处理装置以及物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供处理装置以及物品制造方法。处理装置包括：气液接触结构体，其配置有与第一端及第二端连通的多个气体流路；第一输送路线，其向所述气液接触结构体的所述第一端输送包含疏水性有机物的空气；供给部，其向所述气液接触结构体供给使所述疏水性有机物亲水化的物质及水；和第二输送路线，其输送从所述气液接触结构体的所述第二端出来的空气。液接触结构体的所述第二端出来的空气。液接触结构体的所述第二端出来的空气。

【技术实现步骤摘要】
处理装置以及物品制造方法
[
][0001]本专利技术涉及处理装置以及物品制造方法。
[
技术介绍
][0002]附着于光学部件的化学物质有可能对包含光学部件的装置的功能和性能产生影响，因此需要用于抑制对光学部件的化学物质的对策。例如，在将原版的图案转印于基板的曝光装置中，利用来自光源的光(曝光光)对原版进行照明的照明光学系统和将原版的图案投影于基板的投影光学系统具有透镜和/或反射镜等光学部件。在曝光装置中，随着曝光光的短波长化，在光学部件产生模糊的问题明显化。
[0003]成为光学部件的模糊的原因的化学物质例如是氨NH3等碱性气体、SO2等酸性气体、IPA、甲醇及HMDS等水溶性有机物气体、TMS、硅氧烷等疏水性有机物气体。例如，作为碱性气体的氨NH3和作为酸性气体的SO2通过照射曝光光而发生光化学反应而产生硫酸铵((NH4)2SO4)，其能够使光学部件产生模糊。另外，水溶性有机物气体通过照射曝光光而产生光化学反应而产生作为有机酸的羧酸，其能够使光学部件产生模糊。另外，疏水性有机物气体通过照射曝光光而引起光化学反应而产生二氧化硅(SiO2)，其能够使光学部件产生模糊。
[0004]如上所述，化学物质附着于光学部件，从而在光学部件可能产生模糊。针对这样的课题，在控制曝光装置内的温度、湿度、尘埃的环境腔室设置杂质除去过滤器，除去存在于环境腔室的气氛中的碱性气体、酸性气体、水溶性有机物气体、疏水性有机物气体等物质。应予说明，对在环境腔室内使用的部件类实施清洗等处理，另外，作为润滑剂等，可以选定脱气量少的物质。作为杂质除去过滤器，可以使用化学过滤器。但是，化学过滤器在污染物质的除去量方面存在极限，因此需要定期的更换，需要为此的成本和维护时间。
[0005]在有机物气体的除去中，可采用使用了活性炭的有机物气体用的化学过滤器(以下称为活性炭过滤器)。在此，活性炭过滤器在初期可良好地吸附任何有机物气体，但若有机物气体的吸附量增加，则低沸点的有机物气体的脱离增加，若有机物气体的吸附量进一步增加，则中沸点的有机物气体的脱离也增加。进而，若有机物气体的吸附量增加，则高沸点的有机物气体占据吸附有机物气体的活性炭的细孔的大部分，活性炭过滤器对于有机物气体达到吸附和脱离的平衡状态，丧失有机物气体的吸附能力。已知这样的现象或特性作为被称为“座椅靠背游戏(椅子取
りゲーム
)”现象或置换吸附的特性。在活性炭过滤器中，随着有机物气体的吸附，从沸点低的有机气体开始依次开始脱离，因此活性炭过滤器的寿命相对于低沸点的有机物气体非常短。
[0006]在专利文献1中记载了：在化学过滤器的上游侧设置湿式的空气洗涤机，通过减少配置于下游的化学过滤器的负担来降低化学过滤器的更换频率。湿式的空气洗涤机对除去水溶性有机物是有效的，但难以充分除去疏水性有机物。另外，也难以代替活性炭过滤器而使用湿式的空气洗涤机。
[0007][现有技术文献][0008][专利文献][0009][专利文献1]日本特开2008
‑
91746号公报
[
技术实现思路
][0010]本专利技术提供一种有利于除去疏水性有机物的技术。
[0011]本专利技术的第一方面涉及一种处理装置，所述处理装置包括：气液接触结构体，其配置有与第一端及第二端连通的多个气体流路；第一输送路线，其向所述气液接触结构体的所述第一端输送包含疏水性有机物的空气；供给部，其向所述气液接触结构体供给使所述疏水性有机物亲水化的物质及水；及第二输送路线，其输送从所述气液接触结构体的所述第二端出来的空气。
[0012]本专利技术的第二方面涉及一种处理装置，所述处理装置构成为对基板进行曝光的曝光装置，其具备：气液接触结构体，其配置有与第一端及第二端连通的多个气体流路；第一输送路线，其向所述气液接触结构体的所述第一端输送包含疏水性有机物的空气；供给部，其向所述气液接触结构体供给使所述疏水性有机物亲水化的物质和水；第二输送路线，其输送从所述气液接触结构体的所述第二端出来的空气；照明光学系统；原版驱动机构；投影光学系统；和基板驱动机构，通过了所述气液接触结构体的空气被供给至对所述基板进行曝光的空间。
[0013]本专利技术的第三方面包含：曝光工序，其中，使用所述第二方面所涉及的处理装置对涂布有感光材料的基板进行曝光；显影工序，其中，对在所述曝光工序中被曝光的所述基板进行显影；以及处理工序，其中，对经过了所述显影工序的所述基板进行处理而得到物品。
附图说明
[0014]图1是示意性地表示一个实施方式的处理装置的构成的图。
[0015]图2是示意性地表示变形例的处理装置的构成的图。
