一种基于有限元分析的PVDC涂布方法、电子设备及系统技术方案

本发明专利技术公开了一种基于有限元分析的PVDC涂布方法、电子设备及系统，包括如下步骤：先基于有限元分析方法模拟涂布过程，针对于不同的涂布标准，基于不同的涂布参数获取到不同的涂层质量；然后建立BP网络模型，并对BP网络模型训练；再基于训练后的BP网络模型，根据不同的涂布标准，对涂层质量进行寻优，并基于涂布标准、涂布参数以及涂层质量建立数据库；最后根据待涂布材料的涂布标准匹配数据库中的涂布参数，并基于涂布参数进行涂布，本方法采用有限元分析的方式模拟涂布过程，并建立相关数据库，在进行实际涂布工艺时，基于实际的涂布标准确定涂布参数，能够实现涂布参数的智能匹配，从而达到提高涂布效率，保证涂层质量的目的。的。的。

【技术实现步骤摘要】
一种基于有限元分析的PVDC涂布方法、电子设备及系统


[0001]本专利技术涉及复合包装材料生产领域，更进一步的，涉及一种基于有限元分析的PVDC涂布方法、电子设备及系统。

技术介绍

[0002]PVDC涂布膜又称PVDC涂复膜、涂覆膜、涂敷膜，简称K膜，即KOP(含消光KOP)、KPET、KPA、KCPP、KCPE等涂布薄膜。K膜是使用专用设备在各种薄膜材料上涂布一层或多层聚偏二氯乙烯(PVDC)胶乳，从而得到高阻隔性能的薄膜。其优异的阻隔性能主要表现在能成百上千倍地降低氧气透过量，从而大幅度提高了保质期、保香性、保鲜性、耐油性等。而且具有同普通薄膜一样的印刷性能、复合性能，根据需要也可具备双面热封性能(热封强度为≥0.8N/15mm)。
[0003]PVDC涂布膜的阻隔能力除了与涂层厚度有直接关系外，还与涂布质量有关。在现有进行涂布工艺时，需要根据涂层厚度确定涂布参数，涂布参数会直接影响涂布质量，目前，针对于相关参数的设置，通常是直接根据涂层厚度进行相关工艺参数的查询以及人工设置，在保证了涂层厚度的前提下，可能并未达到最优的涂层质量。
[0004]有鉴于此，特此提出本申请。

