多段移动速度的直立式湿制程装置制造方法及图纸

一种多段移动速度的直立式湿制程装置，用以运载一基板，并包括一移送机构与一载座，移送机构具有沿一移动方向成型的一中空机柜、以及一设于中空机柜内并沿移动方向配置的输送单元，且中空机柜依移动方向依序设有一前置段、一缓冲段与一后置段，而载座通过输送单元依移动方向前进，以运载基板；其中，输送单元带动载座在缓冲段内的移动速度，系大于在前置段与后置段内的移动速度。从而实现通过加速的方式缩短前述中间过程的所需时间，以避免残留于基板上的药液影响其加工效果。基板上的药液影响其加工效果。基板上的药液影响其加工效果。

【技术实现步骤摘要】
多段移动速度的直立式湿制程装置


[0001]本技术与一种基材设备有关，尤指一种运载基板作加工的多段移动速度的直立式湿制程装置。

技术介绍

[0002]如今，现有如对电路板等基材进行湿制程的设备上，为了提供面积较大的基材进行上述制程，可通过如将基材直立或吊挂的方式，并通过运载的方式进入如药液喷洒的蚀刻制程中，借以达到所需加工的目的。
[0003]而在上述湿制程中，由于进行药液喷洒后，仍需对基材上残留的药液进行清除，故通常需通过清水清洗及烘干等制程。且为达一贯化作业，上述清洗与烘干制程间隔接续于药液喷洒之后。同时，也为了避免二者制程间的间距不足而造成影响，因此在上述制程间通常会提供一足够距离的缓冲区，以供基材确实完成药液的蚀刻制程后，通过缓冲区才会进入清洗与烘干等后续制程。
[0004]然而，当基材进行蚀刻制程后，其上仍会残留不少药液，故若在通过上述缓冲区所花的时间较长，则容易造成药液持续对基材进行化学反应而影响蚀刻的加工效果。