[0016]图3是表示湿式过滤器的第一实施方式的构成的图。
[0017]图4是表示湿式过滤器的第二实施方式的构成的图。
[0018]图5是说明疏水性有机物气体的图。
[0019]图6是说明使疏水性的环状硅氧烷溶解于水的1种方法的图。
[0020]图7是说明使疏水性的环状硅氧烷溶解于水的另一方法的图。
[0021]图8是表示湿式过滤器的第三实施方式的构成的图。
[0022]图9是例示能够作为湿式过滤器的气液接触结构体应用的斜交蜂窝结构体的图。
[0023][附图标记的说明][0024]201:气液接触结构体、E1：第一端、E2：第二端、205：第一输送路线、206：第二输送路线、202：添加部、203：给水部、210：供给部
[具体实施方式][0025]以下，参照附图详细说明实施方式。再有，以下的实施方式并不限定专利权利要求所涉及的专利技术。在实施方式中记载有多个特征，但这些多个特征的全部未必是专利技术所必需的特征，另外，多个特征也可以任意地组合。进而，在附图中，对相同或同样的构成标注相同的附图标记，省略重复的说明。
[0026]在图1中示意性地示出一个实施方式的处理装置100的构成。处理装置100能够以各种方式实施。处理装置100是至少具备湿式过滤器108的装置，在一例中，处理装置100可以理解为处理空气的处理装置或湿式过滤器装置。处理装置100也可以构成为对构件进行处理的处理装置。对构件进行处理例如可以包括对构件的全部或一部分给予物理或化学的变化、对构件附加膜等物质、或对构件进行检查。在图1所示的实施方式中，处理装置100构成为对基板进行曝光的曝光装置，更具体而言，构成为通过对涂布有感光材料的基板进行曝光而将原版的图案转印于该感光材料的曝光装置。基板例如是玻璃板或半导体晶片。
[0027]构成为曝光装置的处理装置100可以具备：照明光学系统101，其对原版102进行照明；原版驱动机构103，其保持原版102并进行驱动；以及投影光学系统104，其将原版102的图案投影于基板105。另外，处理装置100可以具备：基板驱动机构106，其保持并驱动涂布了感光剂的基板105；以及腔室107，其收纳照明光学系统101的至少一部分、原版驱动机构103、投影光学系统104以及基板驱动机构106。
[0028]照明光学系统101利用照明光113对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种处理装置，其特征在于，包括：气液接触结构体，其配置有与第一端及第二端连通的多个气体流路；向所述气液接触结构体的所述第一端输送包含疏水性有机物的空气的第一输送路线；向所述气液接触结构体供给使所述疏水性有机物亲水化的物质和水的供给部；和输送从所述气液接触结构体的所述第二端出来的空气的第二输送路线。2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述第一输送路线将从包含处理基板的内部空间的腔室排出的包含疏水性有机物的空气输送至所述气液接触结构体的所述第一端，从所述气液接触结构体的所述第二端出来的空气通过所述第二输送路线而被供给至所述腔室的所述内部空间。3.根据权利要求2所述的处理装置，其特征在于，所述第一输送路线除了从所述腔室的所述内部空间排出的包含疏水性有机物的空气之外，还将所述腔室的外部空间的空气输送至所述气液接触结构体的所述第一端。4.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述第一输送路线将包含处理基板的内部空间的腔室的外部空间的空气输送至所述气液接触结构体的所述第一端，从所述气液接触结构体的所述第二端出来的空气通过所述第二输送路线被供给至所述腔室的所述内部空间。5.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述供给部包括：给水部，其向所述气液接触结构体供给水；和添加部，其向由所述给水部向所述气液接触结构体供给的水添加所述物质。6.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述供给部包括：给水部，其向所述气液接触结构体供给水；和添加部，其对由所述第一输送路线向所述气液接触结构体输送的空气添加所述物质。7.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述供给部包括：给水部，其向所述气液接触结构体供给水；和添加部，其对由所述给水部向所述气液接触结构体供给的水以及由所述第一输送路线向所述气液接触结构体输送的空气添加所述物质。8.根据权利要求7所述的处理装置，其特征在于，所述添加部包括调节对由所述给水部供给至所述气液接触结构体的水添加的所述物质的量以及对由所述第一输送路线向所述气液接触结构体输送的空气添加的所述物质的量...

【专利技术属性】
技术研发人员：高柳雅欣，川岛春名，矢田裕紀，中山周吾，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：