一种转印扩散膜的制备方法技术

本发明专利技术提供了一种转印扩散膜的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：S1：改性微结构模具预制

【技术实现步骤摘要】
一种转印扩散膜的制备方法


[0001]本专利技术涉及扩散膜制备
，尤其涉及一种转印扩散膜的制备方法。

技术介绍

[0002]扩散膜是是应用于液晶显示器的背光模组中最非常重要的光学膜之一，其主要的功能是将背光中光源发射出来的光进行分散匀化，为达到光线均匀分散的条件，其利用树脂、PET、有机粒子之间的折射率差，有机粒子的填充、漫反射功能，将光线分散，并具有一定的雾度以遮蔽灯影；
[0003]为了达到良好的光线散射跟遮蔽效果，一般会采用如下办法制备扩散膜：先将溶剂型树脂胶水跟有机粒子、固化剂、助剂按照一定比例配成涂液，将此涂液涂到PET表面，经过烘箱把溶剂挥发后，固化成型，在PET表面形成一层带有有机粒子的胶层，即为扩散膜。
[0004]专利号CN106908871A公开了一种液晶显示器中背光源使用的扩散膜，尤其涉及一种转印扩散膜的制备方法。为了解决现有扩散膜的制备工艺要求精密的涂布设备及使用大量有机溶剂的问题，本专利技术提供一种转印扩散膜的制备方法。所述制备方法包括下述步骤：(1)制备转印模板：在基材层的表面涂布聚氨酯层，在聚氨酯层的表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，贴上扩散膜并经过UV照射后，剥离扩散膜，无溶剂型紫外固化树脂胶水形成凹面结构；(2)在基材层的两个表面分别涂布第一聚氨酯层和第二聚氨酯层；在第一聚氨酯层的表面涂布无溶剂型紫外固化树脂胶水，贴上步骤(1)得到的转印模板，经过UV照射后，剥离转印模板，得到转印扩散膜。该制备方法工艺简单、易实现。
[0005]现有技术存在以下不足：现有扩散膜制备时，由于微结构模具的机械性能差，从而在制备过程中当模具受外力碰撞时，内部的扩散膜容易断裂，制备过程中扩散膜得不到良好的保护，且扩散膜的制备材料单一，成型后的扩散膜抗拉伸以及耐磨性差，使用寿命短。

