限流结构、分水器及单晶炉的水排系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种限流结构、分水器及单晶炉的水排系统，所述限流结构包括：限流件，限流件具有用于液体流动的第一通道，第一通道内设有封堵件，封堵件的外周壁与第一通道的内周壁连接，封堵件上设有多个间隔开的限流孔；调节柱，调节柱为多个，每个限流孔内均可选择的设置调节柱以封堵限流孔。根据本实用新型专利技术的限流结构，通过控制调节柱封堵限流孔的数量，从而控制从封堵件流出的液体流量，进而控制第一通道的出口流出的液体流量。同时，通过限流件和调节柱的设置有效保证从第一通道的出口流出的液体流量稳定。另外，可以根据需求精准调整限流结构流出的液体流量，且结构简单，操作方便，具有较高的可靠性。具有较高的可靠性。具有较高的可靠性。

【技术实现步骤摘要】
限流结构、分水器及单晶炉的水排系统


[0001]本技术涉及晶体生长
，尤其是涉及一种限流结构、分水器及单晶炉的水排系统。

技术介绍

[0002]晶体需在持续高温环境下生长，通常通过冷却液流经单晶炉腔体的夹层将多余热量带走，从而完成对作业人员及单晶炉本身的保护，由于单晶炉自身部件众多需针对各个部件分别进行降温处理，一般通过设置分水器分别实现对各个部件进行降温。在相关技术中，所用的分水器大多为多通并联、外加水阀的设计，该分水器的设计在一般的产品下完全满足需求，但是对于晶体生长设备及其晶体生长工艺要求较为严格的设备来说就显得有些粗犷，比如半导体晶体生长炉，冷却水流量的大小对炉内温度影响较为严重，若水流量不太稳定而时大时小，会影响到单晶炉内的温度不稳定，进而对炉内晶体的良率造成较大的影响。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种限流结构，所述限流结构流出的液体流量稳定。
[0004]本技术还提出一种分水器，所述分水器包括上述的限流结构。
[0005]本技术还提出一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种限流结构，其特征在于，包括：限流件，所述限流件具有用于液体流动的第一通道，所述第一通道内设有封堵件，所述封堵件的外周壁与所述第一通道的内周壁连接，所述封堵件上设有多个间隔开的限流孔；调节柱，所述调节柱为多个，每个所述限流孔内均可选择的设置所述调节柱以封堵所述限流孔。2.根据权利要求1所述的限流结构，其特征在于，所述封堵件的一端设有多个间隔开的安装槽，每个所述安装槽的底壁上均设有一个所述限流孔，所述安装槽的横截面积大于所述限流孔的横截面积，所述调节柱的一端设有限位部，所述限位部的横截面积大于所述限流孔的横截面积，所述限位部设于所述安装槽内。3.根据权利要求2所述的限流结构，其特征在于，还包括：盖板，所述盖板设于所述第一通道内且位于所述封堵件的设有所述安装槽的一侧，所述盖板与所述封堵件贴合，所述盖板上设有与多个所述安装槽一一对应且连通的通孔。4.根据权利要求3所述的限流结构，其特征在于，所述盖板和所述封堵件中的一个上设有定位柱，另一个上设有与所述定位柱配合的定位孔，所述定位柱或所述定位孔与所述第一通道的轴线偏心设置。5.根据权利要求1所述的限流结构，其特征在于，所述封...

【专利技术属性】
技术研发人员：颜子棋，李向阳，
申请(专利权)人：徐州鑫晶半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：