介质处理设备和用于介质处理设备的主逻辑板制造技术

本实用新型专利技术提供了介质处理设备和用于介质处理设备的主逻辑板。介质处理设备包括：壳体；盖，盖能够在打开位置和关闭位置之间旋转；主逻辑板(MLB)，主逻辑板支撑控制器，并且具有从MLB周边处的开口端延伸至MLB中的狭槽，狭槽从上表面到下表面横穿MLB；在狭槽的第一侧附接至MLB的接收器，以及在狭槽的第二侧附接至MLB的发射器，用于发射能够由接收器检测的辐射；以及可移动地耦接至壳体的突片，从而当盖处于打开位置和关闭位置中的第一位置时，突片阻挡狭槽并防止接收器检测辐射，并且当盖处于打开位置和关闭位置中的另一位置时，突片离开狭槽并允许接收器检测辐射。狭槽并允许接收器检测辐射。狭槽并允许接收器检测辐射。

【技术实现步骤摘要】
介质处理设备和用于介质处理设备的主逻辑板


[0001]本技术的实施例涉及介质处理设备和用于介质处理设备的主逻辑板。

技术介绍

[0002]诸如标签打印机的介质处理设备可以包括盖，例如，可以打开盖以进入设备内部、安装介质供应等。此类设备可以包括用于检测盖何时打开的传感器，例如以便中断介质处理，直到盖关闭。然而，这种传感器可能会增加设备的成本和复杂性。

