多段移动速度的直立式湿制程装置制造方法及图纸

一种多段移动速度的直立式湿制程装置，用以运载一基板，并包括一移送机构与一载座，移送机构具有沿一移动方向成型的一中空机柜、以及一设于中空机柜内并沿移动方向配置的输送单元，且中空机柜依移动方向依序设有一前置段、一缓冲段与一后置段，而载座通过输送单元依移动方向前进，以运载基板；其中，输送单元带动载座在缓冲段内的移动速度，系大于在前置段与后置段内的移动速度。从而实现通过加速的方式缩短前述中间过程的所需时间，以避免残留于基板上的药液影响其加工效果。基板上的药液影响其加工效果。基板上的药液影响其加工效果。

【技术实现步骤摘要】
多段移动速度的直立式湿制程装置


[0001]本技术与一种基材设备有关，尤指一种运载基板作加工的多段移动速度的直立式湿制程装置。

技术介绍

[0002]如今，现有如对电路板等基材进行湿制程的设备上，为了提供面积较大的基材进行上述制程，可通过如将基材直立或吊挂的方式，并通过运载的方式进入如药液喷洒的蚀刻制程中，借以达到所需加工的目的。
[0003]而在上述湿制程中，由于进行药液喷洒后，仍需对基材上残留的药液进行清除，故通常需通过清水清洗及烘干等制程。且为达一贯化作业，上述清洗与烘干制程间隔接续于药液喷洒之后。同时，也为了避免二者制程间的间距不足而造成影响，因此在上述制程间通常会提供一足够距离的缓冲区，以供基材确实完成药液的蚀刻制程后，通过缓冲区才会进入清洗与烘干等后续制程。
[0004]然而，当基材进行蚀刻制程后，其上仍会残留不少药液，故若在通过上述缓冲区所花的时间较长，则容易造成药液持续对基材进行化学反应而影响蚀刻的加工效果。

技术实现思路

[0005]本技术的主要目的，在于可提供一种多段移动速度的直立式湿制程装置，其本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多段移动速度的直立式湿制程装置，用以运载一基板；其特征在于，包括：一移送机构，具有沿一移动方向成型的一中空机柜、以及一设于该中空机柜内并沿所述移动方向配置的输送单元，且该中空机柜依所述移动方向依序设有一前置段、一缓冲段与一后置段；以及一载座，通过该输送单元而依所述移动方向前进，以运载所述基板；其中，该输送单元带动该载座在该缓冲段内的移动速度，系大于在该前置段与该后置段内的移动速度。2.如权利要求1所述的多段移动速度的直立式湿制程装置，其特征在于，该前置段之内设有用以对所述基板喷洒药液的喷嘴。3.如权利要求1所述的多段移动速度的直立式湿制程装置，其特征在于，该输送单元是由复数滚...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏胜义，巫坤星，吕理榕，黄世达，
申请(专利权)人：扬博科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：