本实用新型专利技术涉及溅射镀膜靶材技术领域，且公开了一种高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置，包括工作台，所述工作台的顶部活动连接有背板，所述背板的顶部固定连接有靶材本体，所述工作台顶部的左右两侧均活动连接有安装杆，两个所述安装杆的顶端分别与背板底部的左右两侧活动插接。该高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置，控制两个电动推杆向下延伸，使连接块底部的打磨带与靶材的顶部接触，通过转动连接杆表面螺纹连接的推块，使推块向右旋动并推动侧块右移，使侧块右侧的打磨带与靶材的左侧接触，启动电机使连接块在靶材上转动，侧块在靶材的侧表面转动，使对靶材表面进行打磨抛光，且可适用于不同尺寸大小靶材的打磨。且可适用于不同尺寸大小靶材的打磨。且可适用于不同尺寸大小靶材的打磨。
【技术实现步骤摘要】
一种高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置
[0001]本技术涉及溅射镀膜靶材
，具体为一种高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置。
技术介绍
[0002]溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材，各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
[0003]高纯氧化铌溅射镀膜靶材制备加工时需要进行打磨抛光，以去除靶材表面的毛刺，但是现有的去毛刺装置适用性不高，无法对不同尺寸大小的靶材进行打磨操作，因此急需设计一种适用于不同尺寸靶材的打磨加工制备装置。
技术实现思路
[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本技术提供了一种高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置，具备适用度高和操作简便等优点，解决了现有的去毛刺装置适用性不高，无法对不同尺寸大小的靶材进行打磨的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置，包括工作台，所述工作台的顶部活动连接有背板，所述背板的顶部固定连接有靶材本体，所述工作台顶部的左右两侧均活动连接有安装杆，两个所述安装杆的顶端分别与背板底部的左右两侧活动插接，所述工作台顶部的后侧固定连接有L形板，所述L形板的内顶壁固定连接有两个电动推杆，两个所述电动推杆的底端固定连接有安装板，所述安装板底部的中心处转动连接有连接块，所述连接块的左侧固定连接有弹簧，所述弹簧的左端固定连接有侧块，所述连接块底部的右侧和侧块的右侧均固定安装有打磨带，两个所述打磨带的另一侧分别与靶材本体的顶部和侧表面活动连接。
[0008]优选的，所述工作台的内部转动连接有双向螺杆，所述双向螺杆的两端均螺纹连接有滑块，两个所述安装杆的底端分别与两个滑块的顶部固定连接，所述工作台顶部的左右两侧均开设有滑槽，所述双向螺杆的左右两端分别与两个滑槽相背一侧的内壁转动连接，两个所述滑块分别与两个滑槽的内部滑动连接，转动把手，使双向螺杆转动，带动其两端螺纹连接的滑块相对或相背移动，可对工作台上的两个安装杆的位置进行调节，便于不同尺寸大小靶材的安装摆放。
[0009]优选的，所述工作台的右侧转动连接有把手，所述把手的左端与双向螺杆的右端固定连接，通过正反转把手即可对工作台上的两个安装杆的位置进行调节，便于不同尺寸
大小靶材的安装摆放。
[0010]优选的，所述背板顶部的左右两侧均开设有通孔，两个所述安装杆的顶端分别与两个通孔的内部活动插接，通过两个安装杆的顶端与背板上的两个通孔内插接配合，使工作台上的靶材摆放后无法移动，防止靶材随连接块和侧块一起转动。
[0011]优选的，所述安装板的顶部固定安装有电机，所述电机的输出端与连接块的顶部固定连接，通过启动电机使连接块在靶材上转动，侧块在靶材的侧表面转动，使对靶材表面进行打磨抛光。
[0012]优选的，所述连接块的左侧固定连接有连接杆，所述连接杆的侧表面与侧块的内部活动连接，所述连接杆的侧表面螺纹连接有推块，所述推块的右侧与侧块左侧的顶部抵持，所述连接杆的左端固定连接有限位块，通过转动连接杆表面螺纹连接的推块，使推块向右旋动并推动侧块右移，使侧块右侧的打磨带与靶材的左侧接触，便于靶材侧表面毛刺的旋转清除。
[0013]与现有技术相比，本技术提供了一种高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置，具备以下有益效果：
