抛光垫粘接膜、包括其的抛光垫层叠体及晶圆的抛光方法技术

本发明专利技术涉及一种抛光垫粘接膜、包括其的抛光垫及晶圆的抛光方法。根据一实施例的抛光垫粘接膜可以使在平台和抛光垫粘接时出现的不必要的孔最小化，当借助适用该抛光垫粘接膜的抛光垫对晶圆表面进行抛光时，可以具有更均匀的抛光速率。的抛光速率。的抛光速率。

【技术实现步骤摘要】
抛光垫粘接膜、包括其的抛光垫层叠体及晶圆的抛光方法


[0001]公开一种抛光垫粘接膜、包括其的抛光垫层叠体及晶圆的抛光方法。

技术介绍

[0002]在晶圆制造工艺中，研磨工艺或抛光工艺被认为是大大影响如晶圆的平坦度、划痕、缺陷等器件的收率和生产率的重要因素之一。上述抛光工艺是使用浆料作为抛光剂来在平台的加压下通过抛光垫和晶圆的摩擦进行抛光的过程，抛光装置具有平台和固定有晶圆的抛光头分别独立旋转的结构。
[0003]在上述抛光工艺中使用的抛光垫起到通过化学机械平坦化(chemical mechanical planarization，CMP)工艺中均匀抛光工作来去除晶圆上不需要的部分，以使晶圆表面平坦化的作用。
[0004]上述抛光垫的表面由用于发生浆液流动的沟槽和孔构成。为了实现均匀的抛光性能，有必要考虑在将抛光垫附着到平台的过程中使孔的出现最小化且在抛光晶圆时改善晶圆表面特性的方案和附着方法简化方案。
[0005]上述的
技术介绍
是专利技术人为导出本专利技术而拥有的技术信息或者在导出本专利技术的过程中掌握的技术信息，因此不能认为是在申请本专利技术之前向公众公开的公知技术。
[0006]作为相关的现有技术，韩国公开专利公报10
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2013
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0108476中公开的“层叠抛光垫用热熔粘接剂片以及层叠抛光垫用粘接剂附着支撑层”和韩国公开专利公报10
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2015
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0026903中公开的“化学机械抛光垫”。
专利技术内容
[0007]技术问题
[0008]实施方式的目的在于，通过具备特有的通孔的抛光垫粘接膜，易于附着在抛光垫和平台上，并且使不必要的孔发生最小化。
[0009]实施方式的另一目的在于，提供一种抛光垫粘接膜，在抛光晶圆时可具有更均匀的晶圆表面特性。
[0010]实施方式的又一目的在于，提供一种抛光垫粘接膜，在使用抛光垫后更换时易于拆装。
[0011]解决问题的方案
[0012]为了实现上述目的，根据实施方式的抛光垫粘接膜可以包括多个通孔，以整体为基准，上述多个通孔的体积分数为3％至20％，当将上述抛光垫粘接膜夹在抛光垫与平台之间后进行单轴压缩时，上述抛光垫粘接膜的压缩率可以为0.98％以上。
[0013]在一实施方式中，上述通孔的与高度方向垂直的截面形状可以为简单闭合曲线。
[0014]在一实施方式中，上述通孔包括一个通孔和相邻的另一个通孔，在上述一个通孔与上述另一个通孔之间的间距可以为2mm至20mm。
[0015]在一实施方式中，上述通孔的平均面积为100mm2以下。
[0016]在一实施方式中，以上述抛光垫粘接膜的一表面为基准，上述通孔的数量为3个至300个。
[0017]在一实施方式中，上述多个通孔的体积分数可以为4％至18％。
[0018]在一实施方式中，上述抛光垫粘接膜的根据ASTM D3330的剥离力可以为1.0kgf/in至3.0kgf/in。
[0019]在一实施方式中，上述抛光垫粘接膜的厚度可以为20μm至300μm。
[0020]在一实施方式中，与除了不包括通孔之外其他都相同的抛光垫粘接膜相比，压缩率可以增加0.5％至2.66％。
[0021]为了实现上述目的，根据实施方式的抛光垫层叠体可以包括：抛光垫；及抛光垫粘接膜，附着在上述抛光垫的一表面上。
[0022]在一实施方式中，在上述抛光垫层叠体中，在除了从晶圆边缘向中心方向占据半径的10％的边缘区域之外的内部区域中，由下述式第一式计算的晶圆抛光速率的标准偏差可以为40以下，
