一种镜片双面清洁擦拭装置制造方法及图纸

技术编号:35628756 阅读:35 留言:0更新日期:2022-11-16 16:16
本实用新型专利技术提出了一种镜片双面清洁擦拭装置,包括机架及位于机架上的清洁装置,所述机架上设有回转平台,所述回转平台设有沿其周向方向均布排列的擦拭工位;所述清洁装置为两套,分别位于回转平台上方及下方,所述清洁装置包括固定架,所述固定架上设有垂直滑移平台,所述垂直滑移平台上设有通过擦拭电机驱动转动的回转擦拭头,所述回转平台上方及下方的清洁装置的回转擦拭头通过各自的垂直滑移平台彼此或远离靠近并对同一擦拭工位上的镜片进行擦拭。本实用新型专利技术具有清洁效果佳,有效去除顽固污渍,同时可实现双面清洁擦拭的优点。同时可实现双面清洁擦拭的优点。同时可实现双面清洁擦拭的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种镜片双面清洁擦拭装置


[0001]本技术涉及光学镜片生产设备领域,具体涉及一种镜片双面清洁擦拭装置。

技术介绍

[0002]光学镜片在生产时,在不同的工艺下会经历多次清洗,目前清洗的方式大多为置于清洗架上浸入水中进行清洗,虽然清洗时可以实现批量,但在装卸时由于数量较多,因此就会存在镜片风干、二次粘灰等问题,同时浸入式清洗无法有效产生剥离力,因此对一些粘附力较强的污渍清洁效果往往较弱;故需要对正反面进行清洁擦拭来去除表面黏附的灰尘及其它污物(如镜片切割、倒角产生的粉末),因此如何对其进行快速清洁,从而减少人工劳动强度,提升清洁效率就成了一个亟待解决的问题。

技术实现思路

[0003]基于上述问题,本技术目的在于提供一种清洁效果佳,有效去除顽固污渍,同时可实现双面清洁擦拭的镜片双面清洁擦拭装置。
[0004]针对以上问题,提供了如下技术方案:一种镜片双面清洁擦拭装置,包括机架及位于机架上的清洁装置,所述机架上设有回转平台,所述回转平台设有沿其周向方向均布排列的擦拭工位;所述清洁装置为两套,分别位于回转平台上方及下方,所述清洁装置包括固定架,所述固定架上设有垂直滑移平台,所述垂直滑移平台上设有通过擦拭电机驱动转动的回转擦拭头,所述回转平台上方及下方的清洁装置的回转擦拭头通过各自的垂直滑移平台彼此或远离靠近并对同一擦拭工位上的镜片进行擦拭。
[0005]上述结构中,机架设有间歇凸轮分割器,用于带动回转平台间歇转动,擦拭工位用于安装镜片,在回转平台停止时,回转平台上方及下方的清洁装置通过垂直滑移平台带动回转擦拭头彼此靠近并与镜片正反面相抵,通过擦拭电机带动回转擦拭头转动来擦拭镜片,从而有效清洁镜片表面附着的顽固污渍,由于镜片在擦拭时两面同时进行,可有效提升清洁效率从而减少人工劳动强度;机架上设有罩于回转平台上方的防护罩,可有效避免空气中的灰尘对镜片造成二次污染,同时提升操作人员的操作安全性。
[0006]本技术进一步设置为,所述回转平台6点钟位置的擦拭工位为取放工位,其12点钟位置的擦拭工位为清洁工位;所述回转平台上方及下方的清洁装置的回转擦拭头分别位于清洁工位的上方及下方。
[0007]上述结构中,防护罩设有开口,所述回转平台6点钟位置的擦拭工位位于开口处,便于操作人员取放镜片,同时开口两侧设有红外线感应器,用于感应开口内操作人员的手部是否依旧位于开口内,避免在取放镜片时间歇凸轮分割器意外启动,保证操作人员的人身安全。
[0008]本技术进一步设置为,所述垂直滑移平台包括固定于固定架上的滑轨,以及与滑轨适配在高度方向上滑动的滑块,所述滑块上设有用于固定擦拭电机的电机座;所述固定架还设有用于驱动滑块滑动的驱动模块。
[0009]上述结构中,驱动模块用于控制滑块滑动,从而使电机座带动擦拭电机及回转擦拭头在高度方向上升降滑动。
[0010]本技术进一步设置为,所述驱动模块为气缸或伺服电机;所述驱动模块为气缸时,气缸杆与滑块相连;所述驱动模块为伺服电机时,所述伺服电机通过丝杆与滑块螺纹配合。
[0011]上述结构中,驱动模块优选为伺服电机,配合丝杆可有效保证重复定位精度。
[0012]本技术进一步设置为,所述回转平台上方及下方的清洁装置侧面还设有用于冲洗回转擦拭头的冲洗装置。
[0013]上述结构中,冲洗装置用于冲刷镜片及回转擦拭头,辅助提升清洁效率。
[0014]本技术进一步设置为,所述冲洗装置包括喷头及接近气缸,所述喷头固定于接近气缸的气缸杆上,使喷头在回转平台上方及下方的清洁装置的回转擦拭头彼此远离状态下靠近或远离回转擦拭头。
[0015]上述结构中,在两个清洁装置的回转擦拭头彼此远离后,喷头通过接近气缸推动靠近回转擦拭头对其进行冲洗。
[0016]本技术进一步设置为,所述擦拭工位包括镜片安装筒,所述镜片安装筒上端内壁设有限位挡肩。
[0017]上述结构中,镜片安装筒用于安装镜片,限位挡肩在镜片装入时可避免镜片向下脱出。
[0018]本技术进一步设置为,所述回转平台上方及下方的清洁装置的回转擦拭头转向彼此相反。
[0019]上述结构中,使作用于镜片上的周向摩擦力彼此抵消。
[0020]本技术进一步设置为,所述镜片安装筒顶部端面与内壁交界处设有内倒角。
[0021]上述结构中,内倒角可方便镜片的安装;镜片安装筒筒壁上还开设有取放缺口,取放缺口为两个,在镜片安装筒周向方向上间隔180度设置,所述取放缺口自镜片安装筒上端起向下开设的距离大于镜片安装筒上端至限位挡肩之间的距离,便于手指伸入取出清洗后的镜片。
[0022]本技术进一步设置为,所述限位挡肩设有往镜片安装筒顶部端面方向延伸的周向定位销。
[0023]上述结构中,周向定位销用于与镜片外缘处的定位凹槽适配,避免镜片出现转动。
[0024]本技术的有益效果:机架设有间歇凸轮分割器,用于带动回转平台间歇转动,擦拭工位用于安装镜片,在回转平台停止时,回转平台上方及下方的清洁装置通过垂直滑移平台带动回转擦拭头彼此靠近并与镜片正反面相抵,通过擦拭电机带动回转擦拭头转动来擦拭镜片,从而有效清洁镜片表面附着的顽固污渍,由于镜片在擦拭时两面同时进行,可有效提升清洁效率从而减少人工劳动强度;机架上设有罩于回转平台上方的防护罩,可有效避免空气中的灰尘对镜片造成二次污染,同时提升操作人员的操作安全性。
附图说明
[0025]图1为本技术的整体立体结构图。
[0026]图2为本技术的内部立体结构图。
[0027]图3为本技术的仰视视角立体结构图。
[0028]图4为本技术图2的A部放大结构图。
[0029]图5为本技术图2的B部放大结构图。
[0030]图6为本技术图3的C部放大结构图。
[0031]图中标号含义:10

