【技术实现步骤摘要】
抽真空系统
[0001]本技术涉及真空炉
,尤其是涉及一种抽真空系统。
技术介绍
[0002]相关技术中指出,现有单晶炉在抽真空过程中会出现反气、倒吸现象。反气、倒吸是指通过真空泵将机台腔体由常压抽至负压的过程中,出现在抽空管道内及过滤罐内部的粉尘挥发物回流到机台腔体内的一种现象。这一现象会严重影响到机台真空腔体内洁净状况,影响晶体品质。
技术实现思路
[0003]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本技术在于提出一种抽真空系统,所述抽真空系统通过在主管上设置可以改变气体流量的调节结构,来减小炉内抽真空过程中气体的流量,进而减小抽真空过程中炉体反气、倒吸的过程,有利于提升生产效率以及产品品质。
[0004]根据本技术的抽真空系统,包括:炉体,所述炉体具有多个第一抽气口;主泵,所述主泵具有第一入口端;主管,所述主管连接在多个所述第一抽气口与所述第一入口端之间,所述主管上设有用于调节所述主管内单位时间所通过的气体流量的调节结构;压力检测器,所述压力检测器设于所述炉体用于检测所述炉体内的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种抽真空系统,其特征在于,包括:炉体,所述炉体具有多个第一抽气口;主泵,所述主泵具有第一入口端;主管,所述主管连接在多个所述第一抽气口与所述第一入口端之间,所述主管上设有用于调节所述主管内单位时间所通过的气体流量的调节结构;压力检测器,所述压力检测器设于所述炉体用于检测所述炉体内的压力,所述压力检测器与所述调节结构通讯连接。2.根据权利要求1所述的抽真空系统,其特征在于,所述主管的一部分形成为第一管段;所述调节结构包括:第一支管,所述第一支管的两端分别与所述第一管段的两端相连,所述第一支管的流通截面面积小于所述第一管段的流通截面面积的五分之一;阀组件,所述阀组件设于所述第一支管和/或所述主管,所述阀组件构造成使所述抽气口流出的气流可切换地进入所述第一支管或所述第一管段。3.根据权利要求2所述的抽真空系统,其特征在于,所述第一支管的流通截面面积小于所述第一管段的流通截面面积的十分之一。4.根据权利要求2所述的抽真空系统,其特征在于,所述阀组件包括:第一控制阀和第二控制阀,所述第一控制阀串接于所述第一管段,所述第二控制阀串接于所述第一支管。5.根据权利要求1所述的抽真空系统,其特征在于,还包括:辅泵,所述辅泵连接在所述主管的远离所述炉体的一端,切换件,所述切换件连接在所述主管与所述主泵和所述辅泵之间,所述切...
【专利技术属性】
技术研发人员:颜子棋,
申请(专利权)人:徐州鑫晶半导体科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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