【技术实现步骤摘要】
一种氟硼吡咯衍生物及其制备方法和应用
[0001]本专利申请涉及有机光敏剂材料
，更具体地，涉及一种氟硼吡咯衍生物及其制备方法和应用。
技术介绍
[0002]传统三重态光敏剂通常指的是有机过渡金属配合物类光敏剂。然而，贵金属的使用无法回避对其地球储量有限，成本高，环境不友好，存在潜在的生物毒性等缺点的考虑。近年来，不含有过渡金属类有机光敏剂已成为国内外研究工作的重点。在常见的有机发色团中，氟硼吡咯在近二三十年正引起越来越广泛的关注。该染料具有可见光吸收能力强，溶解性好，光稳定性高，荧光量子产率高，荧光光谱峰尖锐，易于结构修饰，可修饰位点多等一系列独特的光物理特性。
[0003]光催化则是目前有机光敏剂材料的重要应用方向之一，是一种使光借助光敏剂引发有机氧化还原反应的技术，可以起到净化污染物或合成物质等作用，在能源转型和能源革命如火如荼的时代背景下，更是凸显其绿色清洁，环境友好，可持续发展的良好特性。
[0004]然而截止目前，基于氟硼吡咯设计的有机光敏剂材料虽然已有很多报道，但在光催化领域上的应用研究却...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种氟硼吡咯衍生物，可用作光敏剂，其特征在于：具有如式(I)所示化学结构：式(I)其中，R可选自如下结构式a～i中的任一种：其中，含四羟基有机基团桥键，可选自如下结构式中j～r中的一种：
2.根据权利要求1所述氟硼吡咯衍生物，其特征在于：R选自如下结构中的任一种：3.权利要求2所述氟硼吡咯衍生物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：芳基醛、三氟乙酸、二甲基吡咯、催化剂、溶剂混合，通过脱水缩合反应和氧化脱氢反应，一锅法制得芳基二吡咯，其中所述芳基醛的结构为芳基醛的结构为S2：将步骤S1制得的芳基二吡咯、三乙胺、三氟硼化乙醚、溶剂混合，通过硼氮络合反应制得氟硼吡咯，其中所述芳基二吡咯化合物的结构式为
所述氟硼吡咯的结构式为所述氟硼吡咯的结构式为S3：将步骤S2制得的氟硼吡咯、三氯化铝、1,2,4,5
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苯四酚、乙腈、溶剂混合，通过亲核取代反应制得目标产物式(I)化合物。4.根据权利要求3所述氟硼吡咯衍生物的制备方法，其特征在于：所述步骤S1中芳基醛、三氟乙酸、二甲基吡咯和催化剂摩尔比为(1～1.2...
【专利技术属性】
技术研发人员：袁展翔，籍少敏，蔡淑清，穆罕默德，
申请(专利权)人：广东工业大学，
类型：发明
国别省市：
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