溅射角可调的回转溅射靶制造技术

一种溅射角可调的回转溅射靶，它包括回转台、溅射片、调整机构和驱动组件，通过在回转台上侧面设置与其铰接并呈放射状布设的多个溅射片，调整机构一端的耳座与溅射片连接，调整机构另一端的调节板与回转台上的滑槽滑动配合，驱动组件的回转环与回转台下侧面连接固定，位于回转环内滚动配合的滚轮与微电机连接，推动调节板调整溅射片的倾角，微电机驱动滚轮转动带动回转台转动，调整离子的入射角，并在回转状态下使离子软着陆于工件特定区域，适应性好，操作简单方便。操作简单方便。操作简单方便。

【技术实现步骤摘要】
溅射角可调的回转溅射靶


[0001]本技术属于电子机械
，涉及一种溅射角可调的回转溅射靶。

技术介绍

[0002]采用以电子为能量的离子源发射离子在工件表面软着陆形成导电膜层的工艺设备中，离子源的发射方向通常是不变的，为了改变离子发射的方向，通常在工件周围设置有特殊材质制作的入射靶，用于引导离子按照设定的角度软着陆于工件表面，目前，但面对某些异形构件时，入射靶角度不可调及不可转动，导致离子的引入角和方向不可调，使离子无法在工件特定区域着陆。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题是提供一种溅射角可调的回转溅射靶,采用在回转台上侧面设置与其铰接并呈放射状布设的多个溅射片，调整机构一端的耳座与溅射片连接，调整机构另一端的调节板与回转台上的滑槽滑动配合，驱动组件的回转环与回转台下侧面连接固定，位于回转环内滚动配合的滚轮与微电机连接，推动调节板调整溅射片的倾角，微电机驱动滚轮转动带动回转台转动，调整离子的入射角，并在回转状态下使离子软着陆于工件特定区域，适应性好，操作简单方便。
[0004]为解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案是：一种溅射角可调的回转溅射靶，它包括回转台、溅射片、调整机构和驱动组件；所述溅射片和调整机构位于回转台的上侧面，驱动组件位于回转台的下侧面，多个溅射片呈放射状分布于回转台的入射孔周围，每个溅射片与回转台铰接，调整机构一端与溅射片活动连接，另一端与回转台滑动配合，驱动组件驱动回转台回转。
[0005]所述回转台为圆形的平板，位于中心设置入射孔，位于边沿设置呈放射状的多个滑槽。
[0006]所述溅射片为弧形结构的扇形片，弧长较小的一端靠近回转台的入射孔，位于该端设置转轴与回转台连接。
[0007]所述调整机构包括耳座销轴连接的推杆，以及与推杆连接的调节板，耳座与溅射片连接，调节板与回转台的滑槽滑动配合。
[0008]所述调节板为弯折板，紧固件穿过弯折板其中一边的端头与推杆连接，锁紧螺钉穿过弯折板另一边上的长腰孔与回转台连接。
[0009]所述驱动组件包括回转环内滚动配合的多个滚轮，滚轮的内圈与套管配合，微电机的输出端与套管连接，回转环与回转台的下侧面连接。
[0010]本技术的有益效果在于：
[0011]溅射片与回转台铰接，调整机构一端的耳座与溅射片活动连接，另一端的调节板与回转台滑动配合，通过推动调节板调整溅射片的倾角。
[0012]溅射片呈放射状分布于回转台的入射孔周围，根据工件的具体结构，调整不同方
向的溅射片的倾角，使得离子源在入射到溅射片上后穿过入射孔，从对应的角度软着陆到工件表面及特定区域。
[0013]回转台下侧设置驱动组件，驱动组件的回转环内设置多个滚动配合的滚轮与微电机连接，多个微电机驱动滚轮在回转环内滚动带动回转台转动，使入射孔下部的工件在固定的情况下，多个离子入射角不断发生变化着陆于工件表面。
附图说明
[0014]下面结合附图和实施例对本技术作进一步说明：
[0015]图1为本技术的结构示意图。
[0016]图2为图1的主视示意图。
[0017]图3为图2的俯视示意图。
[0018]图4为图2的A
‑
A处剖视图示意图。