技术实现思路

[0003]本技术的实施例为了解决现有技术中的问题，提供了一种改进的介质处理设备和用于介质处理设备的主逻辑板。
[0004]本技术的第一方面，提供了一种介质处理设备。介质处理设备，包括：壳体；盖，盖能够相对于壳体在打开位置和关闭位置之间旋转；主逻辑板MLB，主逻辑板MLB支撑控制器，并且具有从MLB周边处的开口端延伸至MLB中的狭槽，狭槽从上表面到下表面横穿MLB；传感器组件，包括：(i)在狭槽的第一侧上附接至MLB的接收器，以及(ii)在狭槽的第二侧上附接至MLB的发射器，发射器被配置为发射能够由接收器检测的辐射；以及可移动地耦接至壳体的突片，(i)当盖处于打开位置和关闭位置中的第一位置时，突片阻挡狭槽并防止接收器检测辐射，并且(ii)当盖处于打开位置和关闭位置中的另一位置时，突片离开狭槽并允许接收器检测辐射。
[0005]在一些实施例中，发射器和接收器位于MLB的上表面和下表面中的同一个表面上。
[0006]在一些实施例中，发射器包括发光二极管。
[0007]在一些实施例中，接收器包括光电晶体管。
[0008]在一些实施例中，位置中的第一位置是关闭位置。
[0009]在一些实施例中，MLB承载控制器；并且其中，接收器经由至少一个电路迹线连接至控制器。
[0010]在一些实施例中，狭槽是从MLB的边缘延伸至MLB中的矩形狭槽，矩形狭槽的垂直于边缘的长度大于平行于边缘的宽度。
[0011]在一些实施例中，接收器被配置为向控制器发送指示辐射是否被检测到的信号。
[0012]本技术的第二方面提供了一种用于介质处理设备的主逻辑板MLB。主逻辑板MLB包括：支撑构件，支撑构件具有上表面、相对的下表面和限定周边的多个边缘；从周边处的开口端延伸至支撑构件中的狭槽，狭槽从上表面到下表面横穿板，并且被配置为容纳可动突片；控制器，控制器附接至上表面和下表面中的一者；以及传感器组件，包括：(i)在狭槽的第一侧上附接至主板的接收器，以及(ii)在狭槽的第二侧上附接至主板的发射器，发射器被配置为发射能够由接收器检测的辐射；接收器被配置为基于接收器是否检测到辐射，向控制器发送指示狭槽是否被突片阻挡的信号。
[0013]在一些实施例中，还包括至少一个电路迹线，至少一个电路迹线与支撑构件集成
在一起，并且直接从接收器延伸以将接收器连接至控制器。
[0014]在一些实施例中，狭槽是从主板的边缘向内延伸的矩形狭槽，矩形狭槽的垂直于边缘的长度大于平行于边缘的宽度。
[0015]在一些实施例中，发射器包括发光二极管。
[0016]在一些实施例中，接收器包括光电晶体管。
附图说明
[0017]附图连同下面的详细描述一起被并入说明书中并且形成说明书的一部分，并且用于进一步说明包括所要求保护的专利技术的构思的实施例，并且用于解释这些实施例的各种原理和优点，在附图的所有单独视图中，相同的附图标记指代相同或功能上类似的元件。
[0018]图1是介质处理设备的等距视图。
[0019]图2是盖打开的图1的介质处理设备的等距视图。
[0020]图3是图1的介质处理设备的某些内部部件的等距视图。
[0021]图4是图1的介质处理设备的主逻辑板(MLB)和盖状态感测机构图。
[0022]图5A、图5B和图5C是图1的介质处理设备的闩锁感测机构的侧视图。
[0023]本领域技术人员将理解，附图中的元件是为了简单和清楚而示出的，并且不一定按比例绘制。例如，图中一些元件的尺寸可能相对于其它元件被放大，以帮助改善对本公开实施例的理解。
[0024]在附图中，已经在适当的地方用常规符号表示了装置和方法部件，附图中仅示出与理解本公开实施例有关的那些具体细节，以避免因那些对于受益于本说明书的本领域普通技术人员来说明显的细节而模糊本公开。
具体实施方式
[0025]本文公开的示例涉及一种介质处理设备，包括：壳体；盖，盖能够相对于壳体在打开位置和关闭位置之间旋转；主逻辑板(MLB)，主逻辑板支撑控制器，并且具有从MLB周边处的开口端延伸至MLB中的狭槽，狭槽从上表面到下表面横穿MLB；传感器组件，包括(i)在狭槽的第一侧附接至MLB的接收器，以及(ii)在狭槽的第二侧附接至MLB的发射器，发射器被配置为发射能够由接收器检测的辐射；以及可移动地耦接至壳体的突片，从而(i)当盖处于打开位置和关闭位置中的第一位置时，突片阻挡狭槽并防止接收器检测辐射，并且(ii)当盖处于打开位置和关闭位置中的另一位置时，突片离开(clear)狭槽并允许接收器检测辐射。
[0026]本文公开的附加示例涉及一种用于介质处理设备的主逻辑板(MLB)，该MLB包括：支撑构件，支撑构件具有上表面、相对的下表面和限定周边的多个边缘；从周边处的开口端延伸至支撑构件中的狭槽，狭槽从上表面到下表面横穿板并且被配置为容纳可动突片；控制器，控制器附接至上表面和下表面中的一者；以及传感器组件，包括(i)在狭槽的第一侧附接至主板的接收器，以及(ii)在狭槽的第二侧附接至主板的发射器，发射器被配置为发射能够由接收器检测的辐射；接收器被配置为基于接收器是否检测到辐射，向控制器发送指示狭槽是否被突片阻挡的信号。
[0027]图1示出介质处理设备100，诸如用于生成标签、收据等的便携式打印机。设备100
包括壳体104，壳体104限定容纳介质供应(诸如标签卷、纸张等)的罩壳，并且还容纳设备100的各种其它部件，诸如辊、马达等，以通过任何适当技术(例如热敏打印、墨水等)操纵介质并向介质施加标记。
[0028]可以经由盖108进入上述罩壳，盖108耦接至壳体104并且能够相对于壳体104沿方向112旋转，以打开并允许进入罩壳。盖108还能够沿与方向112相反的方向移动，以返回所示的关闭位置。如下面将讨论的，盖108可以通过闩锁机构保持在关闭位置，该闩锁机构可以通过致动器116释放，从而能够打开盖108。致动器116能够沿方向120滑动以解锁盖108并允许盖108打开。对于本领域技术人员来说明显的是，可以采用各种其它闩锁和释放机构来允许或防止盖108打开。
[0029]图2示出设备100，其中，盖108处于打开位置，露出上述罩壳200。如将在本文中更详细地描述的，设备100还包括感测机构，用于检测盖108是处于图1所示的关闭位置还是处于图2所示的打开位置。对于本领域技术人员来说明显的是，盖108的状态可以用于由设备100采取的各种控制动作。例如，当盖108打开本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种介质处理设备，其特征在于，包括：壳体；盖，所述盖能够相对于所述壳体在打开位置和关闭位置之间旋转；主逻辑板，所述主逻辑板支撑控制器，并且具有从所述主逻辑板周边处的开口端延伸至所述主逻辑板中的狭槽，所述狭槽从上表面到下表面横穿所述主逻辑板；传感器组件，包括：(i)在所述狭槽的第一侧上附接至所述主逻辑板的接收器，以及(ii)在所述狭槽的第二侧上附接至所述主逻辑板的发射器，所述发射器被配置为发射能够由所述接收器检测的辐射；以及可移动地耦接至所述壳体的突片，(i)当所述盖处于所述打开位置和所述关闭位置中的第一位置时，所述突片阻挡所述狭槽并防止所述接收器检测所述辐射，并且(ii)当所述盖处于所述打开位置和所述关闭位置中的另一位置时，所述突片离开所述狭槽并允许所述接收器检测所述辐射。2.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述发射器和所述接收器位于所述主逻辑板的所述上表面和下表面中的同一个表面上。3.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述发射器包括发光二极管。4.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述接收器包括光电晶体管。5.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述位置中的所述第一位置是关闭位置。6.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述主逻辑板承载控制器；并且其中，所述接收器经由至少一个电路迹线连接至所述控制器。7.根据权利要求1所述的介质处理设备，其特征在于，所述狭槽是从所述主逻辑板的边缘延伸至所述主逻辑板中的矩形...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖焕华，袁云波，王忠桂，
申请(专利权)人：斑马技术公司，
类型：新型
国别省市：