一种烧结炉用硅片输送装置及烧结炉制造方法及图纸

本申请涉及太阳能电池技术领域，具体而言，涉及一种烧结炉用硅片输送装置及烧结炉。烧结炉用硅片输送装置包括：间隔设置的用于共同输送硅片的两个输送组件；两组支撑组件设置于输送组件上，且两组支撑组件分别用于支撑硅片的相对两端；每组支撑组件均包括沿输送方向间隔设置的至少两个支撑单元，每个支撑单元均包括至少两个支撑元件，且每个支撑元件分别用于支撑硅片的不同位置；动力组件被配置为分别使每个支撑单元中的每个支撑元件交替支撑硅片。本申请提供的烧结炉用硅片输送装置在输送硅片的过程中，可以使得硅片下表面的不同位点交替被支撑单元支撑，有效解决了硅片与支撑组件接触的位置无法被烧结的技术问题，有利于提高硅片的性能。高硅片的性能。高硅片的性能。

【技术实现步骤摘要】
一种烧结炉用硅片输送装置及烧结炉


[0001]本申请涉及太阳能电池
，具体而言，涉及一种烧结炉用硅片输送装置及烧结炉。

技术介绍

[0002]传统工序中，一般都是将硅片放置在烧结炉的网带输送装置上，以对硅片进行输送。传统的网带输送装置会大面积遮挡来自烧结炉下方热源发出的热量，进而导致硅片的下表面受热不均匀。
[0003]为解决上述问题，现有技术中采用设置于输送装置上的支撑件分别对硅片的相对两端进行支撑。但是，现有的采用支撑件对硅片进行支撑输送的过程中，支撑件一直支撑于硅片的同一位置，导致硅片下表面被支撑件支撑的位置无法有效进行烧结，进而影响硅片的性能。

