本实用新型专利技术公开了一种兼容硅片输送装置及检测装置，兼容硅片输送装置包括输送结构、导向结构和支撑结构，其中：输送结构包括支撑板和输送带，支撑板安装于支撑结构上，支撑板用于支撑输送带的输送面；导向结构安装于支撑结构上且位于支撑板下方，输送带绕经支撑板及导向结构上形成闭环，支撑板与绕经导向结构的输送带之间形成容置空间，容置空间用于容置检测设备，检测设备将激光束打至输送带上承载的硅片上。通过将输送带绕经导向结构形成容置空间，可以使输送带下方避开检测设备的激光束，便于对不同尺寸的硅片进行检测。检测装置包括硅片检测机构，通过调节机构可以调整检测组件的横向位置，便于适应不同尺寸硅片的检测工作。作。作。
【技术实现步骤摘要】
一种兼容硅片输送装置及检测装置
[0001]本技术属于电池制造
，尤其涉及一种兼容硅片输送装置及检测装置。
技术介绍
[0002]随着硅片尺寸的不断变化，市场上的整片尺寸有166mm*166mm、182mm*182mm、210mm*210mm、230mm*230mm等不同尺寸，随着硅片尺寸的不断丰富多样化以及半片硅片、三分之硅片等多分片的出现，在对硅片进行厚度检测时，当前的硅片输送装置无法兼容这些不同尺寸的硅片。
[0003]现有技术中，厚度检测所对应的皮带只有两条，但是当兼容多分片至整片时，在设置四条皮带的情况下，输送带安装密度较紧凑，会阻挡检测设备激光器发射的激光路径，导致激光不能正常达到硅片表面，影响检测结果。
技术实现思路
[0004]为了解决相关技术中的问题，本申请提供了一种兼容硅片输送装置及检测装置可以在紧凑的安装模式下，不会对激光器发射的激光产生干涉。
[0005]技术方案如下：
[0006]第一方面，本申请提出了一种兼容硅片输送装置，兼容硅片输送装置包括输送结构、导向结构和支撑结构，其中：输送结构包括支撑板和输送带，支撑板安装于支撑结构上，支撑板用于支撑输送带的输送面；导向结构安装于支撑结构上且位于支撑板下方，输送带绕经支撑板及导向结构上形成闭环，支撑板与绕经导向结构的输送带之间形成容置空间，容置空间用于容置检测设备，检测设备将激光束打至输送带上承载的硅片上。
[0007]通过将输送带绕经导向结构形成容置空间，可以使输送带下方避开检测设备的激光束，便于对不同尺寸的硅片进行检测。
[0008]可选的，输送带包括第一输送带、第二输送带、第三输送带和第四输送带，其中：第三输送带、第一输送带、第二输送带和第四输送带并列间隔设置；第一输送带和第二输送带被配置为输送第一类硅片，第一类硅片沿输送方向的边长大于垂直于输送方向的边长；第三输送带和第四输送带被配置为输送第二类硅片，第二类硅片沿输送方向的边长小于或等于垂直于输送方向的边长。
[0009]设置多组并排的输送带可以适应多种尺寸的硅片，在兼容不同尺寸规格的硅片时，可选择不同的输送带组合完成对硅片的输送。
[0010]可选的，导向结构包括第一导向轮、第二导向轮、第三导向轮和第四导向轮，其中：第一导向轮和第二导向轮对向设于支撑板下方；第三导向轮设于第一导向轮的斜下方，第四导向轮设于第二导向轮的斜下方；输送带依次绕经第一导向轮、第三导向轮、第四导向轮和第二导向轮；支撑板与绕经第一导向轮、第三导向轮、第四导向轮和第二导向轮的输送带之间形成容置空间；容置空间设于输送带的输送面下方。
[0011]通过多组导向轮引导输送带避开支撑板，并形成容置空间用于容纳检测设备，避免输送带对检测的激光光路造成阻挡。
[0012]可选的，支撑板上设置有避让槽，其中：避让槽沿激光束的激光光路方向开设，激光束从避让槽的第一端进入避让槽，并从避让槽的第二端打至输送带上承载的硅片上。
[0013]设置避让槽可以在支撑板上形成避让区域，避免支撑板过厚的部分对检测用的激光光路产生阻挡。
[0014]可选的，在避让槽的第一端到避让槽的第二端的方向上，避让槽的槽口尺寸逐渐增加。
[0015]避让槽采用此种结构可以增大避让空间，同时便于开设加工。
[0016]可选的，支撑板包括第一支撑板和第二支撑板，第一支撑板和第二支撑板位于同一水平面上；支撑结构安装有调整架，调整架设有可调节安装位置的调整轮，输送带绕经调整轮；第二支撑板可朝向或远离第一支撑板安装，或者，第二支撑板可朝向或远离第一支撑板运动，以改变输送带的输送面的长度；调整轮用于补偿输送带的输送面长度变化量。
[0017]通过调节第一支撑板和第二支撑板之间的距离从而改变输送带的输送面的长度，根据所输送硅片的尺寸大小，可相应的延长或者收缩输送面的长度，从而更好的与后道设备的衔接。
[0018]可选的，兼容硅片输送装置还包括固定支撑板、第一调节支撑板和第二调节支撑板，第一调节支撑板和第二调节支撑板分别设于固定支撑板两侧，第一输送带和第二输送带安装于固定支撑板，第三输送带安装于第一调节支撑板，第四输送带安装于第二调节支撑板；第一调节支撑板和第二调节支撑板可升降式安装于支撑结构；第一调节支撑板用于调节第三输送带的高度；第二调节支撑板用于调节第四输送带的高度。
[0019]设置可升降的第一调节支撑板和第二调节支撑板可以改变第三输送带和第四输送带的高度，进一步改善激光光路受到的阻挡效果，提高检测适用性。
[0020]可选的，输送结构还包括驱动装置、第一补偿组件和第二补偿组件，驱动装置的驱动端与第一输送带和第二输送带传动连接；第一输送带绕经第一补偿组件，第一补偿组件经第一输送带与第三输送带传动连接；第二输送带绕经第二补偿组件，第二补偿组件经第二输送带与第四输送带传动连接；第一调节支撑板和第二调节支撑板在升降时分别带动第一补偿组件和第二补偿组件同步升降，以带动第一输送带的补偿段和第二输送带的补偿段进行升降；第一输送带的补偿段为绕经第一补偿组件的部分；第二输送带的补偿段为绕经第二补偿组件的部分。
