一种用于工件表面清理的槽体制造技术

本实用新型专利技术提供了一种用于工件表面清理的槽体，包括：水槽；将所述水槽内的水进行循环流动的水循环单元；对所述水槽中的水进行加热的温控单元；以及设在所述水槽中用于放置工件的支撑件；所述温控单元设在所述支撑件的下方；将工件放置在恒温且循环流动的水中浸泡，恒温的热水对工件进行浸泡，使得污染物更好的从工件上分离，保证了水对工件的去污能力；通过设置循环流动的热水，将污染物冲走，改善了污染物反粘到工件上的问题，进一步提高去污能力，提升了去污后的产品质量，为工件的下道工序带来便利，且可持续的将工件在水槽内进行取放，实现连续式去污工作，提高了工件去污的工作效率。作效率。作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于工件表面清理的槽体


[0001]本技术涉及电子产品清理
，尤其涉及一种用于工件表面清理的槽体。

技术介绍

[0002]在电子半导体等电子产品的生产过程中，工件的表面难免会沾染上污垢和杂质等污染物，污染物的长期附着会导致工件受到侵蚀，从而影响到产品质量，因此，需要及时的对工件表面进行去污处理。
[0003]现有技术一般采取热水浸泡的方法来去除工件表面的污染物，即在一个水槽中充入热水，将工件放入热水中浸泡一段时间后，污染物自动与工件分离，但是，在浸泡过程中，水的温度不可避免的下降，导致去污能力降低，同时，由于水槽内的水不流动，工件处于死水环境中，污染物会一定程度的反粘回工件上，进一步降低去污能力，导致工件的去污效果降低，影响到产品质量；并且，这种方法中，水槽内的水在使用一段时间后会积攒过多的污染物，无法继续使用，需要将脏水倒掉，重新对水槽补充干净水后才能继续使用，工作效率较低。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是针对现有技术的不足之处，提供一种用于工件表面清理的槽体，通过控温单元使得水槽内的水保持恒温，通过设置水循环单元使得水在水槽内持续流动，从而提高去污能力和工作效率，解决工件在不流动的热水中浸泡，去污能力和工作效率较低的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0006]一种用于工件表面清理的槽体，包括：
[0007]水槽；
[0008]将所述水槽内的水进行循环流动的水循环单元；
[0009]对所述水槽中的水进行加热的温控单元；以及
[0010]设在所述水槽中用于放置工件的支撑件；
[0011]所述温控单元设在所述支撑件的下方。
[0012]具体的，在对工件进行清洗时，对水槽进行加水，通过水循环单元使得水在水槽内循环流动，通过温控单元对水进行加热，使得水槽内的水维持在固定温度范围内，然后将工件放置在支撑件上并没入水中，通过恒温的热水对工件进行浸泡，使得污染物更好的从工件上分离，保证了水的去污能力；通过设置循环流动的热水，将污染物冲走，改善了污染物反粘到工件上的问题，进一步提高去污效果。
[0013]作为一种优选，所述水循环单元包括：
[0014]向所述水槽中加水的进水管；以及
[0015]将所述水槽中的水排出的排水管；
[0016]所述进水管位于所述支撑件的上方；
[0017]所述排水管位于所述支撑件的下方。
[0018]具体的，进水管和排水管之间安装有用于实现水循环的水泵。
[0019]作为又一种优选，所述水槽包括：
[0020]内槽体；
[0021]外槽体；以及
[0022]设在所述内槽体上用于与所述外槽体连通的溢流口和连通口；
[0023]所述进水管安装在所述内槽体上；
[0024]所述排水管安装在所述外槽体上；
[0025]所述溢流口位于所述内槽体的上端；
[0026]所述连通口位于所述内槽体的底端。
[0027]具体的，内槽体与外槽体之间留有供内槽体中的水流出的通道，排水管与通道连通；
[0028]在对水槽进行热水循环时，水槽内的水经由排水管排出，再通过水泵等装置将水经由进水管输入内槽体内，从而实现内槽体内的水循环流动的功能；
