一种高纯耐磨氧化铝陶瓷球用烧结工装制造技术

技术编号:35569581 阅读:18 留言:0更新日期:2022-11-12 15:53
本实用新型专利技术公开了一种高纯耐磨氧化铝陶瓷球用烧结工装,包括石墨坩埚,石墨坩埚的下部四角均设有支柱,石墨坩埚的锅体内均匀分布有多个用于支撑待烧结球胚的承托件;承托件包括竖直设置的柱体,柱体的上端设有锥形壳体,锥形壳体的内表面同一高度处至少设有三个凸起,且三个凸起构成用于支撑待烧结球胚的三点支撑位。本实用新型专利技术结构简单、使用方便,通过三个凸起来支撑待烧结球胚,尽量减少与球胚的接触面积,确保球胚烧结时的均匀性,避免陶瓷球体不同部位烧结程度不同;另外通过设置承托件,热量可以通过柱体的内腔对球胚的下部进行加热,使球胚能够完全处于烧结气氛内,进一步提高球胚烧结质量。提高球胚烧结质量。提高球胚烧结质量。

【技术实现步骤摘要】
一种高纯耐磨氧化铝陶瓷球用烧结工装


[0001]本技术涉及陶瓷球生产
,具体为一种高纯耐磨氧化铝陶瓷球用烧结工装。

技术介绍

[0002]氧化铝耐磨陶瓷球广泛应用于陶瓷、玻璃、搪瓷、颜料、化工等行业,是各类磨机细碎设备中的研磨球体,其强度高,密度大,磨耗小,耐腐蚀,适用性强,粉碎效率高。针对一些特定场合,需要使用到高纯度的氧化铝耐磨陶瓷球。现有的陶瓷球在烧结过程中,通常采用球形凹面来固定陶瓷球体,球形凹面虽然对陶瓷球体固定起到了作用,但陶瓷球体与凹面接触部分却得不到热气体的接触,导致陶瓷球体不同部位烧结程度不同,影响产品的质量。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是克服现有的缺陷,提供一种高纯耐磨氧化铝陶瓷球用烧结工装,结构简单、使用方便,尽量减少与球胚的接触面积,确保球胚烧结时的均匀性,避免陶瓷球体不同部位烧结程度不同,进一步提高球胚烧结质量,可以有效解决
技术介绍
中的问题。
[0004]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种高纯耐磨氧化铝陶瓷球用烧结工装,包括石墨坩埚,所述石墨坩埚的下部四角均设有支柱,石墨坩埚的锅体内均匀分布有多个用于支撑待烧结球胚的承托件;所述承托件包括竖直设置的柱体,柱体的上端设有锥形壳体,锥形壳体的内表面同一高度处至少设有三个凸起,且三个凸起构成用于支撑待烧结球胚的三点支撑位。
[0005]优选的,所述锥形壳体与柱体同轴设置,三个凸起环绕柱体的轴线等间距布置在锥形壳体的内表面,凸起呈球状结构。
[0006]优选的,所述柱体为中空管状结构,锥形壳体设有与柱体腔室相通的开口,柱体的下端穿过石墨坩埚。
[0007]优选的,所述柱体的下端设有托板,且柱体的下端与托板螺纹连接,柱体的下端穿过托板,托板的下部两侧均设有垫块,垫块的长度与石墨坩埚的宽度等长。
[0008]优选的,所述石墨坩埚的锅体内底部设有与柱体间隙配合的通孔。
[0009]优选的,当所述待烧结球胚放置于三个凸起上时,待烧结球胚不会封堵开口。
[0010]与现有技术相比,本技术的有益效果是:通过三个凸起来支撑待烧结球胚,尽量减少与球胚的接触面积,确保球胚烧结时的均匀性,避免陶瓷球体不同部位烧结程度不同;另外通过设置承托件,热量可以通过柱体的内腔对球胚的下部进行加热,使球胚能够完全处于烧结气氛内,进一步提高球胚烧结质量,通过托举托板可以将多个球胚托举出石墨坩埚,方便取料。
附图说明
[0011]图1为本技术结构示意图一;
[0012]图2为本技术结构示意图二;
[0013]图3为本技术剖视图;
[0014]图4为本技术承托件结构示意图。
[0015]图中:1承托件、1.1柱体、1.2锥形壳体、1.3凸起、1.4开口、2石墨坩埚、2.1支柱、2.2通孔、3垫块、4托板。
具体实施方式
[0016]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术的技术方案进行说明,在描述中,需要理解的是,若有术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系,仅是与本技术的附图对应,为了便于描述本技术,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位:
[0017]请参阅图1

