一种微透镜阵列的制备方法及其微透镜阵列、应用技术

本发明专利技术提供了一种微透镜阵列的制备方法及其微透镜阵列、应用，涉及光电器件技术领域；该制备方法包括：在基板上形成第一压印胶层；利用压印、刻蚀工艺将纳米压印模板上的图案转移到基板上，形成阵列的微透镜单元；去除第一压印胶层，获取阵列的微透镜单元；在阵列的微透镜单元表面形成介质层，得到所需的微透镜阵列；其中，介质层的厚度和材料根据微透镜阵列应用的器件的焦距和/或折射率的需求获取；刻蚀工艺中，根据待得到的微透镜单元的底面直径D与中心厚度d与的比值，调整刻蚀工艺中所采用的处理气体中卤化氢和和氟化物的比例。本申请还提供一种微透镜阵列。本申请提供的微透镜阵列的制备方法及其微透镜阵列精度高，参数灵活可调。可调。可调。

【技术实现步骤摘要】
一种微透镜阵列的制备方法及其微透镜阵列、应用


[0001]本专利技术涉及光电器件制备方法的
，尤其是涉及一种微透镜阵列的制备方法及其微透镜阵列、应用。

技术介绍

[0002]微纳结构是指人为设计的、具有微米或纳米尺度特征尺寸、按照特定方式排布的功能结构。随着第三代光学成像技术向集成化、轻量化、超大口径发展，传统折反式光学系统面临着诸多瓶颈，而微纳结构光学元件具有重量轻、设计自由度高、结构灵活等特点，在成像领域展现出显著优势。
[0003]微透镜及微透镜阵列作为一种非常重要的微纳结构光学元器件，通过精确控制微透镜分布，焦距，占空比，数值孔径等参数可以实现对光束的有效调制满足消费者的需求。通过有效控制的微透镜的参数得到的微透镜可以广泛应用于光电子及半导体检测领域，具有良好的应用前景。
[0004]而目前用于制备微透镜阵列的平面工艺离子交换法、光敏玻璃法、全息法、菲涅尔波带透镜法、光刻胶热熔融法等因为误差较大、精度难以控制、工序复杂等问题均难以实现批量化生产。为了解决这一技术问题，近年来提出了一种微透镜阵列的新的制备方法，该方法本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微透镜阵列的制备方法，其特征在于，包括：提供基板、具有微透镜阵列图案或具有微透镜阵列反向图案的纳米压印模板；在所述基板上形成第一压印胶层；利用压印工艺将所述微透镜阵列图案转移到所述第一压印胶层上，或者利用压印工艺将所述微透镜阵列反向图案反向转移到所述第一压印胶层上；利用刻蚀工艺将所述第一压印胶层上的图案转移到所述基板上，形成阵列的微透镜单元；在所述阵列的微透镜单元表面形成介质层，得到所需的微透镜阵列；其中，所述介质层的厚度和材料根据所述微透镜阵列应用的器件的焦距和/或折射率的需求获取；其中，所述刻蚀工艺中，根据待得到的所述微透镜阵列的微透镜单元的底面直径D与中心厚度d与的比值，调整所述刻蚀工艺中所采用的处理气体中卤化氢和氟化物的比例，得到所需的微透镜阵列。2.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制备方法，其特征在于，调整所述刻蚀工艺中所采用的处理气体的比例包括：当D/d≥20时，所述卤化氢和所述氟化物的比例的体积比为1：4.5~8；当8≤D/d＜20时，所述卤化氢和所述氟化物的比例的体积比为1：3.5~5；当2<D/d＜8时，所述卤化氢和所述氟化物的比例的体积比为1：2~4。3.根据权利要求2所述的微透镜阵列的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括，在所述刻蚀工艺中，根据待得到的所述微透镜阵列的微透镜单元的底面直径D与中心厚度d与的比值，调整进行所述刻蚀工艺的设备的偏振功率：当D/d≥20时，进行所述刻蚀工艺的设备的偏振功率为150~300W；当8≤D/d＜20时，进行所述刻蚀工艺的设备的偏振功率为80~150W；当D/d＜8时，进行所述刻蚀工艺的设备的偏振功率为0~100W。4.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制备方法，其特征在于，利用压印工艺将所述微透镜阵列图案转移到所述第一压印胶层上，包括：提供转移版，所述转移版的表面设置有第二压印胶层；利用所述具有微透镜阵列图案的纳米压印模板在所述转移版上进行压印，将所述微透镜阵列图案反向转移到所述转移版上，得到反向转移版；利用所述反向转移版在所述第一压印胶层上进行压印，将所述微透镜阵列的图案转移到所述第一压印胶层上；利用刻蚀工艺将所述第一压印胶层上的图案转移到所述基板上，包括：以...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭轲科，林政勋，
申请(专利权)人：无锡邑文电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：