技术实现思路

[0006]本专利技术针对现有技术的不足，提供了一种转印扩散膜的制备方法。
[0007]本专利技术通过以下技术手段实现解决上述技术问题的：一种转印扩散膜的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
[0008]S1：改性微结构模具预制
[0009]A、滴加光刻胶后通过硅片甩胶，取下硅片并依次烘干、通过紫外光照射、曝光、二次烘干后显影并清洗得到光刻母模板；
[0010]B、配置聚二甲基硅氧烷抽真空后，浇注在光刻母膜板上，放于真空干燥烘箱中固化，聚二甲基硅氧烷固化脱模后得到改性微结构模具；
[0011]S2：扩散膜制备
[0012]C、低聚物、单体、光引发剂和添加剂按照比例，通过均匀混合、抽真空以及静置后得到光固化物料；
[0013]D、光固化物料均匀涂敷在基材上，用改性微结构模具压印，并通过紫外光源照射
使光固化物料固化在基材表面得到具有表面微结构的转印扩散膜。
[0014]优选的，步骤S1中，光刻胶滴加到硅片的正中间区域，静置1min开始甩胶，第一转速500rad/min，持续10s，第二转速2000rad/min，持续30s。
[0015]优选的，步骤S1中，硅片第一次烘干选用温度65℃以及100℃的烘胶台，先于65℃条件热烘1min，然后换至100℃热烘5min。
[0016]优选的，步骤S1中，显影时，硅片置于显影液中，显影1.5min后取出，采用异丙醇溶液和去离子水淋洗硅片表面，再用压缩空气吹干。
[0017]优选的，步骤S1中，聚二甲基硅氧烷按聚合体与固化剂10:1的重量比例配置，配置后抽真空处理，真空干燥烘箱常温抽气1h，然后提高烘箱温度为150℃，静置10min。
[0018]优选的，所述聚二甲基硅氧烷物料所处环境室温常温为25
‑
30℃，置于真空状态的烘箱36h。
[0019]优选的，所述基材为PC薄膜。
[0020]优选的，所述低聚物、单体、光引发剂和添加剂的配比为1:1:0.2:0.3。
[0021]优选的，所述低聚物为聚氨酯丙烯酸酯，所述添加剂为流平剂。
[0022]优选的，所述单体为乙氧基乙氧基乙基丙烯酸酯、二缩三丙二醇二丙烯酸酯以及三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。
[0023]本专利技术的有益效果：
[0024]1、本专利技术通过低聚物、单体、光引发剂和添加剂制备光固化物涂敷在基材后，再通过改性微结构模具压印成型，有效提高扩散膜的抗拉伸性以及耐磨性，延长扩散膜的使用寿命；
[0025]2、本专利技术通过改性微结构模具压印成型扩散膜，在制备过程中，成型制品都具有弹性，在机械振动和冷热循环等恶劣环境中，能够抗震与减缓机械震动，保证扩散膜不被破坏，并且可多次重复使用。
附图说明
[0026]图1为本专利技术的改性微结构模具的工艺流程图。
具体实施方式
[0027]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0028]实施例1
[0029]请参阅图1所示，本实施例所述一种转印扩散膜的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：
[0030]模具加工：通过金刚石切削法、激光直写法或光刻翻印法加工模具，其中，
[0031](1)金刚石切削法：在加工时对基板的平整度有很高要求，刀具的振动和惯性误差也会导致制品的尖锐特征被破坏，使得所加工的微结构阵列出现较大的误差，严重影响微结构阵列的成型精度和最终性能；
[0032](2)激光直写法：加工成本高，而且由于其自身工艺限制，难以成型高面形一致性的微结构单元；
[0033](3)光刻翻印法：精度高、成本低，本实施例中，优选光刻翻印法作为模具加工方式。
[0034]材料选择：模具所选材料为有机硅橡胶，有机硅橡胶是一种具有弹性体性能的高分子有机硅化合物一聚二甲基硅氧烷，聚二甲基硅氧烷材料具有良好的物理性能和化学性能，具体如下：
[0035](1)脱膜性，成型元件表面能较低，表面光滑疏水，产品易脱膜；
[0036](2)阻燃性，在UL94测试标准下，其可燃性等级为V
‑
1；
[0037](3)低应力保护，配方合理的条件下，无论厚薄，成型制品都具有弹性，在机械振动和冷热循环等恶劣环境中，能够抗震与减缓机械震动，保证元器件不被破坏；
[0038](4)优良的光学性能，可用于要求透明的场合，可对元件实现裸视检查；
[0039](5)稳定性，服务温度范围在
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45
‑
200℃之间，抗解聚，在较大温度变化范围中都能保持弹性与柔初性；
[0040](6)低毒性，在常规的工业操作中，无需特殊的通风条件，不会产生腐蚀，无特别的注意事项；
[0041](7)环保性，其固化反应属于加成反应，在此过程本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种转印扩散膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括以下步骤：S1：改性微结构模具预制A、滴加光刻胶后通过硅片甩胶，取下硅片并依次烘干、通过紫外光照射、曝光、二次烘干后显影并清洗得到光刻母模板；B、配置聚二甲基硅氧烷抽真空后，浇注在光刻母膜板上，放于真空干燥烘箱中固化，聚二甲基硅氧烷固化脱模后得到改性微结构模具；S2：扩散膜制备C、低聚物、单体、光引发剂和添加剂按照比例，通过均匀混合、抽真空以及静置后得到光固化物料；D、光固化物料均匀涂敷在基材上，用改性微结构模具压印，并通过紫外光源照射使光固化物料固化在基材表面得到具有表面微结构的转印扩散膜。2.根据权利要求1所述的一种转印扩散膜的制备方法，其特征在于：步骤S1中，光刻胶滴加到硅片的正中间区域，静置1min开始甩胶，第一转速500rad/min，持续10s，第二转速2000rad/min，持续30s。3.根据权利要求2所述的一种转印扩散膜的制备方法，其特征在于：步骤S1中，硅片第一次烘干选用温度65℃以及100℃的烘胶台，先于65℃条件热烘1min，然后换至100℃热烘5min。4.根据权利要求3所述的一种转印扩散膜的制备方法，其特征在于：步骤S...

【专利技术属性】
技术研发人员：李红军，杨晋，
申请(专利权)人：安徽思瑞盟新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：