一种氧化槽分布器制造技术

本实用新型专利技术公开了一种氧化槽分布器，涉及氧化槽技术领域，安装于氧化槽内，包括主管道及与主管道连通的若干分布单元，所述分布单元通过其顶部的支管与主管道连通，所述分布单元、支管转动连接，所述分布单元内沿支管的轴线方向设有空腔，所述空腔呈圆柱形，所述分布单元上均匀设有若干微通道，所述微通道、空腔连通，位于同一平面内的所述微通道呈中心对称排列，所述微通道的轴线为涡状线，还设有流体分配组件，可改变各个分布单元的流量。本实用新型专利技术用于将氧化剂均匀分散到氧化槽内，尤其适用于过氧化氢等强氧化剂的分散，能够使氧化剂迅速扩散到溶液中，避免氧化过程中产生暴沸现象，无需对氧化剂进行稀释。无需对氧化剂进行稀释。无需对氧化剂进行稀释。

【技术实现步骤摘要】
一种氧化槽分布器


[0001]本技术涉及氧化槽
，具体为一种氧化槽分布器。

技术介绍

[0002]在化工产品的生产中，经常需要将一些低价态的盐氧化为高价态，例如将硫代硫酸铵氧化为硫酸铵和硫磺，该氧化过程通常在氧化槽中进行：将待氧化的物料溶液输入氧化槽，然后通入氧气、空气、过氧化氢等氧化剂，充分反应后即可获得氧化产物。
[0003]分布器是氧化槽中的重要组件，用于将氧气等氧化剂输入氧化槽，并尽可能地使其与氧化槽中的溶液混合均匀。使用空气、富氧气体作为氧化剂时，氧化剂通过分布器分散到溶液中后，其中的氧气需要先溶解到溶液中，然后与溶液中的还原性物质接触并将其氧化，因此氧化反应不剧烈，一般通过控制氧化剂的流量来控制氧化过程，对分布器的分布效率、结构没有特殊要求。使用过氧化氢、硫酸等液态强氧化剂进行氧化时，氧化剂不需要经过溶解过程，离开分布器后能立即与溶液中的还原性物质发生反应，且氧化性更强，氧化反应十分剧烈。由于氧化过程通常会放出大量热量，容易发生暴沸，使氧化槽内的温度、压力发生剧烈变化，影响生产安全。
[0004]现有技术多是通过增强降温能力来控制氧化槽的温度，如申请号为CN202023341747.3的专利申请提出一种氧化槽用制冷系统，通过换热机构对氧化槽进行降温，又如申请号为CN201920626543.2的专利申请提出一种氧化槽用直冷降温系统，利用低温的循环气体对氧化槽进行降温。
[0005]使用过氧化氢等强氧化剂时，氧化槽中局部升温现象明显，温度分布极度不均匀，这是导致暴沸现象的主要原因，目前为了控制暴沸现象，用水对氧化剂进行了稀释，以控制氧化槽温度，但稀释后的氧化剂同样对氧化槽中的溶液产生了稀释效果，使溶液浓度明显降低，在后续的浓缩结晶工序中需要耗费更多的能量。

