一种用于超声波清洗机的半导体晶片、液晶面板固定工作台制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于超声波清洗机的半导体晶片、液晶面板固定工作台，包括超声波清洗机以及设于所述超声波清洗机上的面板固定工作台和X轴驱动组件，所述X轴驱动组件上设置有水平移动的移动平台，所述面板固定工作台包括：设置于所述移动平台上的底座；设于所述底座上方、并用于固定半导体晶片、液晶面板的吸附平台。本实用新型专利技术将半导体晶片、液晶面板置于吸附平台的表面，由定位组件驱动半导体晶片、液晶面板在吸附平台上进行移动定位，然后，通过吸附平台底部所连接的真空发生器抽吸真空气体，将半导体晶片、液晶面板吸附在吸附平台上的上表面进行固定，以便于超声波清洗机进行清洗。行清洗。行清洗。

【技术实现步骤摘要】
一种用于超声波清洗机的半导体晶片、液晶面板固定工作台


[0001]本技术涉及面板清洗领域，特别涉及一种用于超声波清洗机的半导体晶片、液晶面板固定工作台。

技术介绍

[0002]为了提高半导体和液晶面板制造的产品合格率，即必须确保半导体晶片、液晶面板上面杂质的已清洁干净，不能有任何的残留，所以势必需增加清洗流程的长度、扩充清洗设备，超声波干式清洗机是为对半导体行业，LED行业,显示屏行业等产品表面的浮尘颗粒进行清除，保证后续喷涂，镀膜，粘胶，焊接，封装等工序的质量，大大降低故障率，提升产品良品率。目前，现有半导体晶片、液晶面板清洗行业中大多通过人工手动半导体晶片、液晶面板或是用超声波整个卡夹清洗。人工手动清洗，主要是利用人工把半导体晶片、液晶面板放在治具上，然后用无尘布沾清洗液不段搓清半导体晶片和液晶面板来实现清洁半导体晶片和液晶面板，其效率不高，每人每天100片左右，且费人力成本，而超声波清洗是通过机械手抓取整卡夹半导体晶片、液晶面板在超声槽里清洗，效率高，但超声波对整半导体晶片、液晶面板不能覆盖整体，有死角清洗不到，导致清洗效果不佳。