[0023]第一式：
[0024]抛光速率＝每分钟晶圆的抛光厚度
[0025]为了实现上述目的，根据实施方式的晶圆的抛光方法可以包括：准备步骤，准备附着在平台的上述的抛光垫层叠体以及固定晶圆的抛光头；及抛光步骤，在施加浆料的同时使上述晶圆接触到上述抛光垫层叠体的抛光垫上，并使上述平台和抛光头中的至少一者旋转。
[0026]专利技术的效果
[0027]根据一实施例的抛光垫粘接膜，能够在平台和抛光垫粘接时，出现的不必要的孔，当借助适用该抛光垫粘接膜的抛光垫对晶圆的表面进行抛光时，可以具有更均匀的抛光速率。另外，在进行抛光过程后，在从平台上取下抛光垫时，可以更容易地去除该抛光垫，而粘接层等残渣实质上不会残留在平台上。
附图说明
[0028]图1为示出根据一实施例的抛光垫粘接膜100夹在平台300与抛光垫200之间的示例的主视图。
[0029]图2A、图2B、图2C为示出根据一实施例的抛光垫粘接膜100的示例的俯视图。
[0030]图3为示出可以应用于根据一实施例的晶圆的抛光方法的晶圆抛光装置的示例的概念图。
[0031]图4为示出根据从晶圆的中心向边缘方向的根据距离(mm)的比较例(CE 1、CE 2)和实施例(Ex 1、Ex2)的抛光速率的曲线图。
[0032]图5为示出在除了从晶圆边缘向中心方向占据半径的10％的边缘区域之外的内部区域中，从晶圆的中心向边缘方向的根据距离(mm)的比较例(CE1、CE 2)和实施例(Ex 1、Ex2)的抛光速率的曲线图。
[0033]附图标记说明
[0034]100：抛光垫粘接膜
[0035]101：通孔
[0036]200：抛光垫
[0037]300：平台
[0038]310：平台旋转轴
[0039]400：抛光头
[0040]410：头旋转轴
[0041]500：喷嘴
[0042]d1：通孔横向间距
[0043]d2：通孔纵向间距
[0044]w：通孔横向长度
[0045]l：通孔纵向长度
[0046]S：浆料
[0047]W：晶圆
具体实施方式
[0048]以下，参照附图来对一个或多个实施方式进行详细说明，以使本专利技术所属
的普通技术人员轻松实现本专利技术。然而，实施方式可通过多种不同的方式实现，并不限定于在本说明书中所说明的实施例。在说明书全文中，对于相同或相似的组件赋予相同的附图标记。
[0049]在说明书中，记载某一组件“包括”某一组件时，除非有特别相反的记载，否则表示还包括其他组件而不是排除其他组件。
[0050]在说明书中，当描述一个组件与另一个组件“连接”时，它不仅包括“直接连接”的情况，还包括“其中间隔着其他组件而连接”的情况。
[0051]在本说明书中，B位于A上的含义是指B以直接接触的方式位于A上或其中间存在其他层的情况下B位于A上，不应限定于B以接触的方式位于A表面的含义来解释。
[0052]在本说明书中，马库什型描述中包括的术语
“……
的组合”是指从马库什型描述的组成要素组成的组中选择的一个或多个组成要素的混合或组合，从而意味着本专利技术包括选自由上述组成要素组成本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光垫粘接膜，其特征在于，包括多个通孔，以上述抛光垫粘接膜整体为基准，多个上述通孔的体积分数为3％至20％，当将上述抛光垫粘接膜夹在抛光垫与平台之间后进行单轴压缩时，上述粘接膜的压缩率为0.98％以上。2.根据权利要求1所述的抛光垫粘接膜，其特征在于，与上述通孔的高度所在方向垂直的截面形状为简单闭合曲线。3.根据权利要求1所述的抛光垫粘接膜，其特征在于，上述通孔包括一个通孔以及与上述一个通孔相邻的另一个通孔，在上述一个通孔与上述另一个通孔之间的间距为2mm至20mm。4.根据权利要求1所述的抛光垫粘接膜，其特征在于，上述通孔的平均面积为100mm2以下。5.根据权利要求1所述的抛光垫粘接膜，其特征在于，以上述抛光垫粘接膜的一表面为基准，上述通孔的数量为3个至300个。6.根据权利要求1所述的抛光垫粘接膜，其特征在于，多个上述通孔的体积分数为4％至18％。...

【专利技术属性】
技术研发人员：李正男，尹晟勋，徐章源，
申请(专利权)人：SKC索密思株式会社，
类型：发明
国别省市：