[0014]1、该高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置，通过设置连接块、弹簧、侧块、打磨带、连接杆和推块，靶材摆放至工作台后，控制两个电动推杆向下延伸，使连接块底部的打磨带与靶材的顶部接触，通过转动连接杆表面螺纹连接的推块，使推块向右旋动并推动侧块右移，使侧块右侧的打磨带与靶材的左侧接触，启动电机使连接块在靶材上转动，侧块在靶材的侧表面转动，使对靶材表面进行打磨抛光，且可适用于不同尺寸大小靶材的打磨。
[0015]2、该高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置，通过设置安装杆、双向螺杆和滑块，转动把手，使双向螺杆转动，带动其两端螺纹连接的滑块相对或相背移动，可对工作台上的两个安装杆的位置进行调节，便于不同尺寸大小靶材的安装摆放，通过两个安装杆的顶端与背板上的两个通孔内插接配合，使工作台上的靶材摆放后无法移动，防止靶材随连接块和侧块一起转动，从而便于不同尺寸大小靶材的打磨。
附图说明
[0016]图1为本技术结构剖视图；
[0017]图2为本技术图1中A处结构放大图；
[0018]图3为本技术靶材结构俯视图。
[0019]其中：1、工作台；2、背板；3、靶材本体；4、安装杆；5、L形板；6、电动推杆；7、安装板；8、连接块；9、弹簧；10、侧块；11、打磨带；12、双向螺杆；13、滑块；14、滑槽；15、把手；16、通孔；17、电机；18、连接杆；19、推块；20、限位块。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]请参阅图1
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3，一种高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置，包括工作台1，工作台1
的顶部活动连接有背板2，背板2的顶部固定连接有靶材本体3，工作台1顶部的左右两侧均活动连接有安装杆4，工作台1的内部转动连接有双向螺杆12，双向螺杆12的两端均螺纹连接有滑块13，两个安装杆4的底端分别与两个滑块13的顶部固定连接，工作台1顶部的左右两侧均开设有滑槽14，双向螺杆12的左右两端分别与两个滑槽14相背一侧的内壁转动连接，两个滑块13分别与两个滑槽14的内部滑动连接，设置安装杆4、双向螺杆12和滑块13，转动把手15，使双向螺杆12转动，带动其两端螺纹连接的滑块13相对或相背移动，可对工作台1上的两个安装杆4的位置进行调节，便于不同尺寸大小靶材的安装摆放，通过两个安装杆4的顶端与背板2上的两个通孔16内插接配合，使工作台1上的靶材摆放后无法移动，防止靶材随连接块8和侧块10一起转动，从而便于不同尺寸大小靶材的打磨，工作台1的右侧转动连接有把手15，把手15的左端与双向螺杆12的右端固定连接，两个安装杆4的顶端分别与背板2底部的左右两侧活动插接，背板2顶部的左右两侧均开设有通孔16，两个安装杆4的顶端分别与两个通孔16的内部活动插接。
[0022]工作台1顶部的后侧固定连接有L形板5，L形板5的内顶壁固定连接有两个电动推杆6，两个电动推杆6的底端固定连接有安装板7，安装板7底部的中心处转动本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)的顶部活动连接有背板(2)，所述背板(2)的顶部固定连接有靶材本体(3)，所述工作台(1)顶部的左右两侧均活动连接有安装杆(4)，两个所述安装杆(4)的顶端分别与背板(2)底部的左右两侧活动插接，所述工作台(1)顶部的后侧固定连接有L形板(5)，所述L形板(5)的内顶壁固定连接有两个电动推杆(6)，两个所述电动推杆(6)的底端固定连接有安装板(7)，所述安装板(7)底部的中心处转动连接有连接块(8)，所述连接块(8)的左侧固定连接有弹簧(9)，所述弹簧(9)的左端固定连接有侧块(10)，所述连接块(8)底部的右侧和侧块(10)的右侧均固定安装有打磨带(11)，两个所述打磨带(11)的另一侧分别与靶材本体(3)的顶部和侧表面活动连接。2.根据权利要求1所述的一种高纯氧化铌溅射镀膜靶材的制备装置，其特征在于：所述工作台(1)的内部转动连接有双向螺杆(12)，所述双向螺杆(12)的两端均螺纹连接有滑块(13)，两个所述安装杆(4)的底端分别与两个滑块(13)的顶部固定连接，所述工作台(1)顶部的左右两侧均开设有滑槽(14)...
【专利技术属性】
技术研发人员：李启凤，王俊，宋兵，
申请(专利权)人：深圳市灿元金属材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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