【技术实现步骤摘要】
ICP设备
[0001]本专利技术涉及电感耦合等离子体镀膜
,特别是涉及ICP设备。
技术介绍
[0002]传统的ICP(电感耦合等离子体)设备包括腔体与ICP供气装置。其中,ICP供气装置固定于腔体内且将工艺气体供给至腔体内部。当腔体内形成感应电场时,分布于腔体内的工艺气体在感应电场的电感耦合作用下形成等离子体,并对位于腔体内的产品表面进行薄膜沉积和/或表面刻蚀,以形成对应的膜层。
[0003]然而,目前的ICP设备在对产品进行镀膜时,产品表面的膜层质量不佳。
技术实现思路
[0004]基于此,有必要针对产品表面的膜层质量不佳的问题,提供一种ICP设备。
[0005]一种ICP设备,包括:
[0006]腔体,具有工件位与电感位;及
[0007]排气筏板,活动设置于腔体内,所述排气筏板内部设置供气通道,所述供气通道具有多个出气口;所述排气筏板可相对腔体平移,以改变所述排气筏板的各所述出气口与所述工件位、所述电感位之间的距离;所述排气筏板可沿其长度方向转动,以改变所述排气筏 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种ICP设备,其特征在于,包括:腔体,具有工件位与电感位;及排气筏板,活动设置于腔体内,所述排气筏板内部设置供气通道,所述供气通道具有多个出气口;所述排气筏板可相对腔体平移,以改变所述排气筏板的各所述出气口与所述工件位、所述电感位之间的距离;所述排气筏板可沿其长度方向转动,以改变所述排气筏板的各所述出气口与所述工件位、所述电感位之间的角度。2.根据权利要求1所述的ICP设备,其特征在于,所述排气筏板沿圆弧路径相对所述腔体平移。3.根据权利要求1所述的ICP设备,其特征在于,还包括调节管,所述调节管的一端与所述腔体连接,所述调节管的另一端与所述排气筏板连接,所述调节管可相对所述腔体弯折。4.根据权利要求3所述的ICP设备,其特征在于,还包括下述方案中的至少一个:所述调节管的至少部分呈波纹状;所述调节管具有气流通道,所述气流通道与所述供气通道连通。5.根据权利要求1所述的ICP设备,其特征在于,所述排气筏板包括两个可拆卸设置的板体,两个所述板体均设置有供气槽,当两个所述板体连接时,两个所述板体上的两个所述供气槽对齐以形成所述供气通道。6.根据权利要求1所述的ICP设备,其特征在于,所述供气通道包括多级分气路,任一所述分气路均具有一个进入端与两个排出端,所述分气路的两个所述排出端与所述进入端之间的距离相等;第一级所...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵成伟,邬文波,
申请(专利权)人:西实显示高新材料沈阳有限公司,
类型:发明
国别省市:
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