一种纳米压印的方法技术

技术编号:35685900 阅读:7 留言:0更新日期:2022-11-23 14:31
本申请实施例提供了一种纳米压印的方法。该纳米压印的方法包括:提供压印模板,所述压印模板具有压印结构;提供基板,在所述基板的一表面上涂覆压印胶形成压印胶层;通过所述压印模板对所述压印胶层进行多次压印,其中当前压印时的压力值相较于上一次压印时的压印值增大;固化所述压印胶层,并将所述压印模板从所述压印胶层上脱模。本申请实施例提供的纳米压印的方法减少了压印胶层中的气泡,甚至使得压印胶层中没有气泡,进而可以避免出现残次品产品的情况,从而可以提升产品质量。从而可以提升产品质量。从而可以提升产品质量。

【技术实现步骤摘要】
一种纳米压印的方法


[0001]本申请实施例涉及纳米压印
,更具体地,本申请实施例涉及一种纳米压印的方法。

技术介绍

[0002]纳米压印技术,是通过压印胶辅助,将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。该技术通过机械转移的手段,达到了超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重要加工手段。
[0003]纳米压印工艺是指在压印模具与基材之间布设胶水,并使得压印模具上的预设图形转印以形成胶水层的一种工艺。
[0004]然而,由于胶水中通常会存在气泡,导致胶水层中也会存在气泡,尤其是当压印模具上的预设图形所对应的胶水层中存在气泡时,会使得由该压印模具压印得到的产品中也存在气泡或者残缺等,影响产品质量。

技术实现思路

[0005]本申请的目的在于提供一种纳米压印的方法新技术方案。
[0006]第一方面,本申请提供了一种纳米压印的方法。该纳米压印的方法包括:提供压印模板,所述压印模板具有压印结构;
[0007]提供基板,在所述基板的一表面上涂覆压印胶形成压印胶层;
[0008]通过所述压印模板对所述压印胶层进行多次压印,其中当前压印时的压力值相较于上一次压印时的压印值增大;
[0009]固化所述压印胶层,并将所述压印模板从所述压印胶层上脱模。
[0010]可选地,通过所述压印模板对所述压印胶层进行多次压印的步骤包括,多次压印过程中压印模板是相同的,并且每一次压印时,所述压印模板的压印位置相同。
[0011]可选地,在所述基板的一表面上涂覆压印胶形成压印胶层的步骤之后,还包括:
[0012]对所述压印胶层进行烘烤处理,其中烘烤的温度为60℃

100℃,烘烤的时间小于2分钟。
[0013]可选地,当前压印时的压印速度相较于上一次压印时的压印速度减慢。
[0014]可选地,通过所述压印模板对所述压印胶进行多次压印,其中2次≤压印次数≤4次。
[0015]可选地,第一次压印的压印值为2kpa

