一种原位三维光刻的方法及其设备技术

本发明专利技术涉及一种原位三维光刻的方法及其设备，包括第一准直透镜组、第二准直透镜组、二向色镜、聚焦透镜组、匀光模组、第三准直透镜组、反射镜、第一分光镜、第二分光镜、第三分光镜、相机、光掩模板及电动旋转装置，所述二向色镜的上方设置有第一准直透镜组，所述二向色镜的后方设置有第二准直透镜组，所述二向色镜的前方依次设置有聚焦透镜组、匀光模组第三准直透镜组及反射镜，所述反射镜的前方设置有第一分光镜，所述第一分光镜的后方设置有光掩模板，所述第一分光镜的前方依次设置有第二分光镜和第三分光镜，所述第三分光镜的上方设置有相机，所述第三分光镜的下方设置有电动旋转装置。本发明专利技术能实现原位的三维光刻，提高了套刻的精度。的精度。的精度。

【技术实现步骤摘要】
一种原位三维光刻的方法及其设备


[0001]本专利技术属于光刻机
，尤其涉及一种原位三维光刻的方法及其设备。

技术介绍

[0002]光刻技术在微纳加工和当代集成电路领域是一种不可或缺的技术，常见的光刻技术包含接触式、接近式和投影式。接触式会导致掩模板的污染，接近式由于引入间隙，对于工艺水平提高了更高的要求。投影式则能够有效地避免了以上的问题，同时对于光刻图形的设计具有更高的灵活性。常见的有激光直写和DMD投影两种方式，DMD投影光刻采用的是图形拼接技术，所以在效率上有着更加明显的优势。
[0003]现有的三维光刻：第一种是涂一次胶，然后利用灰度曝光，在不同的位置可以实现不同光强的曝光，实现三维光刻，灰度光刻对于光刻工艺有较高的要求；第二种是先进行第一次光刻，显影后刻出第一层图形，然后涂胶对准进行第二次光刻，最终实现三维光刻，该过程在第一次光刻后需要取下来进行显影后，再次光刻需要进行精准套刻，存在误差。

