半导体装置制造方法及图纸

技术编号:35848583 阅读:21 留言:0更新日期:2022-12-07 10:30
本发明专利技术涉及半导体装置。提供一种能够使特性稳定化的半导体装置。根据实施方式,半导体装置包括第1~第5电极、半导体构件、第1绝缘构件以及第1连接构件、第2连接构件。半导体构件包括第1半导体区域和第2半导体区域。第1半导体区域含有Al

【技术实现步骤摘要】
半导体装置
[0001]本申请以日本专利申请2021

092088(申请日2021年6月1日)为基础,享受该申请的优先权。本申请通过参照该申请,而包括该申请的全部内容。


[0002]本专利技术的实施方式涉及一种半导体装置。

技术介绍

[0003]例如,就晶体管等半导体装置而言,期望稳定的特性。

技术实现思路

[0004]本专利技术的实施方式提供一种能够使特性稳定化的半导体装置。
[0005]用于解决问题的方案
[0006]根据本专利技术的实施方式,半导体装置包括第1电极、第2电极、第3电极、第4电极、第5电极、半导体构件、第1绝缘构件、第1连接构件以及第2连接构件。从所述第1电极朝向所述第2电极的方向沿着第1方向。所述第3电极包括第1电极部分。所述第1电极部分的所述第1方向上的位置处于所述第1电极的所述第1方向上的位置与所述第2电极的所述第1方向上的位置之间。所述第5电极包括第1电极区域。所述半导体构件包括第1半导体区域和第2半导体区域。所述第1半导体区域含有Al
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N(0≤x1<1)。所述第1半导体区域包括第1部分区域、第2部分区域、第3部分区域、第4部分区域、第5部分区域、第6部分区域以及第7部分区域。从所述第1部分区域朝向所述第1电极的方向、从所述第2部分区域朝向所述第2电极的方向以及从所述第3部分区域朝向所述第1电极部分的方向沿着与所述第1方向交叉的第2方向。所述第4部分区域的所述第1方向上的位置处于所述第1部分区域的所述第1方向上的位置与所述第3部分区域的所述第1方向上的位置之间。所述第5部分区域的所述第1方向上的位置处于所述第3部分区域的所述第1方向上的所述位置与所述第2部分区域的所述第1方向上的位置之间。从所述第2部分区域朝向所述第6部分区域的方向与所述第2方向交叉。从所述第6部分区域朝向所述第4电极的方向沿着所述第2方向。从所述第6部分区域朝向所述第7部分区域的方向沿着与所述第2方向交叉的第1交叉方向。所述第2半导体区域含有Al
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N(0<x2<1,x1<x2)。所述第2半导体区域包括第1半导体部分、第2半导体部分以及第3半导体部分。从所述第4部分区域朝向所述第1半导体部分的方向沿着所述第2方向。从所述第5部分区域朝向所述第2半导体部分的方向沿着所述第2方向。从所述第7部分区域朝向所述第3半导体部分的方向沿着所述第2方向。所述第3半导体部分与所述第1电极区域的至少一部分接触。所述第1绝缘构件包括第1绝缘区域。所述第1绝缘区域在所述第2方向上处于所述第3部分区域与所述第1电极部分之间。所述第1绝缘区域的至少一部分在所述第1方向上处于所述第4部分区域与所述第5部分区域之间。所述第1连接构件将所述第5电极与所述第1电极电连接。所述第2连接构件将所述第4电极与所述第3电极电连接。
[0007]根据上述结构的构造体,能够提供一种能够使特性稳定化的半导体装置。
附图说明
[0008]图1是例示第1实施方式的半导体装置的示意性的剖视图。
[0009]图2是例示第1实施方式的半导体装置的电路图。
[0010]图3是例示第1实施方式的半导体装置的一部分特性的曲线图。
[0011]附图标记说明
[0012]10