4,本技术提供一种技术方案:一种高纯耐磨氧化铝陶瓷球用烧结工装,包括石墨坩埚2,石墨坩埚2的下部四角均设有支柱2.1,石墨坩埚2的锅体内均匀分布有多个用于支撑待烧结球胚的承托件1;承托件1包括竖直设置的柱体1.1,柱体1.1的上端设有锥形壳体1.2,锥形壳体1.2的内表面同一高度处至少设有三个凸起1.3,且三个凸起1.3构成用于支撑待烧结球胚的三点支撑位;通过设置三个凸起1.3来支撑待烧结球胚,尽量减少与球胚的接触面积,确保球胚烧结时的均匀性,避免陶瓷球体不同部位烧结程度不同;
[0018]进一步的,锥形壳体1.2与柱体1.1同轴设置,三个凸起1.3环绕柱体1.1的轴线等间距布置在锥形壳体1.2的内表面,凸起1.3呈球状结构,凸起1.3采用球状结构,当待烧结球胚放置于三个凸起1.3上时,待烧结球胚不会封堵开口1.4,与球胚接触时是点与点的接触,避免传统面与面的接触,减少接触面积;
[0019]进一步的,柱体1.1为中空管状结构,锥形壳体1.2设有与柱体1.1腔室相通的开口1.4,柱体1.1的下端穿过石墨坩埚2,热量可以通过柱体1.1的腔室以及开口1.4传递给球胚的下部,能够使球胚完全处于烧结气氛内;
[0020]进一步的,柱体1.1的下端设有托板4,且柱体1.1的下端与托板4螺纹连接,柱体1.1的下端穿过托板4,托板4的下部两侧均设有垫块3,垫块3的长度与石墨坩埚2的宽度等长;石墨坩埚2的锅体内底部设有与柱体1.1间隙配合的通孔2.2;在使用过程中,当多个石墨坩埚2可以叠放在一起,两个石墨坩埚2之间通过垫块3来隔开,能够促进热量流通,通过垫块3托举托板4,托板4托举多个承托件1,烧结完成后托举托板4,托板4通过承托件1托举球体举出石墨坩埚2,方便取料。
[0021]本技术未详述部分为现有技术,对于本领域技术人员而言,显然本技术不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本技术;因此,无论从哪一点来看,均应将上述实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内,不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求内容。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高纯耐磨氧化铝陶瓷球用烧结工装,包括石墨坩埚(2),其特征在于:所述石墨坩埚(2)的下部四角均设有支柱(2.1),石墨坩埚(2)的锅体内均匀分布有多个用于支撑待烧结球胚的承托件(1);所述承托件(1)包括竖直设置的柱体(1.1),柱体(1.1)的上端设有锥形壳体(1.2),锥形壳体(1.2)的内表面同一高度处至少设有三个凸起(1.3),且三个凸起(1.3)构成用于支撑待烧结球胚的三点支撑位。2.根据权利要求1所述的一种高纯耐磨氧化铝陶瓷球用烧结工装,其特征在于:所述锥形壳体(1.2)与柱体(1.1)同轴设置,三个凸起(1.3)环绕柱体(1.1)的轴线等间距布置在锥形壳体(1.2)的内表面,凸起(1.3)呈球状结构。3.根据权利要求1所述的一种高纯耐磨氧化铝陶瓷球用烧结工装,其特征在于:所述柱体(1...

【专利技术属性】
技术研发人员:高好朋高红波程田厚杨杰胡天逸
申请(专利权)人:洛阳欣珑陶瓷有限公司
类型:新型
国别省市:

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