柔性显示装置及其制造方法制造方法及图纸

本申请提供一种柔性显示装置及其制造方法，其中，柔性显示面板包括：依次层叠的第一柔性膜层、第二柔性膜层、TFT阵列层、OLED器件层和封装层；其中，第一柔性膜层和第二柔性膜层的界面为斜面，且第二柔性膜层中掺杂有用于反射激光的纳米粒子，纳米粒子的材料选自于氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锌或氧化铪中的至少一种。在本申请提供的柔性显示装置及其制造方法中，通过在柔性衬底的第二柔性膜层中掺杂纳米粒子以反射激光，防止激光对薄膜晶体管和OLED模块造成损伤，进一步的，将第一柔性膜层和第二柔性膜层的界面设置为斜面，使得激光在剥离面上发生全反射，反射回去的激光增加了剥离的能量，由此提高了剥离效率，实现有效分离。实现有效分离。实现有效分离。

【技术实现步骤摘要】
柔性显示装置及其制造方法


[0001]本申请涉及显示
，尤其涉及一种柔性显示装置及其制造方法。

技术介绍

[0002]与诸多显示装置相比，有机发光显示装置(Organic Light Emitting Display，简称OLED)具有全固态、自发光、广视角、广色域、反应速度快、高发光效率、高亮度、高对比度、超薄超轻、低功耗、工作温度范围广、可制作大尺寸与可挠曲的面板及制程简单等诸多优点，能够实现真正意义上的柔性显示，最能符合人们对未来显示器的要求。
[0003]柔性显示装置(Flexible Display)具有可卷曲、耐冲击、抗震能力强、重量轻、体积小、携带更方便等优点，应用前景十分可观。显然，柔性显示装置所采用的衬底必须是柔性衬底，如聚酰亚胺(Polyimide Film，简称PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene terephthalate，简称PET)等。通常的，柔性显示装置的制备方法包括以下步骤：首先，将柔性衬底贴合在玻璃衬底上；接着，在所述柔性衬底上进行薄膜晶体管和OLED器件的制备；然后，通过一定的方式将柔性显示装置从玻璃基板上剥离下来。
[0004]目前，普遍采用激光剥离技术(LLO)实现柔性OLED显示装置的剥离，即采用激光照射柔性衬底和玻璃基板的界面处，在高能量激光作用下打断彼此的连接，实现玻璃基板和柔性衬底的分离。激光剥离技术是柔性OLED显示装置生产的关键技术，剥离工艺对产品的良率、成本等都有非常大的影响。
[0005]在激光剥离过程中，由于所选用的激光波长一般在308～360nm，这样的激光会穿过柔性衬底并照射到柔性衬底另一侧的薄膜晶体管和OLED器件上，因此需要对激光能量进行严格把控。若激光能量偏低，会导致玻璃基板无法成功剥离。若激光能量偏高，会造成晶体管的阈值电压的漂移甚至晶体管器件特性失效，同时也会对OLED器件中的有机材料造成一定的损害，降低OLED器件的发光效率和寿命，使得柔性显示装置的显示品质的下降。
[0006]基此，如何解决现有的柔性显示装置在激光剥离时容易出现剥离效果差或者薄膜晶体管和OLED器件受损的问题，成了本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。