第1半导体区域,10B

氮化物半导体层,10C

载流子区域,10M

半导体构件,10S

衬底,11~19

第1~第9部分区域,19A

第10部分区域,20

第2半导体区域,21~24

第1~第4半导体部分,41

第1绝缘构件,41a~41c

第1~第3绝缘区域,42

第2绝缘构件,42a、42b

第1、第2绝缘部分,43

氮化物构件,43a

第1氮化物区域,50D

二极管,50T

晶体管,51~56

第1~第6电极,51T、53T、54T、55T、56T

端子,53a

第1电极部分,55a~55c

第1~第3电极区域,55p、55q

部分,61~63

第1~第3连接构件,110

半导体装置,D1、D2

第1、第2方向,Dx1

第1交叉方向,Ja

电流密度,Rg

电阻,Va

电压。
具体实施方式
[0013]以下,参照附图说明本专利技术的各实施方式。
[0014]附图是示意性的或者概念性的,各部分的厚度与宽度的关系、部分间的大小的比率等未必与现实的相同。即使在表示相同的部分的情况下,也存在根据附图而相互的尺寸、比率不同地表示的情况。
[0015]在本申请说明书和各图中,关于已出现的图,对与前述的要素同样的要素标注相同的附图标记,适当省略详细的说明。
[0016](第1实施方式)
[0017]图1是例示第1实施方式的半导体装置的示意性的剖视图。
[0018]如图1所示,实施方式的半导体装置110包括第1电极51、第2电极52、第3电极53、第4电极54、第5电极55、半导体构件10M以及第1绝缘构件41。
[0019]从第1电极51朝向第2电极52的方向沿着第1方向D1。将第1方向D1设为X轴方向。将与X轴方向垂直的1个方向设为Z轴方向。将与X轴方向和Z轴方向垂直的方向设为Y轴方向。
[0020]第3电极53包括第1电极部分53a。第1电极部分53a的第1方向D1上的位置处于第1电极51的第1方向D1上的位置与第2电极52的第1方向D1上的位置之间。例如,在第1方向D1上,第3电极53的至少一部分也可以设于第1电极51与第2电极52之间。
[0021]第5电极55包括第1电极区域55a。
[0022]半导体构件10M包括第1半导体区域10和第2半导体区域20。在该例中,半导体装置110包括衬底10S和氮化物半导体层10B。在衬底10S之上设有氮化物半导体层10B。在氮化物半导体层10B之上设有第1半导体区域10。在第1半导体区域10之上设有第2半导体区域20。衬底10S例如可以是硅衬底或者SiC衬底等。氮化物半导体层10B例如包括氮化物半导体。氮化物半导体层10B例如含有Al、Ga以及N等。氮化物半导体层10B例如是缓冲层。
[0023]第1半导体区域10含有Al
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N(0≤x1本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体装置,具备:第1电极;第2电极,从所述第1电极朝向所述第2电极的方向沿着第1方向;第3电极,包括第1电极部分,所述第1电极部分的所述第1方向上的位置处于所述第1电极的所述第1方向上的位置与所述第2电极的所述第1方向上的位置之间;第4电极;第5电极,包括第1电极区域;半导体构件,包括第1半导体区域和第2半导体区域,所述第1半导体区域含有Al
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N,所述第1半导体区域包括第1部分区域、第2部分区域、第3部分区域、第4部分区域、第5部分区域、第6部分区域以及第7部分区域,从所述第1部分区域朝向所述第1电极的方向、从所述第2部分区域朝向所述第2电极的方向以及从所述第3部分区域朝向所述第1电极部分的方向沿着与所述第1方向交叉的第2方向,所述第4部分区域的所述第1方向上的位置处于所述第1部分区域的所述第1方向上的位置与所述第3部分区域的所述第1方向上的位置之间,所述第5部分区域的所述第1方向上的位置处于所述第3部分区域的所述第1方向上的所述位置与所述第2部分区域的所述第1方向上的位置之间,从所述第2部分区域朝向所述第6部分区域的方向与所述第2方向交叉,从所述第6部分区域朝向所述第4电极的方向沿着所述第2方向,从所述第6部分区域朝向所述第7部分区域的方向沿着与所述第2方向交叉的第1交叉方向,其中0≤x1<1,所述第2半导体区域含有Al
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N,所述第2半导体区域包括第1半导体部分、第2半导体部分以及第3半导体部分,从所述第4部分区域朝向所述第1半导体部分的方向沿着所述第2方向,从所述第5部分区域朝向所述第2半导体部分的方向沿着所述第2方向,从所述第7部分区域朝向所述第3半导体部分的方向沿着所述第2方向,所述第3半导体部分与所述第1电极区域的至少一部分相接,其中0<x2<1,x1<x2;第1绝缘构件,包括第1绝缘区域,所述第1绝缘区域在所述第2方向上处于所述第3部分区域与所述第1电极部分之间,所述第1绝缘区域的至少一部分在所述第1方向上处于所述第4部分区域与所述第5部分区域之间;第1连接构件,将所述第5电极与所述第1电极电连接;以及第2连接构件,将所述第4电极与所述第3电极电连接。2.一种半导体装置,具备:第1电极;第2电极,从所述第1电极朝向所述第2电极的方向沿着第1方向;第3电极,包括第1电极部分,所述第1电极部分的所述第1方向上的位置处于所述第1电极的所述第1方向上的位置与所述第2电极的所述第1方向上的位置之间;第4电极;第5电极,包括第1电极区域;半导体构件,包括第1半导体区域和第2半导体区域,所述第1半导体区域含有Al
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N,所述第1半导体区域包括第1部分区域、第2部分区域、第3部分区域、第4部分区域、第5部分区域、第6部分区域以及第7部分区域,从所述第1部分区域朝向所述第1电极的方向、从所述第2部分区域朝向所述第2电极的方向以及从所述
第3部分区域朝向所述第1电极部分的方向沿着与所述第1方向交叉的第2方向,所述第4部分区域的所述第1方向上的位置处于所述第1部分区域的所述第1方向上的位置与所述第3部分区域的所述第1方...

【专利技术属性】
技术研发人员:向井章
申请(专利权)人:株式会社东芝
类型:发明
国别省市:

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