一种真空镀膜设备用起弧点火机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜设备用起弧点火机构，包括本体，所述本体为台阶式回转轴结构，所述本体设有用于密封的沟槽，所述本体大圆轴一端设有台阶面，所述本体一端小圆轴上设有键槽，所述本体一端小圆轴上设有用于安装轴用挡圈的卡槽，所述本体另一端小圆轴上设有正方形轴头，所述正方形轴头一面上设有沉孔，所述本体设有螺纹轴，所述螺纹轴圆周外表面上设有平面。本实用新型专利技术的优点是：该机构结构合理，运转灵活、精准到位，在功能上完全满足了起弧的要求；点火角度可调，接触面大，利用率高，起弧效果好；噪音小，密封性好，工作性能稳定，安全可靠；安装拆卸方便，使用时间长，极大地降低了生产成本，保证了镀膜质量。保证了镀膜质量。保证了镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜设备用起弧点火机构
[0001]
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[0002]本技术涉及一种真空镀膜设备用起弧点火结构，属于机械领域。
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技术介绍
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[0004]现有的真空镀膜设备用起弧点火机构，由于结构不合理，导致噪音大、散热慢、磨损大，密封处也容易损坏而漏气，造成真空腔体内部严重污染，严重影响镀膜质量；同时利用率也低，点火碳头与碳靶材接触面有限，造成碳靶材的浪费，另外，设备需要频繁停机检查及清理清洁，导致设备不能连续长时间地正常运转，严重影响工业生产。
[0005]
技术实现思路
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[0006]本技术是为了解决上述不足，提供了一种真空镀膜设备用起弧点火机构。
[0007]本技术的上述目的通过以下的技术方案来实现：一种真空镀膜设备用起弧点火机构，其特征在于：包括本体，所述本体为台阶式回转轴结构，所述本体设有用于密封的沟槽，所述本体大圆轴一端设有台阶面，所述本体一端小圆轴上设有键槽，所述本体一端小圆轴上设有用于安装轴用挡圈的卡槽，所述本体另一端小圆轴上设有正方形轴头，所述正方形轴头 一面上设有沉孔，所述本体设有螺纹轴，所述螺纹轴圆周外表面上设有平面。
[0008]起弧点火机构在设备整个真空镀膜的过程中，对整个设备的稳定性和产品的质量起了非常关键的作用。
[0009]本技术的设计及工作原理：
[0010]真空镀膜设备用起弧点火机构工作原理：起弧点火机构本体为黄铜制作，其与过滤阴极电弧源的阳极连通，在其整个动力传递过程中，以气动马达作为驱动动力，带动一对啮合齿轮传动，再带动本体旋转，通过传感支座上安装光电传感器来控制本体的正反转，从而使点火杆转动一定的角度上下来回摆动，当点火杆上的带正电荷工作的点火碳头运动到低位接触带负电荷的阴极碳靶材表面时产生电弧，电弧击再打在阴极碳靶材表面从而产生碳素离子，并持续稳定地输出镀膜等离子，以保证镀膜设备正常工作，在整个真空镀膜的过程中，对镀膜产品的质量起着非常关键的作用。
[0011]本技术与现有技术相比的优点是：本技术真空镀膜设备用起弧点火机构，其结构合理，运转灵活、精准到位，在功能上完全满足了起弧的要求；点火角度可调，接触面大，利用率高，起弧效果好；噪音小，密封性好，工作性能稳定，安全可靠；安装拆卸方便，使用时间长，极大地降低了生产成本，保证了镀膜质量，同时，镀膜生产效率提高2~3倍。
[0012]附图说明：
[0013]图1是本技术的的外观示意图。
[0014]图2是本技术安装在真空镀膜设备的结构示意图。
[0015]图3是本技术安装在真空镀膜设备的外观示意图。
[0016]具体实施方式：
[0017]下面结合附图对本技术进一步详述。
[0018]如图1所示，一种真空镀膜设备用起弧点火机构，包括本体1，所述本体1为台阶式回转轴结构，所述本体1设有用于密封的沟槽2，所述本体1大圆轴一端设有台阶面3，所述本
体1一端小圆轴上设有键槽4，所述本体1一端小圆轴上设有用于安装轴用挡圈的卡槽9，所述本体1另一端小圆轴上设有正方形轴头5，所述正方形轴头一面上设有沉孔6，所述本体1设有螺纹轴7，所述螺纹轴圆周外表面上设有平面8。
[0019]如图2、图3所示，装配时，先分别将散热器15、感光盘14、齿轮13安装于本体1一 端小圆轴上，再将本体1一端小圆轴固定在底板座10上面的L型轴承座11的轴承12孔内，然后再将本体1另一端设有正方形轴头5小圆轴插入真空镀膜设备内，与过滤阴极电弧源的阳极连接，再将点火杆16安装固定在正方形轴头5上面，再将传感支座17安装固定在底板座10的上面，最后将设有齿轮19、气动马达20的L型气动马达座18安装固定在底板座10的上面。
[0020]本技术的设计及工作原理：
[0021]真空镀膜设备用起弧点火机构工作原理：起弧点火机构本体为黄铜制作，其与过滤阴极电弧源的阳极连通，在其整个动力传递过程中，以气动马达作为驱动动力，带动一对啮合齿轮传动，再带动本体旋转，通过传感支座上安装光电传感器来控制本体的正反转，从而使点火杆转动一定的角度上下来回摆动，当点火杆上的带正电荷工作的点火碳头运动到低位接触带负电荷的阴极碳靶材表面时产生电弧，电弧击再打在阴极碳靶材表面从而产生碳素离子，并持续稳定地输出镀膜等离子，以保证镀膜设备正常工作，在整个真空镀膜的过程中，对镀膜产品的质量起着非常关键的作用。
[0022]以上所述仅为本技术的实施例，并非因此限制本技术的专利范围，凡是利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的
，均同理包括在本技术的专利保护范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备用起弧点火机构，其特征在于：包括本体，所述本体为台阶式回转轴结构，所述本体设有用于密封的沟槽，所述本体大圆轴一端设有台阶面，所述本体一端小圆轴上设有键槽，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴宜生，
申请(专利权)人：广东腾通镀膜科技有限公司，
类型：新型
国别省市：