根据权利要求3所述的一种定向蚀刻添加剂合成装置,其特征在于,所述接料罩(410)的左侧...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘志强,张廷伟,沈旭,
申请(专利权)人:千纳微电子技术南通有限公司,
类型:发明
国别省市:
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