涂布机及利用其对基片进行涂布的方法技术

本发明专利技术公开了涂布机及利用其对基片进行涂布的方法。所述涂布机包括：基座；承载台，所述承载台设置在所述基座上，用于承载并固定待涂布的基片；刮涂组件，所述刮涂组件设置在所述承载台远离所述基座的一侧，所述刮涂组件用于与所述承载台发生相对旋转时，对所述基片进行涂布。由此，通过刮涂组件与承载台之间的相对旋转来完成对基片的涂布，可以实现涂布液的均匀涂布，得到更为均匀的膜层，从而改善相关技术中直线涂布可能导致的涂布液膜层不均的问题。问题。问题。

【技术实现步骤摘要】
涂布机及利用其对基片进行涂布的方法


[0001]本专利技术涉及钙钛矿太阳能电池涂布工序领域，具体地，涉及涂布机及利用其对基片进行涂布的方法。

技术介绍

[0002]加快清洁能源开发利用是有效途径。太阳能作为重要的清洁能源，其开发利用始终是学界和业界关注的热点。近年来，钙钛矿太阳能电池发展迅速，其认证的光电转换效率屡创新高，已然成为当前光伏研究领域的热点。制备钙钛矿太阳能电池方法主要分为溶液法和真空法。其中，溶液法制备钙钛矿膜层的方法主要有旋涂法、刮涂法、狭缝涂布法以及喷涂法。刮涂法，由于其能够制备均匀的大面积钙钛矿薄膜，被广泛应用于大面积钙钛矿太阳能电池的制备。
[0003]目前，常见的涂布机主要分为刮刀刮涂和刮棒刮涂，基本都是平板式结构。平板式结构涂布机的刮涂方式是对放置在基底的片子进行直线刮涂，这可能会导致片子上下两部分厚度不均。而且现有的涂布机一次只能对一块玻璃基片进行刮涂，每次刮涂结束，要将刮棒或刮刀擦拭干净，还需要进行复位，效率较为低下，工艺繁琐。
[0004]因此，目前的涂布机及利用其对基片进行涂布的方法仍有待改进。

