坩埚垫及坩埚总成制造技术

本实用新型专利技术提供了一种坩埚垫及坩埚总成，包括支撑垫，所述支撑垫上具有定位区；所述支撑垫被配置为：所述支撑垫放置于坩埚的内腔底部时，所述支撑垫相对所述坩埚定位；所述定位区被配置为：所述定位区用于放置源锭或坩埚衬套，且对源锭或坩埚衬套定位，使得源锭或坩埚衬套的外周与坩埚的内侧壁之间的间隙恒定。本实用新型专利技术一方面可以减小源锭的热传导效率，使得坩埚内能够保有更多的热能量，最终可以使源锭蒸发所需要的作业功率降低，利于节能，同时也改善高功率导致的溅源现象；另一方面，支撑垫的设置，可改善散热不均匀引起的源锭形变，改善由于源锭局部形变导致的溅源的现象。改善由于源锭局部形变导致的溅源的现象。改善由于源锭局部形变导致的溅源的现象。

【技术实现步骤摘要】
坩埚垫及坩埚总成


[0001]本技术涉及晶圆制造
，特别涉及一种坩埚垫及坩埚总成。

技术介绍

[0002]电子枪是产生电子束的部件，由直线状螺旋钨阴极、栅极和阳极组成。其原理是：阴极和栅极处于相同的负电位，阳极接地电位。阴极由交流供电加热，使之发射电子，电子受栅极电位的影响，在阳极电压加速下形成会聚的电子束。在磁场的作用下，电子束得到进一步聚焦并偏转270
°
或180
°
射入装有源锭的坩埚中，其动能变成热能使源锭材料蒸发沉积于基片上，达到所需膜层的要求。
[0003]目前源锭通常是直接放置于坩埚中，源锭直接与坩埚底部接触，另外由于源锭的尺寸小于坩埚的内腔尺寸中，源锭直接放置在坩埚的底部，源锭相对坩埚难以精确定位，这容易导致源锭的一侧与坩埚的侧壁产生非正常接触，而源锭的另一侧又与坩埚的侧壁之间具有较大间隙；或者源锭的一侧与坩埚的侧壁间隙较小，而源锭的另一侧又与坩埚的侧壁之间的间隙较大；
[0004]坩埚中的底部和侧部一般均设置有流道，流道内的循环液体无法完全均匀的覆盖坩埚的底部和侧部，则导致坩埚的底部和侧部本身的温度不均匀，源锭的底部直接与坩埚底部接触，则导致源锭的底部的散热不均，而且源锭与坩埚的侧壁之间的间隙变化，也导致源锭的外周散热不均，会导致源锭由于热胀冷缩不一致导致的局部凸起，引发溅源。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种坩埚垫及坩埚总成，该坩埚垫放置于坩埚底部，坩埚垫本身相对坩埚定位，且坩埚垫上具有定位区域，用于对源锭或坩埚衬套进行定位，一方面使得源锭与坩埚底部隔离，另一方面使得源锭或坩埚衬套的外周与坩埚的内侧壁之间的间隙保持恒定，利于使得源锭的底部和侧部散热较为均匀，改善由于源锭由于热胀冷缩不一致导致局部凸起而引发的溅源现象。
[0006]为了解决上述技术问题，提供了一种坩埚垫，包括支撑垫，
[0007]所述支撑垫上具有支撑面，所述支撑面上设置有定位区；
[0008]所述支撑垫被配置为：所述支撑垫放置于坩埚的内腔底部时，所述支撑垫相对所述坩埚定位；
[0009]所述定位区被配置为：所述定位区用于放置源锭或坩埚衬套，所述源锭放置于所述定位区时被定位且所述源锭外周与所述坩埚的内侧壁之间的间隙尺寸保持一致，或，所述坩埚衬套放置于所述定位区时被定位且所述坩埚衬套的外周与所述坩埚的内侧壁之间的间隙尺寸保持一致。
[0010]可选的，所述支撑面上设置有通孔，所述通孔设置于所述定位区并贯通于所述支撑垫上；
[0011]所述通孔被配置为：所述源锭或坩埚衬套具有底部，所述源锭或坩埚衬套放置于
所述定位区时，所述源锭或所述坩埚衬套的底部位于所述通孔内，且所述源锭或所述坩埚衬套的底部与所述坩埚的底部之间具有设定间隙。
[0012]可选的，所述定位区为开设于所述支撑面上的凹槽。
[0013]可选的，所述凹槽呈锥形槽，所述凹槽的大径端与所述支撑面连通。
[0014]可选的，所述通孔与所述凹槽的小径端连通。
[0015]可选的，所述通孔的内径与所述凹槽的小径端内径相同，所述通孔与所述凹槽同轴设置。
[0016]可选的，所述支撑垫放置于坩埚的内腔底部时，所述支撑垫的外周面与所述坩埚的内侧壁适形贴合以使得所述支撑垫相对所述坩埚定位。
[0017]一种坩埚总成，包括上述所述的支撑垫以及坩埚，所述支撑垫放置于所述坩埚的内腔底部。
[0018]可选的，所述坩埚总成还包括坩埚衬套，所述坩埚衬套位于所述坩埚内且放置于所述定位区上。
