改良型PVD镀膜转架结构制造技术

本发明专利技术公开了一种改良型PVD镀膜转架结构，转架安装在镀膜腔体内，其包括两转盘，两转盘间圆周方向设置多个挂架杆，用于安放镀件的挂架，形成镀膜工位；对应各镀膜工位远离靶材的方向，在转盘上开设有呈半包状设置的调节滑槽，在调节滑槽内活动设置有可调挡板，可调挡板包括若干转动连接的挡板，挡板高度与两转盘的间距相适应，相邻挡板间通过活动轴连接，且活动轴可适应性延挡板轴向滑动，以使得活动轴可穿设至调节滑槽内定位并与调节滑槽错开时可收缩至挡板内。本发明专利技术的改良型PVD镀膜转架结构，通过在转盘上设置调节滑槽，同时采用可转动并在调节滑槽内滑动限位的挡板，可形成不同尺寸形状的挡板。同尺寸形状的挡板。同尺寸形状的挡板。

【技术实现步骤摘要】
改良型PVD镀膜转架结构


[0001]本专利技术涉及PVD镀膜设备
，尤其涉及一种改良型PVD镀膜转架结构。

技术介绍

[0002]物理气相沉积(PVD)是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理气相沉积镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
[0003]其中，对于真空离子镀膜，是借助于惰性气体辉光放电，使镀料(如金属钛)气化蒸发离子化，离子经电场加速，以较高能量轰击工件表面，形成镀层。
[0004]一般待加工的工件是挂设在镀膜挂架(镀膜杆)上，挂架则安设在转架上。镀膜过程中，转架旋转带动被镀工件在镀膜腔体内旋转，旋转的工件绕经安设在腔体侧面的靶材附近时，靶材粒子沉积到工件表面进行镀膜。
[0005]但是离子镀，靶材一般设置于腔体侧面，镀件随着转架圆周转动过程中，绕经靶材附近时，即接近和远离靶材的过程，工件一直暴露在靶材溅射范围，这样沉积在工件表面的膜层的膜厚无法精准控制，膜厚不均匀。因此现有技术采用在转架的转盘上设置挡板的方式，如专利号CN20本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种改良型PVD镀膜转架结构，转架安装在镀膜腔体内，其包括两转盘，两转盘间圆周方向设置多个挂架杆，用于安放镀件的挂架，形成镀膜工位；其特征在于：对应各镀膜工位远离靶材的方向，在转盘上开设有呈半包状设置的调节滑槽，在调节滑槽内活动设置有可调挡板，可调挡板包括若干转动连接的挡板，挡板高度与两转盘的间距相适应，相邻挡板间通过活动轴连接，且活动轴可适应性延挡板轴向滑动，以使得活动轴可穿设至调节滑槽内定位并与调节滑槽错开时可收缩至挡板内。2.根据权利要求1所述的改良型PVD镀膜转架结构，其特征在于：调节滑槽包括设置在挂架杆内侧的横向设置的滑槽和设置在挂架杆两侧外扩的滑槽二，滑槽二延伸至相邻挂架杆的中部位置，以形成半开合式槽体，便于后续挡板形成半包围结构。3.根据权利要求2所述的改良型PVD镀膜转架结构，其特征在于：在滑槽二的末端还连通有相对滑槽二内折的滑槽三。4.根据权利要求3所述的改良型PVD镀膜转架结构，其特征在于：滑槽三延伸至转盘的侧边部分。5.根据权利要求1

【专利技术属性】
技术研发人员：彭苏红，廖勇，祝恒，
申请(专利权)人：浙江海量纳米科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：