[0021]通过设置第一补偿组件和第二补偿组件可以在第三输送带和第四输送带调节高度时对第一输送带和第二输送带提供长度补偿。
[0022]第二方面，本申请提出了一种检测装置，检测装置包括硅片检测机构和兼容硅片输送装置，其中：硅片检测机构包括第一检测组件、第二检测组件、第三检测组件、第四检测组件、立板、第一调节机构和第二调节机构；第一检测组件和第二检测组件滑动安装在立板的第一侧；第三检测组件和第四检测组件滑动安装在立板的与第一侧相对的第二侧；第一调节机构安装于立板的第一侧，第一调节机构用于同步调节第一检测组件和第二检测组件朝向或远离输送带；第二调节机构安装于立板的第二侧，第二调节机构用于同步调节第三检测组件和第四检测组件朝向或远离输送带。
[0023]通过调节机构可以调整检测组件的横向位置，便于适应不同尺寸硅片的检测工作。
[0024]可选的，检测装置还包括第一滑板和第二滑板，第一检测组件和第二检测组件固定安装在第一滑板上，第一滑板滑动安装在立板上；第三检测组件和第四检测组件固定安装在第二滑板上，第二滑板滑动安装在立板上；第一调节机构和第二调节机构的结构相同，均包括调节螺栓，调节螺栓的第一端固定连接第一滑板或第二滑板，调节螺栓的第二端螺纹连接立板。
[0025]通过旋动调节螺栓推动第一滑板和第二滑板，从而带动四组检测组件移动，可以方便且精确调整检测组件的检测位置。
[0026]应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本技术。
附图说明
[0027]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本技术的实施例，并与说明书一起用于解释本技术的原理。
[0028]图1为本技术的输送装置结构示意图；
[0029]图2为本技术的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种兼容硅片输送装置，其特征在于，所述兼容硅片输送装置包括输送结构、导向结构和支撑结构，其中：所述输送结构包括支撑板和输送带，所述支撑板安装于所述支撑结构上，所述支撑板用于支撑所述输送带的输送面；所述导向结构安装于所述支撑结构上且位于所述支撑板下方，所述输送带绕经所述支撑板及所述导向结构上形成闭环，所述支撑板与绕经所述导向结构的输送带之间形成容置空间，所述容置空间用于容置检测设备，所述检测设备将激光束打至所述输送带上承载的硅片上。2.根据权利要求1所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，所述输送带包括第一输送带、第二输送带、第三输送带和第四输送带，其中：所述第三输送带、所述第一输送带、所述第二输送带和所述第四输送带并列间隔设置；所述第一输送带和所述第二输送带被配置为输送第一类硅片，所述第一类硅片沿输送方向的边长大于垂直于输送方向的边长；所述第三输送带和所述第四输送带被配置为输送第二类硅片，所述第二类硅片沿输送方向的边长小于或等于垂直于输送方向的边长。3.根据权利要求1所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，所述导向结构包括第一导向轮、第二导向轮、第三导向轮和第四导向轮，其中：所述第一导向轮和所述第二导向轮对向设于所述支撑板下方；所述第三导向轮设于所述第一导向轮的斜下方，所述第四导向轮设于所述第二导向轮的斜下方；所述输送带依次绕经所述第一导向轮、所述第三导向轮、所述第四导向轮和所述第二导向轮；所述支撑板与绕经所述第一导向轮、所述第三导向轮、所述第四导向轮和所述第二导向轮的所述输送带之间形成容置空间；所述容置空间设于所述输送带的输送面下方。4.根据权利要求1所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，所述支撑板上设置有避让槽，其中：所述避让槽沿所述激光束的激光光路方向开设，所述激光束从所述避让槽的第一端进入所述避让槽，并从所述避让槽的第二端打至所述输送带上承载的硅片上。5.根据权利要求4所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，在所述避让槽的第一端到所述避让槽的第二端的方向上，所述避让槽的槽口尺寸逐渐增加。6.根据权利要求1所述的兼容硅片输送装置，其特征在于，所述支撑板包括第一支撑板和第二支撑板，所述第一支撑板和所述第二支撑板位于同一水平面上；所述支撑结构安装有调整架，所述调整架设有可调节安装位置的调整轮，所述输送带绕经所述调整轮；所述第二支撑板可朝向或远离所述第一支撑板安装，或者，所述第二支撑板可朝向或远离所述第一支撑板运动，以改变所述输送带的输送面的长度；所述调整轮用于补偿所述输送带的输送面长度变化量。7.根据权利要求2所述的兼容硅片输送装置...
【专利技术属性】
技术研发人员：李泽通，李昶，顾晓奕，徐飞，韩杰，薛冬冬，卞海峰，
申请(专利权)人：无锡奥特维科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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