技术实现思路

[0005]针对于上述问题，本专利技术提供了一种基于有限元分析的PVDC涂布方法、电子设备及系统，采用有限元分析的方式模拟涂布过程，针对于不同的涂布标准，基于不同的涂布参数获取到不同的涂层质量；并基于此建立BP网络模型，通过对BP网络模型进行训练实现数据库的建立，在进行实际涂布工艺时，基于实际的涂布标准确定涂布参数，能够实现涂布参数的智能匹配，从而达到提高涂布效率，保证涂层质量的目的。
[0006]为实现上述专利技术目的，本专利技术提供以下技术方案：
[0007]第一方面
[0008]本专利技术实施例提供了一种基于有限元分析的PVDC涂布方法，包括如下步骤：
[0009]S1、基于有限元分析方法模拟涂布过程，针对于不同的涂布标准，基于不同的涂布参数获取到不同的涂层质量；
[0010]S2、建立BP网络模型，并对BP网络模型训练；
[0011]S3、基于训练后的BP网络模型，根据不同的涂布标准，对涂层质量进行寻优，并基于涂布标准、涂布参数以及涂层质量建立数据库；
[0012]S4、根据待涂布材料的涂布标准匹配数据库中的涂布参数，并基于涂布参数进行涂布。
[0013]在本方案中，基于有限元分析的方式，模拟涂布过程，并获取涂布标准、涂布参数、涂层质量之间的对应数据，基于不同的数据建立BP网络模型并进行训练，针对于训练后的网络模型，通过针对于不同的涂布标准，寻找并匹配最优涂层质量的涂布参数，并基于该涂
布参数进行涂布，通过本方法的使用，基于有限元的分析手段，模拟涂布过程，能够有效的交底实验成本，形成大数据的样本数据，对样本数据进行训练，保证数据的准确性，并基于训练后的数据建立数据库，并实现对应的涂布参数的快速匹配，达到提高涂布效率，保证涂层质量的目的。
[0014]进一步的，所述涂布标准包括涂层厚度、涂层宽度、基膜材质。
[0015]进一步的，所述涂布参数包括乳胶浓度、涂布辊转速以及固化温度。
[0016]进一步的，在步骤S1中，基于有限元分析方法模拟涂布过程，建立涂布模型，将所述涂布标准以及所述涂布参数作为输入参数；形成的涂层质量作为输出参数。
[0017]进一步的，在步骤S2中，建立BP网络模型，所述输入层输入数据为涂布标准以及涂布参数，所述输出层输出参数为涂层质量。
[0018]进一步的，还包括步骤S5、基于步骤S4确定的涂布参数进行涂布，并基于该涂布参数获取第一涂层质量，确定第一涂层质量与最优涂层质量之间的差距，并调整涂布参数缩小第一涂层质量与最优涂层质量之间的差距。
[0019]进一步的，所述步骤S5具体包括如下步骤：
[0020]S51、基于训练BP网络模型，在确定涂布标准的前提下，获取其中涂布参数与涂层质量的变化规律；
[0021]S52、基于变化规律，对涂布参数进行调整，并获取调整后的涂层质量，基于调整后的涂层质量、第一涂层质量以及最优涂层质量确定是否需要继续调整。
[0022]第二方面
[0023]本专利技术实施例还提供了一种电子设备，包括处理器、网络接口和存储器，所述处理器、所述网络接口和所述存储器相互连接，其中，所述存储器用于存储计算机程序，所述计算机程序包括程序指令，所述处理器被配置用于调用所述程序指令，执行如上述的一种基于有限元分析的PVDC涂布方法。
[0024]第三方面
[0025]本专利技术实施例还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被执行时实现如上述的一种基于有限元分析的PVDC涂布方法的步骤。
[0026]第四方面
[0027]本专利技术实施例还提供了一种基于有限元分析的PVDC涂布系统，包括：
[0028]模拟模块：所述模拟模块用于模拟涂布过程，针对于不同的涂布标准，基于不同的涂布参数获取到不同的涂层质量；
[0029]神经网络建立与训练模块：所述神经网络建立与训练模块用于建立BP网络模型，并对BP网络模型训练；
[0030]数据库建立与存储模块：所述数据库建立与存储模块用于基于训练后的BP网络模型，根据不同的涂布标准，对涂层质量进行寻优，并基于涂布标准、涂布参数以及涂层质量建立数据库；
[0031]控制模块：所述控制模块用于根据待涂布材料的涂布标准匹配数据库中的涂布参数，并基于涂布参数进行涂布。
[0032]本专利技术与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：
[0033]本专利技术实施例涉及的一种基于有限元分析的PVDC涂布方法、电子设备及系统，基于有限元分析的方式，模拟涂布过程，并获取涂布标准、涂布参数、涂层质量之间的对应数据，基于不同的数据建立BP网络模型并进行训练，针对于训练后的网络模型，通过针对于不同的涂布标准，寻找并匹配最优涂层质量的涂布参数，并基于该涂布参数进行涂布，通过本方法的使用，基于有限元的分析手段，模拟涂布过程，能够有效的交底实验成本，形成大数据的样本数据，对样本数据进行训练，保证数据的准确性，并基于训练后的数据建立数据库，并实现对应的涂布参数的快速匹配，达到提高涂布效率，保证涂层质量的目的。
附图说明
[0034]附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本专利技术的实施例一起用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。
[0035]图1为本专利技术实施例提供的一种基于有限元分析的PVDC涂布方法的流程图；
[0036]图2为本专利技术另一个实施例提供的涂布方法的逻辑图；
[0037]图3为本专利技术实施例提供电子设备的结构示意图。
具体实施方式
[0038]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于有限元分析的PVDC涂布方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、基于有限元分析方法模拟涂布过程，针对于不同的涂布标准，基于不同的涂布参数获取到不同的涂层质量；S2、建立BP网络模型，并对BP网络模型训练；S3、基于训练后的BP网络模型，根据不同的涂布标准，对涂层质量进行寻优，并基于涂布标准、涂布参数以及涂层质量建立参数数据库；S4、根据待涂布材料的涂布标准匹配数据库中的涂布参数，并基于涂布参数进行涂布。2.根据权利要求1所述的一种基于有限元分析的PVDC涂布方法，其特征在于，所述涂布标准包括涂层厚度、涂层宽度、基膜材质。3.根据权利要求1所述的一种基于有限元分析的PVDC涂布方法，其特征在于，所述涂布参数包括乳胶浓度、涂布辊转速以及固化温度。4.根据权利要求1所述的一种基于有限元分析的PVDC涂布方法，其特征在于，在步骤S1中，基于有限元分析方法模拟涂布过程，建立涂布模型，将所述涂布标准以及所述涂布参数作为输入参数；形成的涂层质量作为输出参数。5.根据权利要求1所述的一种基于有限元分析的PVDC涂布方法，其特征在于，在步骤S2中，建立BP网络模型，所述输入层输入数据为涂布标准以及涂布参数，所述输出层输出参数为涂层质量。6.根据权利要求1
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5任一所述的一种基于有限元分析的PVDC涂布方法，其特征在于，还包括步骤S5、基于步骤S4确定的涂布参数进行涂布，并基于该涂布参数获取第一涂层质量，确定第一涂层质量与最优涂层质量之间的差距，并调整涂布参数缩小第一涂层质量与最优涂层质量之间的差距...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁祖坪，朱欣星，郑翔，袁代群，黄燕，
申请(专利权)人：四川汇利实业有限公司，
类型：发明
国别省市：