技术实现思路

[0003]为解决上述技术问题，本技术提供了一种用于超声波清洗机的固定工作台，具有便于固定半导体晶片、液晶面板，以便于清洗的优点。
[0004]为达到上述目的，本技术的技术方案如下：
[0005]一种用于超声波清洗机的半导体晶片、液晶面板固定工作台，包括超声波清洗机以及设于所述超声波清洗机上的面板固定工作台和X轴驱动组件，所述X轴驱动组件上设置有水平移动的移动平台，所述面板固定工作台包括：
[0006]设置于所述移动平台上的底座；
[0007]设于所述底座上方、并用过固定面板的吸附平台；以及，
[0008]设于所述吸附平台和所述底座之间、并用于面板定位的定位组件。
[0009]实现上述技术方案，将半导体晶片、液晶面板置于吸附平台的表面，由定位组件驱动半导体晶片、液晶面板在吸附平台上进行移动定位，然后，通过吸附平台底部所连接的真空发生器抽吸真空气体时，将半导体晶片、液晶面板吸附在吸附平台上的上表面进行固定。为了防止吸附平台划伤液晶面板，在吸附平台的表面镀一层特氟龙。
[0010]作为本申请的一种优选方案，所述底座和所述吸附平台之间设置有支撑柱，所述支撑柱位于所述吸附平台的四个拐角。
[0011]实现上述技术方案，用于将吸附平台支撑在底座上，以便于在底座和吸附平台之间安装定位组件、气管接头和真空气管。
[0012]作为本申请的一种优选方案，所述吸附平台包括：
[0013]用于承载的平台，所述平台上的上表面开设有多个凹槽，所述凹槽的底部设置有
抽气孔；
[0014]设于所述凹槽、并与所述抽气孔连接的真空吸附盘；以及，
[0015]设于所述平台底部、并与所述抽气孔连接的气管接头，所述气管接头外接真空发生器。
[0016]实现上述技术方案，将半导体晶片、液晶面板置于真空吸附盘的表面，通过气管接头所连接的真空发生器抽吸真空气体时，使液晶面板被吸附在真空吸附盘上，而设置的凹槽用于将真空吸附盘分隔成多个吸附区，可避免其中一个吸附区破真空后导致液晶面板偏移。为了防止半导体晶片、液晶面板产生静电，在平台上开设多个安装静电块的导向孔，导向孔位于相邻的两个凹槽之间。
[0017]作为本申请的一种优选方案，所述真空吸附盘采用微孔陶瓷，所述微孔陶瓷的底部与所述凹槽的底面连接，所述微孔陶瓷的顶部与所述平台的上表面平齐。
[0018]实现上述技术方案，以便于利用陶瓷上的微孔将半导体晶片、液晶面板吸附在平台的顶面。
[0019]作为本申请的一种优选方案，所述凹槽的底部设置有与所述真空吸附盘连接的吸气槽，所述吸气槽设于所述抽气孔的轴向四周。
[0020]实现上述技术方案，用于增加真空吸附盘底部真空吸气的面积，使真空吸附盘的上表面能够均匀吸气。
[0021]作为本申请的一种优选方案，所述定位组件包括：
[0022]设于所述吸附平台底面、并用于提供水平移动力的第一气缸；
[0023]连接于所述第一气缸、并用于提供竖直移动力的第二气缸；以及，
[0024]连接于所述第二气缸、且受所述第二气缸所提供的竖直移动力进行竖直升降的定位块。
[0025]实现上述技术方案，由第二气缸驱动所连接的定位块升起，以挡在半导体晶片、液晶面板的一侧，然后，由第一气缸驱动第二气缸，使第二气缸上的定位块进行移动，以推动半导体晶片、液晶面板进行移动定位。其中，定位块采用优力胶，具有一定的弹性，在推动液晶面板时不易损伤半导体晶片、液晶面板。
[0026]综上所述，本技术具有如下有益效果：
[0027]1.本技术实施例通过提供一种用于超声波清洗机的半导体面板固定工作台，包括超声波清洗机以及设于所述超声波清洗机上的面板固定工作台和X轴驱动组件，所述X轴驱动组件上设置有水平移动的移动平台，所述面板固定工作台包括：设置于所述移动平台上的底座；设于所述底座上方、并用过固定半导体晶片、液晶面板的吸附平台；以及，设于所述吸附平台和所述底座之间、并用于半导体晶片、液晶面板定位的定位组件。本技术将半导体晶片、液晶面板置于吸附平台的表面，由定位组件驱动半导体晶片、液晶面板在吸附平台上进行移动定位，然后，通过吸附平台底部所连接的真空发生器抽吸真空气体，将半导体晶片、液晶面板吸附在吸附平台上的上表面进行固定，以便于超声波清洗机进行清洗。
[0028]2.本技术吸附平台上的静电块可减少静电产生。
附图说明
[0029]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现
有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0030]图1为本技术实施例中的示意图。
[0031]图2为本技术实施例中的面板固定工作台示意图。
[0032]图3为本技术实施例中的吸附平台示意图。
[0033]图中标号：1、超声波清洗机；2、面板固定工作台；3、X轴驱动组件；301、移动平台；4、底座；5、吸附平台；501、平台；502、抽气孔；503、真空吸附盘；504、气管接头；505、吸气槽；6、定位组件；601、第一气缸；602、第二气缸；603、定位块；7、支撑柱；8、半导体晶片、液晶面板；9、静电块。
具体实施方式
[0034]下面将结合本申请实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0035]实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于超声波清洗机的半导体晶片、液晶面板固定工作台，包括超声波清洗机（1）以及设于所述超声波清洗机（1）上的面板固定工作台（2）和X轴驱动组件（3），所述X轴驱动组件（3）上设置有水平移动的移动平台（301），其特征在于，所述面板固定工作台（2）包括：设置于所述移动平台（301）上的底座（4）；设于所述底座（4）上方、并用过固定面板的吸附平台（5）；以及，设于所述吸附平台（5）和所述底座（4）之间、并用于晶片、面板定位的定位组件（6）。2.根据权利要求1所述的一种用于超声波清洗机的半导体晶片、液晶面板固定工作台，其特征在于，所述底座（4）和所述吸附平台（5）之间设置有支撑柱（7），所述支撑柱（7）位于所述吸附平台（5）的四个拐角。3.根据权利要求1所述的一种用于超声波清洗机的半导体晶片、液晶面板固定工作台，其特征在于，所述吸附平台（5）包括：用于承载的平台（501），所述平台（501）上的上表面开设有多个凹槽，所述凹槽的底部设置有抽气孔（502）；设于所述凹槽、并与所述抽气孔（502）连接的真空吸附盘（503）；以及...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘峰，姚自强，马栗，
申请(专利权)人：苏州光斯奥光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：