【技术实现步骤摘要】
一种可用于光学记录及擦除的全息防伪板及其制备方法
[0001]本专利技术涉及微纳光电子器件制造领域,特别涉及一种可用于光学记录及擦除的全息防伪板及其制备方法。
技术介绍
[0002]传统的防伪制造技术主要以烫金工艺或者激光雕版为主的二维防伪板,其加工周期长,更新较慢,仿制难度较低。光致变色材料,例如非晶态WO3材料,可在248nm的光源照射下会呈现紫色,在1060nm光源照射又可以变成无色。其独特的性质,使其在光学记录和防伪领域具有较大的应用前景。而微透镜阵列作为重要的DOE器件(光学)近些年来在全息成像方面具有较大应用前景,基于莫尔放大原理制造的微透镜阵列,可呈现全息图像的视觉效果。如何设计出一种可反复使用的全息防伪装置是需要研究的课题。
技术实现思路
[0003]本专利技术针对现有技术中存在的技术问题,提供一种可用于光学记录及擦除的全息防伪板及其制备方法,其利用非晶态WO3材料在不同波段紫外线照射下的显色以及可擦除性能,通过微透镜实现各个像素点写入或擦除,改变基底颜色,可重复使用,降低防伪翻版成本;写入完 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种可用于光学记录及擦除的全息防伪板,其特征在于,包括依次分层设置的微透镜阵列层(4)、可见光增透层(2)、衬底层(1)、红外增反层(3)、WO3薄膜(5),所述WO3薄膜(5)上对应微透镜阵列层(4)的位置设有变色图案区域(6)。2.一种可用于光学记录及擦除的全息防伪板的制备方法,其特征在于,包括:在透明的衬底层(1)一面蒸镀可见光增透层(2)、另一面蒸镀红外增反层(3);在可见光增透层(2)上旋涂光刻胶,利用光刻工艺将光刻胶制备为柱体阵列;利用光刻胶热回流工艺将柱体阵列转化为微透镜阵列,得到微透镜阵列层(4);在红外增反层(3)上旋涂WO3纳米浆料并烘干,形成WO3薄膜(5)。3.根据权利要求2所述一种可用于光学记录及擦除的全息防伪板的制备方法,其特征在于,所述柱体阵列中,单个柱体直径为80-100μm,高度为10-15μm,间距为5-10μm。4.一种可用于光学记录及擦除的全息防伪板的使用方法,基于权利要求1所述的一种可用于光学记录及擦除的全息防伪板,其特征在于,包括步进式写入,所述步进式写入包括:写入光通过微透镜阵列层(4)的单个微透镜到达WO3薄...
【专利技术属性】
技术研发人员:于圣韬,桂成群,李华容,曹振庭,李春阳,薛兆丰,
申请(专利权)人:湖北宜美特全息科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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