本申请提供一种研磨装置，该研磨装置包括转动组件和第一研磨石，转动组件包括可绕一回转轴转动的转盘，第一研磨石包括远离转盘的一侧的研磨面，第一研磨石的厚度在远离所述回转轴的方向上逐渐减小，在垂直于所述转盘的方向上，研磨面任意一处的截面与回转轴倾斜设置；通过将第一研磨石的厚度在远离所述回转轴的方向上设置成逐渐减小，并且，在垂直于转盘的方向上，研磨面任意一处的截面与回转轴倾斜设置，也即是将第一研磨石远离转盘一侧的研磨面设置成锥面的结构，从而在通过研磨面对显示面板研磨的过程中，始终保持研磨面的同一位置与显示面板的侧边进行接触研磨，避免出现显示面板在研磨过程中受力发生变化而导致后端过研磨的问题。磨的问题。磨的问题。
【技术实现步骤摘要】
研磨装置
[0001]本申请涉及显示领域，特别涉及一种研磨装置。
技术介绍
[0002]在诸如液晶显示面板(Liquid Crystal Display，LCD)的制作工艺中，通常需要对液晶显示面板的侧边进行研磨。
[0003]目前，通常采用环型研磨石100对液晶显示面板200的侧边进行研磨，如图1至图4，环型研磨石100可以包括与液晶显示面板200接触的第一区110和第二区120，随着液晶显示面板200的直线移动，可以将研磨过程划分为如图1所示的环型研磨石100与液晶显示面板200在第一区110接触的第一阶段、如图2所示的环型研磨石100与液晶显示面板200在第一区110和第二区120同时接触的第二阶段，以及如图3所示的环型研磨石100与液晶显示面板200在第二区120接触的第三阶段，如图4所示，在第一阶段的过程中，液晶显示面板200在环型研磨石100的第一区110受到向下的力而发生弯曲形变，在由第二阶段进行入第三阶段时，液晶显示面板200脱离环型研磨石100的第一区110并仅跟环型研磨石100的第二区120接触，此时液晶显示面板200从弯曲形变状态回复，从而导致在第三阶段中液晶显示面板200的后端与环型研磨石100的第二区120研磨过量且发生镜面现象的问题。
技术实现思路
[0004]本申请的目的在于，提供一种研磨装置，用于解决液晶显示面板侧边研磨时后端容易产生研磨过量的技术问题。
[0005]为了解决上述问题，本申请提供一种研磨装置，包括：
[0006]转动组件，包括可绕一回转轴转动的转盘；
[0007]第一研磨石，设置于所述转盘上且绕所述回转轴设置，所述第一研磨石包括远离所述转盘的一侧的研磨面；
[0008]其中，所述第一研磨石的厚度在远离所述回转轴的方向上逐渐减小，在垂直于所述转盘的方向上，所述研磨面任意一处的截面与所述回转轴倾斜设置。
[0009]在本申请实施例所提供的研磨装置中，在垂直于所述转盘的方向上，所述研磨面任意一处的截面与所述回转轴的夹角为84度～88度。
[0010]在本申请实施例所提供的研磨装置中，所述第一研磨石包括至少两间隔设置的环型研磨部，任一所述环型研磨部均位于所述转盘上且绕所述回转轴设置。
[0011]在本申请实施例所提供的研磨装置中，相邻两所述环型研磨部的间距大于或等于1.45mm。
[0012]在本申请实施例所提供的研磨装置中，所述研磨面包括各所述环型研磨部远离所述转盘一侧的表面。
[0013]在本申请实施例所提供的研磨装置中，所述转动组件包括设置于所述转盘中心的支撑柱，所述研磨装置包括设置于所述支撑柱远离所述转盘一侧对第二研磨石，所述第二
研磨石的表面呈球面。
[0014]在本申请实施例所提供的研磨装置中，所述第二研磨石的直径大于所述支撑柱在所述转盘上的正投影的直径。
[0015]在本申请实施例所提供的研磨装置中，表面呈球面的所述第二研磨石的球心到所述支撑柱的距离大于或等于所述第二研磨石的直径的四分之一。
[0016]在本申请实施例所提供的研磨装置中，在垂直于所述转盘的方向上，所述支撑柱的厚度大于所述第一研磨石的厚度。
[0017]在本申请实施例所提供的研磨装置中，在垂直于所述转盘的方向上，所述第一研磨石远离所述回转轴一侧的厚度大于或等于6mm。
[0018]本申请的有益效果为，通过将第一研磨石设置于转盘上且绕所述回转轴设置，具体将第一研磨石的厚度在远离所述回转轴的方向上设置成逐渐减小，并且，在垂直于转盘的方向上，研磨面任意一处的截面与回转轴倾斜设置，也即是将第一研磨石远离转盘一侧的研磨面设置成锥面的结构，从而在通过研磨面对显示面板研磨的过程中，始终保持研磨面的同一位置与显示面板的侧边进行接触研磨，避免出现显示面板在研磨过程中受力发生变化而导致后端过研磨的问题。