4kpa;第二次压印的压力值为第一次压印值的至少3倍。
[0016]可选地,第一次压印的压印速度大于10mm/s;第二次压印的压印速度为小于10mm/s。
[0017]可选地,将所述压印模板从所述压印胶层上脱模之后,还包括:刻蚀去除多余的压印胶层。
[0018]可选地,在所述压印模板对所述压印胶层进行第一次压印之前,还包括:
[0019]在所述压印模板的表面形成防粘连层。
[0020]可选地,固定所述压印胶的方法包括:通过紫外线照射的方法对所述压印胶进行固化。
[0021]根据本申请的实施例,通过对基板上的压印胶层进行多次压印,并且每次压印过程中的压力值逐渐增大,使得压印过程中以减少压印胶层中的气泡,甚至使得压印胶层中没有气泡,进而可以避免出现残次品产品的情况,从而可以提升产品质量。
[0022]通过以下参照附图对本说明书的示例性实施例的详细描述,本说明书的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
[0023]被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本说明书的实施例,并且连同其说明一起用于解释本说明书的原理。
[0024]图1所示为本申请纳米压印的方法的流程图。
具体实施方式
[0025]现在将参照附图来详细描述本申请的各种示例性实施例。应注意到:除非另外具体说明,否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本申请的范围。
[0026]以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的,决不作为对本申请及其应用或使用的任何限制。
[0027]对于相关领域普通技术人员已知的技术和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术和设备应当被视为说明书的一部分。
[0028]在这里示出和讨论的所有例子中,任何具体值应被解释为仅仅是示例性的,而不是作为限制。因此,示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。
[0029]应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
[0030]传统紫外线常温压印设备在空气中进行纳米压印时,通常会在纳米压印模板的模具腔内陷入空气,导致气泡缺陷的生成,导致压印缺陷,压印结构的性能下降。在现有技术中,为了减少压印胶层中气泡的产生,会额外地设置待抽真空系统的吸盘,通过吸盘的吸附作用力,将压印过程中压印胶层中形成的气泡去除。但是这样则会额外的增加生产成本,并且使得压印过程较为繁琐。
[0031]基于上述技术问题,本申请实施例提供了一种纳米压印的方法,以解决目前没有更好的办法以去除压印胶层中气泡的技术问题。
[0032]下面结合附图1对本申请实施例提供的纳米压印的方法行详细地描述。
[0033]参照图1所示,所述纳米压印的方法包括:
[0034]S101:提供压印模板,所述压印模板具有压印结构;
[0035]S102:提供基板,在所述基板的一表面上涂覆压印胶形成压印胶层;
[0036]S103:通过所述压印模板对所述压印胶层进行多次压印,其中当前压印时的压力
值相较于上一次压印时的压印值增大;
[0037]S104:固化所述压印胶层,并将所述压印模板从所述压印胶层上脱模。
[0038]在步骤S101中,提供压印模板,其中压印模板为软质纳米压印模板。其中软质纳米压印模板的材质为聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚四氟乙烯(Teflon)或全氟聚醚(PFPE)。
[0039]在压印模板上预先形成压印结构,其中压印结构可以为纳米压印结构,或者亚微纳米压印结构。
[0040]在步骤S102中,提供一基板,其中基板可以为玻璃晶圆。在基板的一表面上旋涂一层具有流动性的压印胶形成压印胶层。例如压印胶可以为具有流动性的紫外胶水,在压印过程中,压印胶能够填充在压印结构中。
[0041]在步骤S103中,通过压印模板对压印胶进行压印的过程为:将压印模板放置在基板上方,并且压印模板的压印结构与压印胶层接触。通过纳米压印设备向压印模板施加压力,压印模板对压印胶层进行压印。例如在一个具体的实施例中,沿压印模板的长度方向,压印模板具有首端和末端,纳米压印设备从压印模板的首端运行至压印模板的末端,完成一次压印过程。或者在另一个具体的实施例中,纳米压印设备控制压印模块整体下降,压印模板下降一次完成一次压印过程。例如纳米压印设备可以为滚轮,或者本领域技术人员所常用语的其他纳米压印设备。
[0042]在该实施例中,借助纳米压印设备(在纳米压印过程中均需有纳米压印设备),通过压印模板对压印胶层进行多次压印(至少两次压印),并且限定当前压印时的压力值相较于上一次压印的压印值增大,使得随着压印胶层中的气泡随着压印次数的逐渐增多,压印胶层中的气泡逐渐减少。
[0043]具体地,本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种纳米压印的方法,其特征在于,所述方法包括:提供压印模板,所述压印模板具有压印结构;提供基板,在所述基板的一表面上涂覆压印胶形成压印胶层;通过所述压印模板对所述压印胶层进行多次压印,其中当前压印时的压力值相较于上一次压印时的压印值增大;固化所述压印胶层,并将所述压印模板从所述压印胶层上脱模。2.根据权利要求1所述的纳米压印的方法,其特征在于,通过所述压印模板对所述压印胶层进行多次压印的步骤包括,多次压印过程中压印模板是相同的,并且每一次压印时,所述压印模板的压印位置相同。3.根据权利要求1所述的纳米压印的方法,其特征在于,在所述基板的一表面上涂覆压印胶形成压印胶层的步骤之后,还包括:对所述压印胶层进行烘烤处理,其中烘烤的温度为60℃

100℃,烘烤的时间小于2分钟。4.根据权利要求1所述的纳米压印的方法,其特征在于,当前压印时的压印速度相较于上一次压印时的压印速度减慢。5....

【专利技术属性】
技术研发人员:张玉良李莹吾晓饶轶
申请(专利权)人:歌尔光学科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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