一种透明陶瓷微流控芯片及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种透明陶瓷微流控芯片及其制备方法，所述微流控芯片的基体为透明陶瓷，所述透明陶瓷的中间平面还设置有可吸收激光的物质或相成分，所述微流控芯片的微通道采用激光聚焦刻蚀加工法构建。步骤S1：选定物质或相成分；步骤S2：称量、球磨、烘干并过筛得到原料粉体一；步骤S3：称量、球磨、烘干并过筛得到原料粉体二；步骤S4：获得密实的陶瓷坯体；步骤S5：将所述陶瓷坯体放置于马弗炉中进行保温，得到陶瓷素坯；步骤S6：烧结，得到透明陶瓷；步骤S7：将所述透明陶瓷进行表面抛光处理后，进行激光聚焦刻蚀加工，激光聚焦于透明陶瓷的中间平面，所述中间平面的物质或相成分可吸收激光实现刻蚀加工，获得微通道构型的透明陶瓷微流控芯片。微流控芯片。微流控芯片。

【技术实现步骤摘要】
一种透明陶瓷微流控芯片及其制备方法


[0001]本专利技术涉及一种微流控芯片
，尤其涉及一种透明陶瓷微流控芯片及其制备方法。

技术介绍

[0002]微流控技术是一种以在微纳米尺寸空间对流体进行操控为主要特征的科学技术，它能将生化实验室的样品制备、反应、分离和检测等基本功能微缩到便携式微小芯片上，实现多种单元技术在整体可控的微小平台上的灵活组合与规模集成。目前，微流控芯片大都为有机物材质，如PMMA，PC，PS以及PDMS等，这些有机聚合物价格低廉，适合大批量制作。但是有机聚合物的力学性能、热稳定性以及化学稳定性较差，在一些有机溶剂中会发生溶胀现象。本专利技术采用陶瓷作为微流控芯片的基体材料，有效解决了上述问题；然而，陶瓷基体大都不透明，因此阻碍了陶瓷微流控芯片的功能集成。本专利技术采用透明陶瓷作为基体材料，其在可见光与近红外光区的透过率达到60％以上，有效解决了透明性的问题；陶瓷基体中构造微通道难度大，且难以实现复杂构型的微通道结构。
[0003]为此我们提出一种透明陶瓷微流控芯片及其制备方法以解决上述技术问题，不仅解决了陶瓷透明本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种透明陶瓷微流控芯片，其特征在于，所述微流控芯片的基体为透明陶瓷，所述透明陶瓷的中间平面还设置有可吸收激光的物质或相成分，所述微流控芯片的微通道采用激光聚焦刻蚀加工法构建。2.如权利要求1所述的一种透明陶瓷微流控芯片，其特征在于，所述透明陶瓷包括以下任意一种或两种以上的组合物：镥铝石榴石、钇铝石榴石、钇镓石榴石、铽铝石榴石、铽镓石榴石、镁铝尖晶石、氧化铝、氧化钇或氧化镓。3.如权利要求1所述的一种透明陶瓷微流控芯片，其特征在于，所述可吸收激光的物质或相成分为稀土离子或过渡金属离子掺杂于包括以下任意一种或两种以上的陶瓷晶相：钇铝石榴石、钇镓石榴石、铽铝石榴石、铽镓石榴石、镁铝尖晶石、氧化铝、氧化钇或氧化镓。4.如权利要求3所述的一种透明陶瓷微流控芯片，其特征在于，所述稀土离子或过渡金属离子的物质包括：氧化钆、氧化镓、氧化铈、二氧化锰、氧化铬、氧化镨、氧化钕、氧化镱、氧化铒、氧化钬、氧化铥或氧化铕。5.如权利要求3所述的一种透明陶瓷微流控芯片，其特征在于，所述稀土离子或过渡金属离子掺杂在所述陶瓷晶相的格位，掺杂量不超过对应格位摩尔总量的5%，所述可吸收激光的物质或相成分引起所述透明陶瓷的透过率下降不超过40%。6.如权利要求1所述的一种透明陶瓷微流控芯片，其特征在于，所述可吸收激光的物质或相成分采用原料粉体结合1500
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2000℃高温固相反应合成制备。7.一种权利要求1
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6任一项所述的一种透明陶瓷微流控芯片的制备方法，其特征在于，包...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐燕如，孙艳，
申请(专利权)人：之江实验室，
类型：发明
国别省市：