[0029]通过设置溢流口，当内槽体内的水量过多时，内槽体内的水经由溢流口进入通道内，以免因内槽体内的水量过多而溢出至水槽外。
[0030]作为一种优选，还包括用于控制所述水槽中水量的控制单元；
[0031]所述控制单元包括：
[0032]可拆卸安装在所述水槽中的水量检测单元；以及
[0033]设在所述水槽的内壁上对所述水量检测单元进行保护的保护管。
[0034]具体的，内槽体的内壁上安装有支架，水量检测单元包括检测探头和管路，检测探头可拆卸的安装在支架上，可采用浮子流量计，浮子流量计中的浮子即为检测探头；通过浮子流量计来检测水槽中的水流量，从而调整水槽中的流速或溢流量，起到控制水槽内的水量的功能；浮子流量计中的管路设在保护管的内部，以免从工件上清洗下来的污染物随着水流而附着到管路上，起到对浮子流量计进行保护的功能；通过将水量检测单元设置为可拆卸的模式，在水槽不工作时，将水量检测单元从支架上取下进行维护或更换，以便继续正常工作。
[0035]作为又一种优选，所述温控单元包括设在所述水槽内的加热件。
[0036]具体的，加热件可采用电加热管。
[0037]作为一种优选，所述支撑件为网格状结构，所述支撑件可拆卸的安装在所述水槽内。
[0038]具体的，支撑件放置在内槽体的内部，支撑件的底部设有支脚，且支脚位于温控单元的外侧，通过这种设置，可将支撑件单独从水槽内取出后进行清洗维护。
[0039]作为又一种优选，所述水槽的底部设有可调节高度的支座，通过支座调整水槽1的安装高度，从而适用于不同的安装环境。
[0040]本技术的有益效果在于：
[0041]（1）本技术将工件放置在恒温且循环流动的水中浸泡，恒温的热水对工件进行浸泡，使得污染物更好的从工件上分离，保证了水对工件的去污能力；通过设置循环流动
的热水，将污染物冲走，改善了污染物反粘到工件上的问题，进一步提高去污能力，提升了去污后的产品质量，为工件的下道工序带来便利，且可持续的将工件在水槽内进行取放，实现连续式去污工作，提高了工件去污的工作效率。
[0042]（2）本技术通过将水槽设置为双层结构，并在内槽体上设置溢流口和水量检测单元，用于调整溢流量，控制水槽内的水量，即可使得水更好的保持恒温，又可避免内槽体内的水量过多而溢出至水槽外造成安全隐患。
[0043]（3）本技术通过设置可拆卸的检测单元，便于单独将水量检测单元从水槽中取下进行维护或更换，通过设置保护管套在检测单元中的管路外，避免从工件上清洗下来的污染物随着水流附着到管路上，起到对水量检测单元进行保护的功能，使用更方便。
[0044]（4）本技术通过设置可拆卸的支撑件来放置工件，便于对支撑件进行取出清洗。
[0045]综上所述，本技术具有提高工件去污效率，使用方便等优点。
附图说明
[0046]图1为本技术整体结构立体图；
[0047]图2为本技术局部半剖图；
[0048]图3为本技术控制单元立体图；
[0049]图4为本技术水槽俯视立体图；
[0050]图5为本技术水槽仰视立体图。
具体实施方式
[0051]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于工件表面清理的槽体，其特征在于，包括：水槽；将所述水槽内的水进行循环流动的水循环单元；对所述水槽中的水进行加热的温控单元；以及设在所述水槽中用于放置工件的支撑件；所述温控单元设在所述支撑件的下方。2.根据权利要求1所述的一种用于工件表面清理的槽体，其特征在于，所述水循环单元包括：向所述水槽中加水的进水管；以及将所述水槽中的水排出的排水管；所述进水管位于所述支撑件的上方；所述排水管位于所述支撑件的下方。3.根据权利要求2所述的一种用于工件表面清理的槽体，其特征在于，所述水槽包括：内槽体；外槽体；以及设在所述内槽体上用于与所述外槽体连通的溢流口和连通口；所述进水管安装在所述内槽体上；所述排水管安装在所述外槽体上...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨苏圣，
申请(专利权)人：湖州科秉电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：