【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种掩模制造方法,是在生成用于通过多次的扫描分别记录多种点的图像数据时使用的掩模图案的制造方法中,其特征在于包括:决定与上述多种点对应的多个掩模图案各自的记录允许像素的配置的决定步骤,其中上述决定步骤包含:确定记录允许像素的 配置,使得由上述多个掩模图案各自的记录允许像素的配置决定的低频成分在对应的多个掩模图案中同时减少的步骤。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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