本实用新型专利技术涉及外延炉技术领域，具体公开了一种外延炉反应腔的自动清洗装置，该装置包括反应室组件，所述反应室组件内设有水平延伸设置的反应腔，所述反应腔与导气组件一端连通，所述导气组件另一端通过切换阀或电磁阀与供气组件及远程等离子体发生装置连接，所述远程等离子体发生装置连接有清洗气体供应器；该装置通过切换阀或电磁阀将远程等离子体发生装置连接在导气组件上，使得外延炉在外延反应结束后，能通过切换阀或电磁阀快速地打通远程等离子体发生装置与反应腔的连接关系，并通过远程等离子体发生装置送入等离子体以对导气组件和反应腔进行清洗处理，具有清洗效率高、清洗效果好、清洗气体利用率高的特点。清洗气体利用率高的特点。清洗气体利用率高的特点。
【技术实现步骤摘要】
一种外延炉反应腔的自动清洗装置
[0001]本申请涉及外延炉
，具体而言，涉及一种外延炉反应腔的自动清洗装置。
技术介绍
[0002]现有的第三代外延炉一般利用反应气体在高温下反应沉积镀膜，尤其适用于碳化硅镀膜以获取碳化硅外延片。
[0003]在外延反应过程中，随着反应气体不断反应沉积，反应气体也会在外延炉的反应腔的内壁上进行沉积反应而形成附着在反应腔内壁上的杂质，杂质堆积过多或造成掉落而使外延片形成外延缺陷和表面颗粒，严重影响外延质量和良率，故外延炉需要定期对反应腔进行清洗以去除反应腔内壁上的杂质，若不对反应腔及时进行清洗会严重影响外延设备的产能和维护成本。现有的外延炉清洗一般通过人工进行物理刮除进行清洗处理，也有采用通入能与杂质进行反应的清洗气体进行清洗处理，前者需要拆解外延炉故存在清洗效率低的缺点，后者反应效果不佳难以保证清洗效果。
[0004]针对上述问题，目前尚未有有效的技术解决方案。
技术实现思路
[0005]本申请的目的在于提供一种外延炉反应腔的自动清洗装置，以兼顾提高清洗效率和清洗效果，以提高设备的整体生产效率。
[0006]本申请提供了一种外延炉反应腔的自动清洗装置，用于清除反应腔上沉积的杂质，所述装置包括反应室组件，所述反应室组件内设有水平延伸设置的反应腔，所述反应腔与导气组件一端连通，所述导气组件另一端通过切换阀或电磁阀与供气组件及远程等离子体发生装置连接，所述远程等离子体发生装置连接有清洗气体供应器。
[0007]本申请的外延炉反应腔的自动清洗装置能通过切换阀或电磁阀快速地打通远程等离子体发生装置与反应腔的连接关系，并通过远程等离子体发生装置送入等离子体以对导气组件和反应腔进行清洗处理。
[0008]所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其中，所述导气组件包括依次连接的进气板、匀气板和导气筒。
[0009]所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其中，所述进气板中部设有第一进气嘴，所述第一进气嘴通过切换阀与所述供气组件及所述远程等离子体发生装置连接。
[0010]在该示例的外延炉反应腔的自动清洗装置中，供气组件及远程等离子体发生装置均通过第一进气嘴送入气体，使得两者形成的气流流场近乎一致，确保形成的等离子体气流能顺利抵达杂质沉积的位置以去除杂质。
[0011]所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其中，所述进气板设有至少两个的第二进气嘴，至少一个所述第二进气嘴通过电磁阀与所述远程等离子体发生装置连接，余下的所述第二进气嘴通过电磁阀与所述供气组件连接。
[0012]该示例的外延炉反应腔的自动清洗装置在每个第二进气嘴上设置电磁阀，并通过
电磁阀连接供气组件或远程等离子体发生装置，实现了供气组件和远程等离子体发生装置的独立控制，在特殊情况下，可同时关闭供气组件和远程等离子体发生装置，提高外延炉使用安全性。
[0013]所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其中，所述第二进气嘴为三个，且为水平等距设置，位于中间的所述第二进气嘴与通过电磁阀所述远程等离子体发生装置连接，位于两侧的所述第二进气嘴通过电磁阀与所述供气组件连接。
[0014]所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其中，所述反应室组件包括石墨反应室和感应线圈，所述反应腔位于所述石墨反应室内部，所述感应线圈环绕设置在所述石墨反应室外侧，用于对所述石墨反应室进行感应加热。
[0015]所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其中，所述感应线圈为中空结构，用于通入冷却水。
[0016]所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其中，包括等离子体发生管、中频电源和阻抗匹配器，所述阻抗匹配器与所述等离子体发生管和所述中频电源连接。。
[0017]所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其中，所述远程等离子体发生装置通过质量流量控制器与所述清洗气体供应器连接。
[0018]所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其中，所述反应腔、所述导气组件和所述远程等离子体发生装置均为水平延伸设置。
[0019]由上可知，本申请提供了一种外延炉反应腔的自动清洗装置，该装置通过切换阀或电磁阀将远程等离子体发生装置连接在导气组件上，使得外延炉在外延反应结束后，能通过切换阀或电磁阀快速地打通远程等离子体发生装置与反应腔的连接关系，并通过远程等离子体发生装置送入等离子体以对导气组件和反应腔进行清洗处理，具有清洗效率高、清洗效果好、清洗气体利用率高的特点。
附图说明
[0020]图1为本申请一些实施例提供的外延炉反应腔的自动清洗装置的侧向结构示意图。
[0021]图2为本申请另一些实施例提供的外延炉反应腔的自动清洗装置去除反应室组件后的俯向结构示意图。
[0022]图3为导气组件的爆炸图。
[0023]附图标记：1、反应室组件；2、导气组件；3、切换阀；4、电磁阀；5、供气组件；6、远程等离子体发生装置；7、清洗气体供应器；8、质量流量控制器；11、反应腔；12、石墨反应室；13、感应线圈；21、进气板；22、匀气板；23、导气筒；24、第一进气嘴；25、第二进气嘴；61、石英导气管；62、螺线线圈；63、射频电源；64、波导管。
具体实施方式
[0024]下面详细描述本技术的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0025]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0026]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0027]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种外延炉反应腔的自动清洗装置，用于清除反应腔（11）上沉积的杂质，所述装置包括反应室组件（1），所述反应室组件（1）内设有水平延伸设置的反应腔（11），所述反应腔（11）与导气组件（2）一端连通，其特征在于，所述导气组件（2）另一端通过切换阀（3）或电磁阀（4）与供气组件（5）及远程等离子体发生装置（6）连接，所述远程等离子体发生装置（6）连接有清洗气体供应器（7）。2.根据权利要求1所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其特征在于，所述导气组件（2）包括依次连接的进气板（21）、匀气板（22）和导气筒（23）。3.根据权利要求2所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其特征在于，所述进气板（21）中部设有第一进气嘴（24），所述第一进气嘴（24）通过切换阀（3）与所述供气组件（5）及所述远程等离子体发生装置（6）连接。4.根据权利要求2所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其特征在于，所述进气板（21）设有至少两个的第二进气嘴（25），至少一个所述第二进气嘴（25）通过电磁阀（4）与所述远程等离子体发生装置（6）连接，余下的所述第二进气嘴（25）通过电磁阀（4）与所述供气组件（5）连接。5.根据权利要求4所述的外延炉反应腔的自动清洗装置，其特征在于，所述第二进气嘴（25）为三个，且为水平等距设置，位于中间的所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员：何嵩，罗骞，
申请(专利权)人：季华恒一佛山半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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