[0019]可选的，所述坩埚的内腔呈锥形腔，所述锥形腔的大径端作为所述坩埚的开口端，所述坩埚衬套的外周面呈锥形结构，所述坩埚衬套的外周面与所述坩埚的内腔的锥度相同，所述坩埚衬套的小径端放置于所述定位区。
[0020]综上所述，在本技术提供的坩埚垫，包括支撑垫，所述支撑垫上具有支撑面，所述支撑面上设置有定位区；所述支撑垫被配置为：所述支撑垫放置于坩埚的内腔底部时，所述支撑垫相对所述坩埚定位；所述定位区被配置为：所述定位区用于放置源锭或坩埚衬套，所述源锭放置于所述定位区时被定位且所述源锭外周与所述坩埚的内侧壁之间的间隙尺寸保持一致，或，所述坩埚衬套放置于所述定位区时被定位且所述坩埚衬套的外周与所述坩埚的内侧壁之间的间隙尺寸保持一致。
[0021]如此配置，一方面可以避免坩埚衬套或源锭和坩埚底直接接触，也避免坩埚衬套或源锭和坩埚侧壁的不正常接触，进而减小源锭的热传导效率，使得坩埚内能够保有更多的热能量，最终可以使源锭蒸发所需要的作业功率降低，利于节能，同时也改善高功率导致的溅源现象；另一方面，支撑垫的设置，可改善散热不均匀引起的源锭形变，改善由于源锭局部形变导致的溅源的现象。
附图说明
[0022]图1为本技术的实施例的坩埚垫的结构示意图；
[0023]图2为本技术的实施例1的坩埚总成的结构示意图；
[0024]图3为本技术的实施例2的坩埚总成的结构示意图；
[0025]其中，附图标记如下：
[0026]10
‑
支撑垫；11
‑
支撑面；12
‑
定位区；13
‑
通孔；
[0027]20
‑
坩埚；
[0028]30
‑
坩埚衬套；
[0029]40
‑
源锭。
具体实施方式
[0030]以下结合附图和具体实施例对本技术提出的坩埚垫作进一步详细说明。根据下面说明，本技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。
[0031]如在本技术中所使用的，单数形式“一”、“一个”以及“该”包括复数对象，术语“或”通常是以包括“和/或”的含义而进行使用的，术语“若干”通常是以包括“至少一个”的含义而进行使用的，术语“至少两个”通常是以包括“两个或两个以上”的含义而进行使用的，此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者至少两个该特征。此外，如在本技术中所使用的，“安装”、“相连”、“连接”，一元件“设置”于另一元件，应做广义理解，通常仅表示两元件之间存在连接、耦合、配合或传动关系，且两元件之间可以是直接的或通过中间元件间接的连接、耦合、配合或传动，而不能理解为指示或暗示两元件之间的空间位置关系，即一元件可以在另一元件的内部、外部、上方、下方或一侧等任意方位，除非内容另外明确指出外。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。此外，诸如上方、下方、上、下、向上、向下、左、右等的方向术语相对于示例性实施方案如它们在图中所示进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种坩埚垫，其特征在于，包括支撑垫，所述支撑垫上具有支撑面，所述支撑面上设置有定位区；所述支撑垫被配置为：所述支撑垫放置于坩埚的内腔底部时，所述支撑垫相对所述坩埚定位；所述定位区被配置为：所述定位区用于放置源锭或坩埚衬套，所述源锭放置于所述定位区时被定位且所述源锭外周与所述坩埚的内侧壁之间的间隙尺寸保持一致，或，所述坩埚衬套放置于所述定位区时被定位且所述坩埚衬套的外周与所述坩埚的内侧壁之间的间隙尺寸保持一致。2.如权利要求1所述的坩埚垫，其特征在于：所述支撑面上设置有通孔，所述通孔设置于所述定位区并贯通于所述支撑垫上；所述通孔被配置为：所述源锭或坩埚衬套具有底部，所述源锭或坩埚衬套放置于所述定位区时，所述源锭或所述坩埚衬套的底部位于所述通孔内，且所述源锭或所述坩埚衬套的底部与所述坩埚的底部之间具有设定间隙。3.如权利要求2所述的坩埚垫，其特征在于：所述定位区为开设于所述支撑面上的凹槽。4.如权利要求3所述的坩埚垫，其特征在于：所述凹槽呈锥形槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：王思彬，曹乐，周立超，
申请(专利权)人：绍兴中芯集成电路制造股份有限公司，
类型：新型
国别省市：