[0019]图中：回转台1，入射孔11，滑槽12，溅射片2，转轴21，调整机构3，耳座31，推杆32，调节板33，紧固件34，锁紧螺钉35，长腰孔36，驱动组件4，回转环41，滚轮42，套管43，微电机44。
具体实施方式
[0020]如图1~图4中，一种溅射角可调的回转溅射靶，它包括回转台1、溅射片2、调整机构3和驱动组件4；所述溅射片2和调整机构3位于回转台1的上侧面，驱动组件4位于回转台1的下侧面，多个溅射片2呈放射状分布于回转台1的入射孔11周围，每个溅射片2与回转台1铰接，调整机构3一端与溅射片2活动连接，另一端与回转台1滑动配合，驱动组件4驱动回转台1回转。使用时，推动调节板33调整溅射片2的倾角，微电机44驱动滚轮42转动带动回转台1转动，调整离子的入射角，并在回转状态下使离子软着陆于工件特定区域，适应性好，操作简单方便。
[0021]优选的方案中，所述回转台1为圆形的平板，位于中心设置入射孔11，位于边沿设置呈放射状的多个滑槽12。使用时，工件放置于回转台1的入射孔11下部，工件处于固定状态。
[0022]优选的方案中，所述溅射片2为弧形结构的扇形片，弧长较小的一端靠近回转台1的入射孔11，位于该端设置转轴21与回转台1连接。使用时，离子源从溅射片2上部发射离子后，射入溅射片2的内弧面，再从溅射片2上溅射后穿过入射孔11着陆于工件表面。
[0023]优选的方案中，所述调整机构3包括耳座31销轴连接的推杆32，以及与推杆32连接的调节板33，耳座31与溅射片2连接，调节板33与回转台1的滑槽12滑动配合。使用时，推拉调节板33使其沿回转台1的滑槽12滑动，与此同时，推杆32与耳座31转动配合并推动溅射片2使其绕转轴21转动。
[0024]优选的方案中，所述调节板33为弯折板，紧固件34穿过弯折板其中一边的端头与推杆32连接，锁紧螺钉35穿过弯折板另一边上的长腰孔36与回转台1连接。使用时，调节板33与滑槽12滑动配合的过程中，锁紧螺钉35限制长腰孔36的运动方向进行限位，当溅射片2的倾角达到设定角度后，旋转锁紧螺钉35锁紧调节板33。
[0025]优选的方案中，所述驱动组件4包括回转环41内滚动配合的多个滚轮42，滚轮42的
内圈与套管43配合，微电机44的输出端与套管43连接，回转环41与回转台1的下侧面连接。使用时，微电机44驱动套管43带动滚轮42转动，滚轮42驱动回转环41带动回转台1转动，当多个溅射片2的倾角各不相同时，使多个溅射片2上溅射的离子在穿过入射孔11后，变换不同的角度着陆到工件表面。
[0026]上述的实施例仅为本技术的优选技术方案，而不应视为对于本技术的限制，本申请中的实施例及实施例中的特征在不冲突的情况下，可以相互任意组合。本技术的保护范围应以权利要求记载的技术方案，包括权利要求记载的技术方案中技术特征的等同替换方案为保护范围。即在此范围内的等同替换改进，也在本技术的保护范围之内。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅射角可调的回转溅射靶，其特征是：它包括回转台（1）、溅射片（2）、调整机构（3）和驱动组件（4）；所述溅射片（2）和调整机构（3）位于回转台（1）的上侧面，驱动组件（4）位于回转台（1）的下侧面，多个溅射片（2）呈放射状分布于回转台（1）的入射孔（11）周围，每个溅射片（2）与回转台（1）铰接，调整机构（3）一端与溅射片（2）活动连接，另一端与回转台（1）滑动配合，驱动组件（4）驱动回转台（1）回转；调整机构（3）包括耳座（31）销轴连接的推杆（32），以及与推杆（32）连接的调节板（33），耳座（31）与溅射片（2）连接，调节板（33）与回转台（1）的滑槽（12）滑动配合；调节板（33）为弯折板，紧固件（34）穿过弯折板其...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹丽，秦工，李正英，
申请(专利权)人：湖北三峡职业技术学院，
类型：新型
国别省市：