【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种双传输流处理装置,包括: 适配器,接收正常流,并在正常流的每个包中产生适配域; 填充器,通过将turbo流填充到正常流的至少一个包中的适配域中来产生双传输流; 补充参考信号填充器,通过将补充参考信号填充到包的适配域的第一区域中来结合补充参考信号、turbo流和正常流,以重构双传输流。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:柳廷必,朴义俊,权容植,张龙德,丁海主,金俊守,郑晋熙,池今难,金宗勋,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:KR[韩国]
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