技术实现思路

[0007]有鉴于此，本申请提供一种柔性显示装置及其制造方法，以解决现有技术中柔性显示装置在激光剥离时容易出现剥离效果差或者薄膜晶体管和OLED器件受损的问题。
[0008]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种柔性显示装置，所述柔性显示装置包括：依次层叠的第一柔性膜层、第二柔性膜层、TFT阵列层、OLED器件层和封装层；
[0009]其中，所述第一柔性膜层和所述第二柔性膜层的界面为斜面，且所述第二柔性膜层中掺杂有用于反射激光的纳米粒子，所述纳米粒子的材料选自于氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锌或氧化铪中的至少一种。
[0010]可选的，在所述的柔性显示装置中，所述纳米粒子的粒径范围在50nm到1μm之间，所述纳米粒子的掺杂率在1％到20％之间。
[0011]可选的，在所述的柔性显示装置中，所述第一柔性膜层和所述第二柔性膜层均为聚酰亚胺膜层，所述第二柔性膜层的厚度范围在2.5μm到5μm之间，所述斜面与水平面的夹角范围在0
°
到20
°
之间。
[0012]可选的，在所述的柔性显示装置中，还包括第三柔性膜层，所述第三柔性膜层位于所述第二柔性膜层与所述TFT阵列层之间。
[0013]可选的，在所述的柔性显示装置中，所述第一柔性膜层、所述第二柔性膜层和所述第三柔性膜层均为聚酰亚胺膜层，所述第二柔性膜层的厚度范围在1μm到2.5μm之间，所述第三柔性膜层的厚度范围在1μm到2.5μm之间。
[0014]相应的，本专利技术还提供一种柔性显示装置的制造方法，所述柔性显示装置的制造方法包括：
[0015]步骤一、提供一透明刚性基板；
[0016]步骤二、在所述透明刚性基板的其中一侧依次形成第一柔性膜层、第二柔性膜层、TFT阵列层、OLED器件层和封装层，在形成所述第一柔性膜层和所述第二柔性膜层的过程中，将所述第一柔性膜层和所述第二柔性膜层的界面控制为斜面，且在形成所述第二柔性膜层之前，将纳米粒子掺杂于液态的第二柔性膜层材料中；
[0017]步骤三、提供一激光源，并从所述透明刚性基板的另一侧进行激光照射，使得所述透明刚性基板与所述第一柔性基板分离，在此过程中利用所述纳米粒子对进入所述第二柔性膜层的折射光进行反射，使其返回所述透明刚性基板与所述第一柔性基板的界面。
[0018]可选的，在所述的柔性显示装置的制造方法中，在所述透明刚性基板上形成第一柔性膜层的过程包括：
[0019]将PI溶液涂布于所述透明刚性基板上；以及
[0020]对所述PI溶液进行烘烤使其固化以形成第一柔性膜层。
[0021]可选的，在所述的柔性显示装置的制造方法中，在所述第一柔性膜层上形成第二柔性膜层的过程包括：
[0022]将纳米粒子掺杂于PI溶液中，通过超声震荡均匀以得到改性PI溶液；将所述改性PI溶液涂布于所述第一柔性膜层上；以及
[0023]对所述改性PI溶液进行烘烤使其固化以形成第二柔性膜层。
[0024]可选的，在所述的柔性显示装置的制造方法中，对所述PI溶液或所述改性PI溶液进行烘烤时控制烘烤角度，使得所述第一柔性膜层的上表面为斜面，所述第二柔性膜层的上表面为水平面。
[0025]可选的，在所述的柔性显示装置的制造方法中，在所述第二柔性膜层上形成所述TFT阵列层之前，在所述第一柔性膜层上形成所述第二柔性膜层之后，还包括：
[0026]将PI溶液涂布于所述第二柔性膜层上；以及
[0027]通过烘烤方式对所述PI溶液进行加热以形成第三柔性膜层。
[0028]在本专利技术提供的柔性显示装置及其制造方法中，通过在柔性衬底的第二柔性膜层中掺杂纳米粒子以反射激光，由此防止激光对柔性衬底另外一侧的薄膜晶体管和OLED模块造成损伤，进一步的，将柔性衬底的第一柔性膜层和第二柔性膜层的界面设置为斜面，使得激光在所述第一柔性膜层和和透明刚性基板的界面上发生全反射，反射回去的激光增加了剥离的能量，由此提高了剥离效率，使得柔性衬底和透明刚性基板之间得以有效分离，进而
提升了产品良率。
附图说明
[0029]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0030]图1是本专利技术实施例一的柔性显示装置的结构示意图；
[0031]图2是本专利技术实施例一的金属掩膜板的结构示意图；
[0032]图3是本专利技术实施例二的柔性显示装置的结构示意图；
[0033]图4是本专利技术实施例二的金属掩膜板的结构示意图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种柔性显示装置，其特征在于，包括：依次层叠的第一柔性膜层、第二柔性膜层、TFT阵列层、OLED器件层和封装层；其中，所述第一柔性膜层和所述第二柔性膜层的界面为斜面，且所述第二柔性膜层中掺杂有用于反射激光的纳米粒子，所述纳米粒子的材料选自于氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锌或氧化铪中的至少一种。2.如权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述纳米粒子的粒径范围在50nm到1μm之间，所述纳米粒子的掺杂率在1％到20％之间。3.如权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，所述第一柔性膜层和所述第二柔性膜层均为聚酰亚胺膜层，所述第二柔性膜层的厚度范围在2.5μm到5μm之间，所述斜面与水平面的夹角范围在0
°
到20
°
之间。4.如权利要求1所述的柔性显示装置，其特征在于，还包括第三柔性膜层，所述第三柔性膜层位于所述第二柔性膜层与所述TFT阵列层之间。5.如权利要求4所述的柔性显示装置，其特征在于，所述第一柔性膜层、所述第二柔性膜层和所述第三柔性膜层均为聚酰亚胺膜层，所述第二柔性膜层的厚度范围在1μm到2.5μm之间，所述第三柔性膜层的厚度范围在1μm到2.5μm之间。6.一种柔性显示装置的制造方法，其特征在于，包括：步骤一、提供一透明刚性基板；步骤二、在所述透明刚性基板的其中一侧依次形成第一柔性膜层、第二柔性膜层、TFT阵列层、OLED器件层和封装层，在形成所述第一柔性膜层和所述第二柔性膜层的过程中，将所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：张逸飞，
申请(专利权)人：上海和辉光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：