一种陶瓷釉、陶瓷及其制备方法与应用技术

本发明专利技术公开了一种陶瓷釉、陶瓷及其制备方法与应用，涉及陶瓷技术领域，本发明专利技术的陶瓷釉由内至外为内层釉和外层釉，外层釉包括以下质量份的制备原料：10份第一高岭土、65份～75份氧化铝、7份～13份第二高岭土、1份～5份硅微粉和12份～17份硅酸锆。该陶瓷釉应用于陶瓷制备后，制得的陶瓷釉面均匀、光亮均匀、无开口气泡。外层釉的制备原料中，氧化铝的存在可以提高釉的耐温性，同时提高产品的哑光度，氧化铝过多会结板，过少会使釉面不均匀，或产生局部亮光；第一高岭土的存在可以提高釉浆的悬浮性，改善釉浆的可操作性；第二高岭土的存在可以带入部分氧化铝，其比直接加入氧化铝更温和，同时可以降低成本。同时可以降低成本。同时可以降低成本。

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷釉、陶瓷及其制备方法与应用


[0001]本专利技术属于陶瓷
，具体是一种陶瓷釉、陶瓷及其制备方法与应用。

技术介绍

[0002]陶瓷是陶器和瓷器的总称，是以粘土为主要原料以及各种天然矿物经过粉碎混炼、成型和煅烧制得的材料以及各种制品。陶瓷除了日用陶瓷外，还有用于观赏和收藏的艺术陶瓷。艺术陶瓷也可以称之为陶瓷艺术，为陶器艺术和瓷器艺术的总称。
[0003]目前，在陶瓷行业中，瓷坯的造型是优质产品的基础，釉料的调配使瓷器更加的耀眼夺目，同一造型的瓷坯，往往因釉面不同，而使消费者的视觉产生不同的影响。随着社会的进步及人们审美观的变化，对于陶瓷的艺术性、观赏性的要求也越来越高，因此需要新的工艺技术来提升艺术陶瓷的品质。
[0004]使用现有技术制成的陶瓷釉得到的陶瓷会出现釉面不均匀和釉面出现开口气泡等问题。很容易产生空心气泡，或不起褶皱，或易脱落，或不褶皱细碎不匀。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种陶瓷釉、陶瓷及其制备方法与应用，以解决上述
技术介绍
中提出的问题和缺陷的至少一个方面。
[0006]本专利技术第一方面提供了一种陶瓷釉，由内至外包括：内层釉和外层釉；
[0007]所述外层釉包括以下质量份的制备原料：
[0008]10份第一高岭土、65份～75份氧化铝、7份～13份第二高岭土、1份～5份硅微粉和12份～17份硅酸锆。
[0009]作为本专利技术进一步的方案：所述外层釉还包括0质量份～1.5质量份的色剂。
[0010]作为本专利技术进一步的方案：所述外层釉包括以下质量份的制备原料：
[0011]10份第一高岭土、66份～72份氧化铝、8份～11份第二高岭土、2份～4份硅微粉和12份～17份硅酸锆。
[0012]作为本专利技术进一步的方案：所述外层釉包括以下质量份的制备原料：
[0013]10份第一高岭土、70份～75份氧化铝、7份～13份第二高岭土、1份～5份硅微粉和12份～17份硅酸锆。
[0014]作为本专利技术进一步的方案：所述外层釉还包括0质量份～1.5质量份的色剂。
[0015]作为本专利技术进一步的方案：所述内层釉包括以下质量份的制备原料：
[0016]5份～10份熔块、15份～25份钾长石、5份～10份烧锌、8份～12份界牌泥、5份～15份方解石、17份～23份煅烧滑石、4份～8份硅灰石、3份～7份碳酸钡、5份～11份煅烧锂辉石、2份～5份氧化铝、7份～11份第二高岭土、1份～5份硅微粉、7份～15份石英、12份～17份硅酸锆和0份～1份色剂。第二高岭土是将第一高岭土在煅烧炉中烧结到一定的温度和时间。
[0017]作为本专利技术进一步的方案：所述外层釉包括以下质量份的制备原料：
[0018]6份～9份熔块、17份～22份钾长石、5份～10份烧锌、8份～12份界牌泥、8份～13份方解石、17份～23份煅烧滑石、4份～8份硅灰石、3份～7份碳酸钡、5份～11份煅烧锂辉石、2份～5份氧化铝、7份～11份第二高岭土、1份～5份硅微粉、7份～12份石英、12份～17份硅酸锆和0份～1份色剂。
[0019]作为本专利技术进一步的方案：所述外层釉包括以下质量份的制备原料：
[0020]7份～10份熔块、18份～23份钾长石、5份～10份烧锌、8份～12份界牌泥、7份～14份方解石、17份～23份煅烧滑石、4份～8份硅灰石、3份～7份碳酸钡、8份～11份煅烧锂辉石、2份～5份氧化铝、7份～11份第二高岭土、1份～5份硅微粉、7份～12份石英、12份～17份硅酸锆和0份～1份色剂。
[0021]作为本专利技术进一步的方案：所述第二高岭土的制备方法，由以下步骤组成：将所述第一高岭土煅烧。