技术实现思路

[0006]本技术的目的在于：提供一种氧化槽分布器，适用于以过氧化氢、硫酸等作为氧化剂的氧化过程，能够抑制氧化槽暴沸现象的产生，且无需对氧化剂进行稀释，以解决现有的氧化槽使用强氧化剂时容易暴沸的问题。
[0007]本技术采用的技术方案如下：
[0008]一种氧化槽分布器，安装于氧化槽内，包括主管道及与主管道连通的若干分布单元，所述分布单元通过其顶部的支管与主管道连通，所述分布单元、支管转动连接，所述分布单元内沿支管的轴线方向设有空腔，所述空腔呈圆柱形，所述分布单元上均匀设有若干微通道，所述微通道、空腔连通，位于同一平面内的所述微通道呈中心对称排列，所述微通道的直径不大于0.5mm，全部所述微通道的横截面积之和不超过支管横截面积的1/5，所述微通道的轴线为涡状线。
[0009]优选的，所述微通道沿支管的轴线方向设置有多组。
[0010]优选的，所述主管道、支管的连接处设有流体分配组件，所述流体分配组件用于改变分布单元的流量。
[0011]优选的，所述流体分配组件包括转轴及上下连通的第一壳体、第二壳体，所述第一壳体的上端与主管道连通，所述第二壳体与支管连通，所述第一壳体、第二壳体及主管道的出口同轴，所述转轴位于第一壳体、第二壳体的轴线上，所述转轴的上端、下端分别与主管道、第二壳体转动连接，所述第二壳体内设有旋转体，所述旋转体、转轴固定连接，所述第一壳体内设有涡轮，所述涡轮、转轴固定连接，所述旋转体的侧面设有缺口，进入所述第二壳体的流体沿缺口进入支管。
[0012]优选的，当所述旋转体转动时，所述缺口最多同时与2个支管连通。
[0013]优选的，所述支管共设有4个，并沿所述第二壳体的轴线均匀分布，所述缺口沿竖直方向贯穿旋转体，所述缺口的投影呈对应的圆心角为90
°
。
[0014]综上所述，由于采用了上述技术方案，本技术的有益效果是：
[0015](1)在分布单元上设置有若干微通道，氧化剂由分布单元中的空腔进入微通道时，由于微通道的横截面积之和远小于支管的横截面积，使氧化剂进入微通道时流速大幅增加，并从微通道的出口喷射到溶液中，可防止氧化剂离开分布器后聚集在分布器出口处，避免分布器出口处发生剧烈氧化反应导致暴沸；
[0016](2)微通道的轴线为涡状线，使离开微通道的氧化剂运动方向与分布单元外壁接近相切，同时，分布单元、支管转动连接，使分布单元能够在流体的推动下相对于支管旋转，通过该设置，微通道喷出的流体的流向会不断变化，使离开微通道的氧化剂的运动路径不断改变，从而实现将氧化剂与分布单元附近的溶液混合均匀的目的；
[0017](3)流体分配组件中的涡轮能够推动旋转体在第二壳体内旋转，当旋转体上的缺口与某个支管的入口连通时，第二壳体内的氧化剂便进入该支管，随着旋转体的转动，与缺口连通的支管不断发生变化，使第二壳体中的氧化剂依次进入不同的支管，从而使主管道中的氧化剂在同一时间内最多只能进入2个分布单元并喷出，能够在主管道中氧化剂流量不变的基础上进一步提高微通道中氧化剂的流速，使氧化剂离开分布单元后扩散的范围更大。
附图说明
[0018]图1为实施例1的立体示意图。
[0019]图2为分布单元的俯视结构图。
[0020]图3为分布单元的主视图。
[0021]图4为分布单元的立体结构图。
[0022]图5为实施例2的立体示意图。
[0023]图6为流体分配组件的立体结构图。
[0024]图7为第二壳体的俯视结构图。
[0025]图中标记：1、氧化槽；2、主管道；3、分布单元；4、支管；5、流体分配组件；301、空腔；302、微通道；501、转轴；502、第一壳体；503、第二壳体；504、旋转体；505、涡轮；5041、缺口。
具体实施方式
[0026]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明，应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0027]实施例1
[0028]如图1～4所示，本实施例提供一种氧化槽分布器，安装于氧化槽1内，用于将过氧化氢、硫酸等强氧化剂分散到氧化槽内的溶液中，该分布器包括主管道2及与主管道2连通的若干分布单元3，在本实施例中，分布单元3的数量为4个，其形状为半球形，并沿主管道2的出口轴线均匀分布。
[0029]分布单元3通过其顶部的支管4与主管道2连通，分布单元3、支管4转动连接，分布单元3内沿支管4的轴线方向设有空腔301，空腔301呈圆柱形，分布单元3上均匀设有若干微通道302，微通道302、空腔301连通，同一平面内设有8根微通道302，并绕空腔301的轴线呈中心对称排列，微通道302的直径为0.2mm，在其它实施例中，可以是任意不大于0.5mm的直径，微通道302沿支管4的轴线方向设置有5组，全部微通道302的横截面积之和不超过支管4横截面积的1/5，具体地，在本实施例中，全部微通道302的横截面积之和为支管4横截面积的1/8，使进入微通道302中的氧化剂流速成倍提高，微通道本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化槽分布器，安装于氧化槽(1)内，包括主管道(2)及与主管道(2)连通的若干分布单元(3)，其特征在于，所述分布单元(3)通过其顶部的支管(4)与主管道(2)连通，所述分布单元(3)、支管(4)转动连接，所述分布单元(3)内沿支管(4)的轴线方向设有空腔(301)，所述空腔(301)呈圆柱形，所述分布单元(3)上均匀设有若干微通道(302)，所述微通道(302)、空腔(301)连通，位于同一平面内的所述微通道(302)呈中心对称排列，所述微通道(302)的直径不大于0.5mm，全部所述微通道(302)的横截面积之和不超过支管(4)横截面积的1/5，所述微通道(302)的轴线为涡状线。2.根据权利要求1所述的一种氧化槽分布器，其特征在于，所述微通道(302)沿支管(4)的轴线方向设置有多组。3.根据权利要求1所述的一种氧化槽分布器，其特征在于，所述主管道(2)、支管(4)的连接处设有流体分配组件(5)，所述流体分配组件(5)用于改变分布单元(3)的流量。4.根据权利要求3所述的一种氧化槽分布器，其特征在于，所述流体分配组件(5)包括转轴(501)及上下连通的第一壳体(502)、第二壳体...

【专利技术属性】
技术研发人员：郜晨昱，万福根，李欣纯，
申请(专利权)人：河南殷之都环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：