技术实现思路

[0004]为解决上述技术问题，本专利技术的目的是提供一种原位三维光刻的方法及其设备。
[0005]为实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案：
[0006]一种原位三维光刻的方法，包括以下步骤：
[0007]步骤1：紫外光和指引光分别通过第一准直透镜模组和第二准直透镜模组进行准直处理；
[0008]步骤2：步骤1中的两种光通过二向色镜后进行合束，接着再通过聚焦透镜组聚焦在匀光模组的入射端面；
[0009]步骤3：通过匀光模组射出的光通过第三准直透镜组射入反光镜上；
[0010]步骤4：通过反射镜，将步骤3中光通过第一分光镜将一部分光射入至光掩模板；
[0011]步骤5：反射回来的光将带着光掩模板上面的信息，通过第一分光片和第二分光片与照明光实现合束；
[0012]步骤6：步骤5中合束的光通过第三分光片射入样品上，照射出光掩模板上面的信息；
[0013]步骤7：样品放置在样品吸盘上，通过真空泵将样品固定在样品吸盘上，同时样品吸盘内置设置有加热板，样品吸盘装在电动旋转台上；
[0014]步骤8：通过步骤6反馈的信息，同时结合步骤7的样品吸盘旋转工作，可使样品实现原位三维光刻。
[0015]优选地，所述的一种原位三维光刻的方法，所述光掩模板上面的信息为图形结构。
[0016]优选地，所述的一种原位三维光刻的方法，所述步骤6中通过第三分光片将步骤5中合束的光反射到相机中可以对样品进行实时成像观测。
[0017]一种原位三维光刻设备，包括第一准直透镜组、第二准直透镜组、二向色镜、聚焦
透镜组、匀光模组、第三准直透镜组、反射镜、第一分光镜、第二分光镜、第三分光镜、相机、光掩模板及电动旋转装置，所述二向色镜的上方设置有第一准直透镜组，所述二向色镜的后方设置有第二准直透镜组，所述二向色镜的前方依次设置有聚焦透镜组、匀光模组第三准直透镜组及反射镜，所述反射镜的前方设置有第一分光镜，所述第一分光镜的后方设置有光掩模板，所述第一分光镜的前方依次设置有第二分光镜和第三分光镜，所述第三分光镜的上方设置有相机，所述第三分光镜的下方设置有电动旋转装置。
[0018]优选地，所述的一种原位三维光刻的方法，所述电动旋转装置包括旋转台，所述旋转台内设置有电机，所述旋转台上设置有样品吸盘，所述样品吸盘与电机相驱动连接。
[0019]借由上述方案，本专利技术至少具有以下优点：
[0020]1、本专利技术可以在原位进行涂胶和加热，不仅可以实现三维光刻功能，且还能提高套刻的精度。
[0021]2、本专利技术中光掩模板的方式，相比于传统接触式的掩模板，这种方法不会污染掩模板，同时灵活性更高，本专利技术还能提高工作效率。
[0022]上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本专利技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
[0023]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0024]图1是本专利技术的流程示意图。
具体实施方式
[0025]为了使本专利技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0026]需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
[0027]需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0028]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0029]实施例
[0030]如图1所示，一种原位三维光刻设备，包括第一准直透镜组1、第二准直透镜组2、二向色镜3、聚焦透镜组4、匀光模组5、第三准直透镜组6、反射镜7、第一分光镜8、第二分光镜9第三分光镜10、相机11、光掩模板12及电动旋转装置13，所述二向色镜3的上方设置有第一准直透镜组1，所述二向色镜3的后方设置有第二准直透镜组2，所述二向色镜3的前方依次设置有聚焦透镜组4、匀光模组5第三准直透镜组6及反射镜7，所述反射镜7的前方设置有第一分光镜8，所述第一分光镜8的后方设置有光掩模板12，所述第一分光镜8的前方依次设置有第二分光镜9和第三分光镜10，所述第三分光镜10的上方设置有相机11，所述第三分光镜10的下方设置有电动旋转装置13。
[0031]本专利技术中所述电动旋转装置13包括旋转台，所述旋转台内设置有电机，所述旋转台上设置有样品吸盘，所述样品吸盘与电机相驱动连接。
[0032]同时在旋转台内还设置有加热装置，对样品吸盘上的产品进行加热处理。
[0033]一种原位三维光刻的方法，包括以下步骤：
[0034]步骤1：紫外光和指引光分别通过第一准直透镜模组和第二准直透镜模组进行准直处理；
[0035]步骤2：步骤1中的两种光通过二向色镜后进行合束，接着再通过聚焦透镜组聚焦在匀本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种原位三维光刻的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：紫外光和指引光分别通过第一准直透镜模组和第二准直透镜模组进行准直处理；步骤2：步骤1中的两种光通过二向色镜后进行合束，接着再通过聚焦透镜组聚焦在匀光模组的入射端面；步骤3：通过匀光模组射出的光通过第三准直透镜组射入反光镜上；步骤4：通过反射镜，将步骤3中光通过第一分光镜将一部分光射入至光掩模板；步骤5：反射回来的光将带着光掩模板上面的信息，通过第一分光片和第二分光片与照明光实现合束；步骤6：步骤5中合束的光通过第三分光片射入样品上，照射出光掩模板上面的信息；步骤7：样品放置在样品吸盘上，通过真空泵将样品固定在样品吸盘上，同时样品吸盘内置设置有加热板，样品吸盘装在电动旋转台上；步骤8：通过步骤6反馈的信息，同时结合步骤7的样品吸盘旋转工作，可使样品实现原位三维光刻。2.根据权利要求1所述的一种原位三维光刻的方法，其特征在于：所述光掩模板上面的信息为图形结构。3.根据权利要求1所述的一种原位三维光刻的方法，其特征在于：所述步骤6中通过第三分光片将步骤5中合束的光反射到相机中可以对样品进行实...

【专利技术属性】
技术研发人员：严振中，吴阳，
申请(专利权)人：赫智科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：