[0022]作为本专利技术进一步的方案：所述第一高岭土煅烧的温度为1300℃～2000℃。
[0023]作为本专利技术进一步的方案：所述第一高岭土煅烧的时间为7h～24h。
[0024]作为本专利技术进一步的方案：所述色剂为钒锆黄或锆铁红中的至少一种。
[0025]本专利技术第二方面提供了一种陶瓷，所述陶瓷的制备原料包括陶瓷坯体和所述陶瓷釉。
[0026]作为本专利技术进一步的方案：所述陶瓷坯体的质量组成成分包括：65份～70份二氧化硅，18份～22份氧化铝，0份～1份氧化铁，0份～1份二氧化钛，0份～1份氧化钙，0份～1份氧化镁，1份～2份氧化钾，1份～3份氧化钠，5份～8份I.L。
[0027]为了制得更效果更佳的产物，本专利技术第三方面公开了一种陶瓷的制备方法，包括以下步骤：
[0028]S1、配置内层釉浆料和外层釉浆料；
[0029]S2、在陶瓷坯体上施所述内层釉浆料，得到第一陶瓷釉坯；所述内层釉浆料的施釉厚度为0.10mm～0.35mm；
[0030]S3、在第一陶瓷釉坯表面施所述外层釉浆料，得到第二陶瓷釉坯；
[0031]所述外层釉浆料的施釉厚度为0.10mm～0.15mm；
[0032]S4、将第二陶瓷釉置于1100℃～1250℃的氧化气氛中烧成；
[0033]S7、将第二陶瓷釉置于1100℃～1250℃的氧化气氛中烧成。
[0034]作为本专利技术进一步的方案：在第一陶瓷釉坯表面施所述外层釉浆料之前，先在第一陶瓷釉坯底部以上3mm～10mm范围区域内刷涂阻水剂，以防止釉在高温下流动，造成粘脚(底)或突出口沿的缺陷。
[0035]作为本专利技术进一步的方案：外层釉的厚度为0.10mm～0.15mm，容易形成褶皱且不易产生局部亮光，当外层釉过厚时，则不易形成褶皱；当外层釉过薄时，则容易与内层釉融合而变为亮光或局部亮光，也不易形成褶皱。
[0036]作为本专利技术进一步的方案：所述外层釉浆料的平均粒径为40μm～60μm。
[0037]作为本专利技术进一步的方案：所述第一陶瓷釉坯的含水率在1％以下。
[0038]作为本专利技术进一步的方案：所述第二陶瓷釉坯的含水率在1％以下。
[0039]本专利技术第四方面提供了上述陶瓷釉的应用，应用在制备艺术陶瓷中，使陶瓷产品釉面堆叠(窑变)效果独特，有褶皱状凸起，像沙漠纹，也像哈密瓜纹状凸起，古朴大方，艺术
感强。釉面凹凸曲面自然，深浅交替。
[0040]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0041]外层釉的制备原料中，氧化铝可以提高釉的耐温性，同时提高产品的哑光度，氧化铝过多会结板，过少会使釉面不均匀，或局部亮光；第一高岭土可以提高釉浆的悬浮性，改善釉浆的可操作性；第二高岭土可以带入部分氧化铝，其比直接加入氧化铝更温和，同时可以降低成本；硅微粉可以使第二高岭土及氧化铝熔融得更好，使高温态釉浆化学成分分布更均匀；硅酸锆可以增加高温时熔融态釉浆的粘度，同时提高其高温稳定性。
附图说明
[0042]为了便于本领域技术人员理解，下面结合附图对本专利技术作进一步的说明。
[0043]图1为实施例4应用得到的陶瓷外观形貌图；
[0044本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷釉，其特征在于：由内至外包括：内层釉和外层釉；所述外层釉包括以下质量份的制备原料：10份第一高岭土、65份～75份氧化铝、7份～13份第二高岭土、1份～5份硅微粉和12份～17份硅酸锆。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷釉，其特征在于，所述外层釉还包括0质量份～1.5质量份的色剂。3.根据权利要求1所述的一种陶瓷釉，其特征在于，所述内层釉包括以下质量份的制备原料：5份～10份熔块、15份～25份钾长石、5份～10份烧锌、8份～12份界牌泥、5份～15份方解石、17份～23份煅烧滑石、4份～8份硅灰石、3份～7份碳酸钡、5份～11份煅烧锂辉石、2份～5份氧化铝、7份～11份第二高岭土、1份～5份硅微粉、7份～15份石英、12份～17份硅酸锆和0份～1份色剂。4.一种陶瓷，其特征在于，所述陶瓷的制备原料包括陶瓷坯体和如权利要求1至3任一项所述的陶瓷釉。5.一种陶瓷，其特征在于，所述陶瓷坯体的质量百分数为：二氧化硅65％～70％，氧化铝18％～22％，氧化铁0％～1％，二氧化钛0...

【专利技术属性】
技术研发人员：张亮，汪大谷，
申请(专利权)人：湖南华联瓷业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：