机架;11

回转平台;111

擦拭工位;1111

取放工位;1112

清洁工位;12

间歇凸轮分割器;13

镜片安装筒;131

限位挡肩;132

内倒角;133

取放缺口;134

周向定位销;20

清洁装置;21

固定架;22

垂直滑移平台;221

滑轨;222

滑块;23

擦拭电机;231

电机座;24

回转擦拭头;25

驱动模块;30

防护罩;31

开口;32

红外线感应器;40

冲洗装置;41

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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镜片双面清洁擦拭装置,包括机架及位于机架上的清洁装置,其特征在于:所述机架上设有回转平台,所述回转平台设有沿其周向方向均布排列的擦拭工位;所述清洁装置为两套,分别位于回转平台上方及下方,所述清洁装置包括固定架,所述固定架上设有垂直滑移平台,所述垂直滑移平台上设有通过擦拭电机驱动转动的回转擦拭头,所述回转平台上方及下方的清洁装置的回转擦拭头通过各自的垂直滑移平台彼此或远离靠近并对同一擦拭工位上的镜片进行擦拭。2.根据权利要求1所述的一种镜片双面清洁擦拭装置,其特征在于:所述回转平台6点钟位置的擦拭工位为取放工位,其12点钟位置的擦拭工位为清洁工位;所述回转平台上方及下方的清洁装置的回转擦拭头分别位于清洁工位的上方及下方。3.根据权利要求1所述的一种镜片双面清洁擦拭装置,其特征在于:所述垂直滑移平台包括固定于固定架上的滑轨,以及与滑轨适配在高度方向上滑动的滑块,所述滑块上设有用于固定擦拭电机的电机座;所述固定架还设有用于驱动滑块滑动的驱动模块。4.根据权利要求3所述的一种镜片双面清洁擦拭装置,其特征在于:所述驱动模块为气缸或伺...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴险峰李永宁吴英豪
申请(专利权)人:江西通统光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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