附图说明
[0019]下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0020]图1为液晶显示面板侧边研磨第一阶段的相对位置示意图；
[0021]图2为液晶显示面板侧边研磨第二阶段的相对位置示意图；
[0022]图3为液晶显示面板侧边研磨第三阶段的相对位置示意图；
[0023]图4为图1中A
‑
A位置的剖面图；
[0024]图5为本申请实施例中研磨装置的结构示意图；
[0025]图6为本申请实施例中研磨装置的研磨显示面板侧边时的结构示意图；
[0026]图7为图6中B
‑
B位置的剖面图；
[0027]图8为本申请实施例中研磨装置的研磨显示面板倒角时的结构示意图。
具体实施方式
[0028]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0029]在本申请的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0030]现结合具体实施例对本申请的技术方案进行描述。
[0031]本申请提供一种研磨装置，请参阅图5至图7，述研磨装置包括：
[0032]转动组件1，包括可绕一回转轴11转动的转盘12；
[0033]第一研磨石3，设置于所述转盘12上且绕所述回转轴11设置，所述第一研磨石3包括远离所述转盘12的一侧的研磨面31；
[0034]其中，所述第一研磨石3的厚度在远离所述回转轴11的方向上逐渐减小，在垂直于所述转盘12的方向上，所述研磨面31任意一处的截面与所述回转轴11倾斜设置。
[0035]可以理解的是，目前，通常采用环型研磨石100对液晶显示面板200的侧边进行研磨，如图1至图4，环型研磨石100可以包括与液晶显示面板200接触的第一区110和第二区120，随着液晶显示面板200的直线移动，可以将研磨过程划分为如图1所示的环型研磨石100与液晶显示面板200在第一区110接触的第一阶段、如图2所示的环型研磨石100与液晶显示面板200在第一区110和第二区120同时接触的第二阶段，以及如图3所示的环型研磨石100与液晶显示面板200在第二区120接触的第三阶段，如图4所示，在第一阶段的过程中，液晶显示面板200在环型研磨石100的第一区110受到向下的力而发生弯曲形变，在由第二阶段进行入第三阶段时，液晶显示面板200脱离环型研磨石100的第一区110并仅跟环型研磨石100的第二区120接触，此时液晶显示面板200从弯曲形变状态回复本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种研磨装置，其特征在于，包括：转动组件，包括可绕一回转轴转动的转盘；第一研磨石，设置于所述转盘上且绕所述回转轴设置，所述第一研磨石包括远离所述转盘的一侧的研磨面；其中，所述第一研磨石的厚度在远离所述回转轴的方向上逐渐减小，在垂直于所述转盘的方向上，所述研磨面任意一处的截面与所述回转轴倾斜设置。2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，在垂直于所述转盘的方向上，所述研磨面任意一处的截面与所述回转轴的夹角为84度～88度。3.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述第一研磨石包括至少两间隔设置的环型研磨部，任一所述环型研磨部均位于所述转盘上且绕所述回转轴设置。4.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，相邻两所述环型研磨部的间距大于或等于1.45mm。5.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨...
【专利技术属性】
技术研发人员：南京，贾慧中，
申请(专利权)人：苏州华星光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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