技术实现思路

[0004]本申请的目的在于提供一种烧结炉用硅片输送装置及烧结炉，其旨在改善现有的烧结炉用硅片输送装置无法使得硅片与支撑件接触的位置有效被烧结的技术问题。
[0005]第一方面，本申请提供一种烧结炉用硅片输送装置，包括：
[0006]间隔设置的两个输送组件，两个输送组件用于共同输送硅片。
[0007]两组支撑组件，两组支撑组件设置于输送组件上，且两组支撑组件分别用于支撑硅片的相对两端；每组支撑组件均包括沿输送方向间隔设置的至少两个支撑单元，每个支撑单元均包括至少两个支撑元件，且每个支撑元件分别用于支撑硅片的不同位置。
[0008]动力组件，动力组件被配置为分别使每个支撑单元中的每个支撑元件交替支撑硅片。
[0009]本申请在烧结炉用硅片输送装置中设置用于对硅片的相对两端进行支撑的支撑组件，且每组支撑组件均设置包括沿输送组件的输送方向间隔设置的至少两个支撑单元，使得硅片至少同时被四个支撑单元进行支撑，有效保证硅片被支撑的稳定性。此外，每个支撑单元均设置包括至少两个用于支撑硅片不同位置的支撑元件，并设置被配置为分别使每个支撑单元中的每个支撑元件交替支撑硅片的动力组件，使得硅片在被烧结炉用硅片输送装置输送的过程中，硅片下表面的不同位点交替被支撑元件支撑，在保证稳定输送硅片的前提下，有效解决了硅片与支撑组件接触的位置无法被烧结的技术问题，有利于提高硅片的性能。
[0010]在本申请第一方面的一些实施例中，动力组件设置于输送组件与支撑元件之间，动力组件的一端固定于输送组件，动力组件的另一端驱动连接支撑元件，以使动力组件能够带动支撑元件相对输送组件转动。
[0011]上述设置方式，可以有效实现动力组件带动每个支撑单元中的每个支撑元件交替支撑硅片的不同位置。
[0012]在本申请第一方面的一些实施例中，动力组件包括多个动力元件，每个动力元件的一端均分别驱动连接一个支撑元件，且每个动力元件的另一端均固定于输送组件。
[0013]上述设置方式，可以使得每个动力元件精准带动每个支撑元件支撑或者不支撑硅片，进而有效实现带动每个支撑单元中的每个支撑元件交替支撑硅片的不同位置。
[0014]在本申请第一方面的一些实施例中，烧结炉用硅片输送装置还包括控制器，控制器被配置为控制动力组件带动每个支撑单元中的每个支撑元件交替支撑硅片。
[0015]在本申请第一方面的一些实施例中，支撑元件的延伸方向与水平方向之间具有夹角。
[0016]上述设置方式，可以使得支撑元件在支撑硅片时是与硅片相对两端的边缘位置进行接触，有效减少了支撑元件与硅片的接触面积，进而有利于减少输送硅片过程中支撑元件对硅片下表面的划伤或磨损。
[0017]在本申请第一方面的一些实施例中，支撑元件具有远离输送组件的自由端以及与自由端相对的连接端，自由端的高度低于连接端的高度。
[0018]上述设置方式，可以提高支撑元件对硅片的支撑稳定性。
[0019]在本申请第一方面的一些实施例中，支撑元件为圆柱形支撑杆。
[0020]上述设置方式，可以使得支撑元件是以点接触的方式与硅片接触，进一步有效减小支撑元件与硅片的接触面积，进而有利于减少输送硅片过程中支撑元件对硅片下表面的划伤或磨损。
[0021]在本申请第一方面的一些实施例中，动力组件被配置为使支撑硅片的支撑元件绕支撑元件的轴线转动。
[0022]上述设置方式，可以使得支撑元件在支撑硅片时，硅片能够相对于支撑元件沿输送方向具有一定的位移，可以使得硅片下表面被支撑元件的支撑位点发生变化，进一步有效减少硅片下表面的同一位置被支撑元件支撑的时间，进而进一步提高硅片下表面的受热均匀性，有利于提高电池片的性能。
[0023]在本申请第一方面的一些实施例中，烧结炉用硅片输送装置还包括加热元件，加热元件设置于每个支撑元件的内部。
[0024]加热元件的设置，可以使得硅片下表面被支撑元件遮挡的区域可以受到来自加热元件的热量，从而提高硅片下表面的受热均匀性，有利于提高电池片的性能。此外，加热元件设置于支撑元件的内部，可以使得支撑元件表面的热量分布较为均匀，进而进一步提高硅片下表面的受热均匀性，也有效避免了支撑元件在动力组件的带动下转动时加热元件与硅片下表面接触而磨损或划伤硅片的情况。
[0025]第二方面，本申请提供一种烧结炉，包括：炉体、热源装置以及如上述第一方面提供的烧结炉用硅片输送装置；烧结炉用硅片输送装置以及热源装置均设置于炉体内；热源装置用于对硅片的相对两面进行烧结加热。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这
些附图获得其他相关的附图。
[0027]图1示出了本申请实施例提供的烧结炉的主视图。
[0028]图2示出了本申请实施例提供的烧结炉内的烧结炉用硅片输送装置的俯视图。
[0029]图3示出了本申请实施例提供的支撑元件和加热元件的剖视图。
[0030]图标：100
‑
烧结炉用硅片输送装置；101
‑
硅片；102
‑
输送方向；110
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输送组件；120
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支撑组件；121
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支撑单元；1211
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支撑元件；130
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动力组件；131
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动力元件；140
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控制器；150
‑
加热元件；200
‑
烧结炉；210
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炉体；220
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热源装置。
具体实施方式
[0031]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0032]因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种烧结炉用硅片输送装置，其特征在于，包括：间隔设置的两个输送组件，两个所述输送组件用于共同输送硅片；两组支撑组件，两组所述支撑组件设置于所述输送组件上，且两组所述支撑组件分别用于支撑所述硅片的相对两端；每组所述支撑组件均包括沿输送方向间隔设置的至少两个支撑单元，每个所述支撑单元均包括至少两个支撑元件，且每个所述支撑元件分别用于支撑所述硅片的不同位置；以及动力组件，所述动力组件被配置为分别使每个所述支撑单元中的每个所述支撑元件交替支撑所述硅片。2.根据权利要求1所述的烧结炉用硅片输送装置，其特征在于，所述动力组件设置于所述输送组件与所述支撑元件之间，所述动力组件的一端固定于所述输送组件，所述动力组件的另一端驱动连接所述支撑元件，以使所述动力组件能够带动所述支撑元件相对所述输送组件转动。3.根据权利要求2所述的烧结炉用硅片输送装置，其特征在于，所述动力组件包括多个动力元件，每个所述动力元件的一端均分别驱动连接一个所述支撑元件，且每个所述动力元件的另一端均固定于所述输送组件。4.根据权利要求1所述的烧结炉用硅片输送装置，其特征在于，所述烧结炉用硅片输送装置还包括控制...

【专利技术属性】
技术研发人员：周公庆，
申请(专利权)人：通威太阳能眉山有限公司，
类型：新型
国别省市：