技术实现思路

[0005]本专利技术旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中至少一个。
[0006]在本专利技术的一方面，本专利技术提出了一种涂布机。根据本专利技术的实施例，所述涂布机包括：基座；承载台，所述承载台设置在所述基座上，用于承载并固定待涂布的基片；刮涂组件，所述刮涂组件设置在所述承载台远离所述基座的一侧，所述刮涂组件用于与所述承载台发生相对旋转时，对所述基片进行涂布。由此，通过刮涂组件与承载台之间的相对旋转来完成对基片的涂布，可以实现涂布液的均匀涂布，得到更为均匀的膜层，从而改善相关技术中直线涂布可能导致的涂布液膜层不均的问题。
[0007]根据本专利技术的实施例，所述承载台的形状为圆形、矩形或异形。上述形状的承载台均可以实现相对刮涂组件的旋转，从而实现对基片的涂布。
[0008]根据本专利技术的实施例，所述承载台通过旋转轴设置在所述基座上，所述涂布机进一步包括高度调节螺栓，所述高度调节螺栓贯穿所述旋转轴，所述高度调节螺栓用于调整所述刮涂组件与所述承载台之间的间隙。由此，可以通过高度调节螺栓调节刮涂组件与承载台之间的间隙，从而调节涂布膜层的厚度；并且，高度调节螺栓贯穿旋转轴，可以更好的确保刮涂组件的水平度，从而保证涂布膜层整体厚度的均匀性。
[0009]根据本专利技术的实施例，所述涂布机还包括真空泵，所述承载台具有多个吸附孔，利用所述真空泵和所述吸附孔将所述基片吸附固定在所述承载台的表面。由此，可以将基片更好的吸附固定在承载台的表面，避免刮涂过程中基片位置出现偏移导致的膜层厚度不均等问题。
[0010]根据本专利技术的实施例，所述涂布机还包括圆形轨道，所述圆形轨道设置在所述基座上，且所述圆形轨道与所述刮涂组件的两端滑动连接。由此，可使刮涂组件沿圆形轨道旋转，从而实现对基片的涂布。
[0011]根据本专利技术的实施例，所述刮涂组件为刮刀或刮棒。由此，采用刮刀或刮棒均可以实现对基片的涂布。
[0012]根据本专利技术的实施例，所述承载台的最大长度为30cm
‑
50cm，由此，承载台可以用于放置常规尺寸的基片，并且，涂布机整体所需的放置空间也不会太大。
[0013]在本专利技术的另一方面，本专利技术提出了一种利用前面所述的涂布机对基片进行涂布的方法。根据本专利技术的实施例，利用前面所述的涂布机对基片进行涂布的方法包括：将待涂布的基片固定在所述承载台远离所述基座的表面上；调整刮涂组件与所述承载台之间的间隙；沿所述刮涂组件滴加涂布液，使涂布液滴加在所述基片的一侧；使所述刮涂组件与所述承载台相对旋转，以对所述基片进行涂布。由此，利用上述方法可以将涂布液均匀涂布在基片上，并且，可以一次同时涂布两片或更多片基片，相比于一次只能涂布一片基片的直线涂布方法，能够显著提高涂布效率。
[0014]根据本专利技术的实施例，使所述刮涂组件与所述承载台相对旋转包括：使所述刮涂组件固定，使所述承载台相对所述基座和所述刮涂组件旋转；或者，使所述承载台固定，使所述刮涂组件沿圆形轨道旋转。由此，可以利用承载台与刮涂组件之间的相对旋转，实现对承载台表面的基片的涂布。
[0015]根据本专利技术的实施例，在完成涂布后，通过调节高度调节螺栓使刮涂组件与所述承载台之间的间隙变大，并对所述刮涂组件进行清洁处理。由此，在涂布完成后，不需要拆卸刮涂组件，可以通过简单的操作实现对刮涂组件的清洁，清洁完成后刮涂组件便可以用于下一次涂布。
[0016]根据本专利技术的实施例，利用前面所述的涂布机对基片进行涂布的方法满足以下条件中的至少之一：所述间隙为50μm
‑
500μm；所述承载台或所述刮涂组件的转速为500r/min
‑
6000r/min。由此，可以适用于常用厚度膜层的涂布，并且，能够获得厚度均匀一致的膜层。
附图说明
[0017]本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0018]图1显示了根据本专利技术一个实施例的涂布机的结构示意图；
[0019]图2显示了根据本专利技术另一个实施例的涂布机的结构示意图；
[0020]图3显示了根据本专利技术又一个实施例的涂布机的结构示意图；
[0021]图4显示了根据本专利技术又一个实施例的涂布机的结构示意图；
[0022]图5显示了根据本专利技术又一个实施例的涂布机的结构示意图；
[0023]图6显示了根据本专利技术一个实施例中利用涂布机对基片进行涂布的部分流程示意图；
[0024]图7显示了根据本专利技术另一个实施例中利用涂布机对基片进行涂布的部分流程示意图。
[0025]附图标记说明：
[0026]100：基座；200：承载台；210：吸附孔；300：刮涂组件；400：旋转轴；500：高度调节螺栓；600：圆形轨道；10：基片。
具体实施方式
[0027]下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。
[0028]目前常用的涂布机主要为刮刀涂布机和刮棒涂布机，这两种涂布机对玻璃基片进行直线刮涂，涂布机基底的水平度以及滴液手法均会在一定程度对成膜的均匀性造成影响；此外，每次刮涂只能在一块玻璃基片上完成成膜，较低的效率无法满足钙钛矿太阳能电池的量产化；另外，对玻璃基片的固定方式多采用机械卡扣，在刮涂过程中不可避免会出现玻璃基片的轻微偏移，从而导致成膜质量不佳。
[0029]为了至少在一定程度上缓解或解决上述提及问题中的至少之一，在本专利技术的一方面，本专利技术提出了一种涂布机。根据本专利技术的一些实施例，参考图1至图5，涂布机可以包括基座100、承载台200和刮涂组件300，其中，承载台200设置在基座100上，用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂布机，其特征在于，包括：基座；承载台，所述承载台设置在所述基座上，用于承载并固定待涂布的基片；刮涂组件，所述刮涂组件设置在所述承载台远离所述基座的一侧，所述刮涂组件用于与所述承载台发生相对旋转时，对所述基片进行涂布。2.根据权利要求1所述的涂布机，其特征在于，所述承载台的形状为圆形、矩形或异形。3.根据权利要求1所述的涂布机，其特征在于，所述承载台通过旋转轴设置在所述基座上，所述涂布机进一步包括高度调节螺栓，所述高度调节螺栓贯穿所述旋转轴，所述高度调节螺栓用于调整所述刮涂组件与所述承载台之间的间隙。4.根据权利要求1～3中任一项所述的涂布机，其特征在于，所述涂布机还包括真空泵，所述承载台具有多个吸附孔，利用所述真空泵和所述吸附孔将所述基片吸附固定在所述承载台的表面。5.根据权利要求1～3中任一项所述的涂布机，其特征在于，还包括圆形轨道，所述圆形轨道设置在所述基座上，且所述圆形轨道与所述刮涂组件的两端滑动连接。6.根据权利要求1～3中任一项所述的涂布机，其特征在于，满足以下条件中的至少之一：所述刮涂组件为刮刀或刮棒；所述承...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴迎港，张健，常洲，李斌，
申请(专利权)人：无锡极电光能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：