成像设备和图像处理方法技术

一种成像设备和图像处理方法，能够简化光学系统，降低成本，并且还能产生具有与光阑控制相一致的、适当的质量且噪声影响较小的恢复图像，所述成像设备包括：光学系统１１０、用于形成一阶图像的成像元件１２０、以及用于用一阶图像形成最终的高清晰图像的图像处理设备１５０，其中控制设备２００检测光阑信息，并控制转换装置１４０，以便在光阑未闭合至预先确定的数值时，将成像元件１２０通过ＡＦＥ　１３０捕捉到的物体的漫射图像信号输入至图像处理设备１５０，并将无漫射的图像信号输入至摄像机信号处理单元１６０，反之，在光阑闭合至预先确定的数值或闭合程度大于确定的数值时，将成像元件１２０通过ＡＦＥ　１３０捕捉到的物体的漫射图像信号输入至摄像信号处理单元１６０，而不令其通过图像处理设备１５０。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种成像设备，包括：　光学系统，　光学波前调制元件，用于对光学传输函数（ＯＴＦ）进行调制，　可变光阑，　成像元件，用于捕捉通过光学系统、可变光阑以及光学波前调制元件的物像，　转换装置，用于根据来自所述成像元件的物体漫射图像信号产生无漫射图像信号；　信号处理单元，用于对图像信号进行预先确定的处理，　存储装置，用于存储信号处理单元的运算系数，以及　控制装置，用于控制光阑，其中　所述控制装置在未将光阑闭合至预先确定的数值时，将来自成像元件的物体漫射图像信号输入至转换装置，并将无漫射图像信号输入至信号处理单元，在将光阑闭合至预先确定的数值或以上时，将来自成像元件的物体漫射图像信号输入至信号处理单元，而...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：林佑介，
申请(专利权)人：京瓷株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]