技术实现思路

[0005]本技术的主要目的，在于可提供一种多段移动速度的直立式湿制程装置，其使所运载的基板在进行药液喷洒与清洗、烘干的制程之间，通过加速的方式缩短前述中间过程的所需时间，以避免残留于基板上的药液影响其加工效果。
[0006]为了达成上述的目的，本技术提供一种多段移动速度的直立式湿制程装置，用以运载一基板，并包括一移送机构与一载座，移送机构具有沿一移动方向成型的一中空机柜、以及一设于中空机柜内并沿移动方向配置的输送单元，且中空机柜依移动方向依序设有一前置段、一缓冲段与一后置段，而载座通过输送单元依移动方向前进，以运载基板；其中，输送单元带动载座在缓冲段内的移动速度，系大于在前置段与后置段内的移动速度。
[0007]可选地，该前置段之内设有用以对所述基板喷洒药液的喷嘴。
[0008]可选地，该输送单元是由复数滚轮依所述移动方向排列设置。
[0009]可选地，该载座包含一吊框、以及一设于该吊框上并用以夹置所述基板的旋转台。
[0010]可选地，该吊框进一步设有一跨置于该输送单元上的挂件。
[0011]可选地，该输送单元于该前置段上设有一加速马达，以驱使输送单元带动该载座在该缓冲段内的移动速度大于在该前置段与该后置段内的移动速度。
[0012]该输送单元带动该载座在该前置段与该后置段内的移动速度一致。
附图说明
[0013]图1为本技术作动前的平面示意图。
[0014]图2为本技术载座运载基板于前置段移动的平面示意图。
[0015]图3为本技术载座运载基板进入缓冲段的平面示意图。
[0016]图4为本技术载座运载基板于缓冲段加速的平面示意图。
[0017]图5为本技术载座运载基板进入后置段的平面示意图。
[0018]图中：
[0019]1:移送机构；10:中空机柜；100:前置段；101:缓冲段；102:后置段；11:输送单元；12:加速马达；2:载座；20:吊框；21:旋转台；22:挂件；3:喷嘴；4:基板。
具体实施方式
[0020]下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好的理解本技术并能予以实施，但所举实施例不作为对本技术的限定。
[0021]请参阅图1，为本技术作动前的平面示意图。本技术提供一种多段移动速度的直立式湿制程装置，用以运载一基板4进行喷洒药液（如蚀刻）等湿制程加工。所述基板4可为一电路板，而所述直立式湿制程装置则包括一移送机构1、以及一用以运载所述基板4于该移送机构1内移动的载座2；其中：
[0022]该移送机构1具有沿一移动方向成型的一中空机柜10、以及一设于该中空机柜10内并沿所述移动方向配置的输送单元11。该中空机柜10内主要是用于进行所述湿制程，并依所述移动方向依序设有一前置段100、一缓冲段101与一后置段102，其中前置段100内设有用以对基板4喷洒药液的喷嘴3，而后置段102则可对基板4进行清洗及烘干等作业，而缓冲段101介于所述前置段100与后置段102之间以为区隔。
[0023]承上所述，该输送单元11可由复数(两个以上)滚轮依所述移动方向排列设置，并用以输送上述载座2依所述移动方向前进。而该载座2则包含一吊框20、以及一设于该吊框20上并用以夹置所述基板4的旋转台21。该吊框20可进一步设有一跨置于输送单元11上的挂件22，以通过滚轮的带动而能将夹置有基板4的载座2，依所述移动方向于中空机柜10内移动，借以进行湿制程。
[0024]如图2所示，上述载座2通过输送单元11的带动，即可将夹置于旋转台21上的基板4于前置段100内进行移动，并于移动的过程中借由上述喷嘴3对基板4喷洒如蚀刻等药液，以进行所述湿制程。且为便于使基板4表面受到均匀地药液喷洒，于载座2移动的同时，该旋转台21亦会一并于吊框20上带动基板2进行自转，从而使基板4表面各部位均能受到药液的喷洒。
[0025]如图3所示，本技术主要使前置段100与后置段102之间可通过缓冲段101而保持应有的相对距离下，进一步缩短该载座2通过缓冲段101所需的时间，进而能够避免处于缓冲段101下的时间过长，而使残留于基板4上的药液影响其加工效果。因此，当上述载座2通过前置段100后，可通过缓冲段101内的输送单元11对载座2加速移动，进而使载座2能快速通过该缓冲段101而进入后置段，即如图4所示。
[0026]更详细地，如图3及图4所示，本技术主要可于上述前置段100的输送单元11上，设置一加速马达12来驱使输送单元11加速运载载座2。如此，只要进入该缓冲段101的载座2即可受到加速马达12的驱使，而能加速通过该缓冲段101。
[0027]最后，如图5所示，上述载座2通过缓冲段101而进入后直段102后，即可恢复正常速度继续依所述移动方向移动；其中，所谓正常速度可与前置段100的速度一致、或是低于缓
冲段101的速度。即是上述输送单元11带动该载座2在该缓冲段内的移动速度，系大于在该前置段100与后置段102内的移动速度。
[0028]是以，借由上述的构造组成，即可得到本技术多段移动速度的直立式湿制程装置。
[0029]因此，借由本技术多段移动速度的直立式湿制程装置，即可通过运送单元11于缓冲段101带动载座2加速移动后，可使载座2所运载的基板4在进行药液喷洒与清洗、烘干的制程之间，通过前述加速的方式缩短在缓冲段移动过程的所需时间，以避免残留于基板上的药液影响其加工效果。同时也能维持缓冲段101维持在前置段100与后置段102间应有的距离下。
[0030]以上所述实施例仅是为充分说明本技术而所举的较佳的实施例，本技术的保护范围不限于此。本
的技术人员在本技术基础上所作的等同替代或变换，均在本技术的保护范围之内。本技术的保护范围以权利要求书为准。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多段移动速度的直立式湿制程装置，用以运载一基板；其特征在于，包括：一移送机构，具有沿一移动方向成型的一中空机柜、以及一设于该中空机柜内并沿所述移动方向配置的输送单元，且该中空机柜依所述移动方向依序设有一前置段、一缓冲段与一后置段；以及一载座，通过该输送单元而依所述移动方向前进，以运载所述基板；其中，该输送单元带动该载座在该缓冲段内的移动速度，系大于在该前置段与该后置段内的移动速度。2.如权利要求1所述的多段移动速度的直立式湿制程装置，其特征在于，该前置段之内设有用以对所述基板喷洒药液的喷嘴。3.如权利要求1所述的多段移动速度的直立式湿制程装置，其特征在于，该输送单元是由复数滚...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏胜义，巫坤星，吕理榕，黄世达，
申请(专利权)人：扬博科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：