一种用于有害气体的处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于有害气体的处理装置，属于半导体有害气体处理技术领域，解决了现有技术中反应腔内水壁不均匀、固体颗粒造成反应腔堵塞、散热性能下降和反应腔内壁腐蚀、用于有害气体的处理装置体积大的问题。该处理装置，包括沿尾气流动方向依次连接的热分解腔、反应腔、水箱、喷淋塔和反应气供应单元；热分解腔位于反应腔的上方且两者通过流体旋转法兰连通，流体旋转法兰的出液口与反应腔连通；反应气供应单元的出气口位于热分解腔靠近流体旋转法兰一端的侧壁。该用于有害气体的处理装置可用于泛半导体加工工艺产生的尾气处理。理。理。

【技术实现步骤摘要】
一种用于有害气体的处理装置


[0001]本技术属于半导体有害气体处理
，尤其涉及一种用于有害气体的处理装置。

技术介绍

[0002]在泛半导体行业中，对于尾气(例如，含硅元素的气体、全氟化合物气体和氢气)的无害化处理方法是将气体通入高温反应腔，有害气体在高温下与氧气进行反应。
[0003]但是，在反应腔中，水幕通常采用自然溢流的方式形成，当反应腔的加工精度不足或设备安装不水平时，容易出现水壁不均匀的现象以及造成反应腔内壁腐蚀或者涂层损坏；水沿内壁的流动速度较慢，水蒸发为水蒸气的传质速度会很慢，导致反应效率低；当半导体工艺中含硅气体流量较大时，会在短时间内产生大量的二氧化硅颗粒，容易造成反应腔堵塞和散热性能下降。
[0004]此外，对于氢气的无害化处理，由于氢气热值高，燃烧过程会释放大量的热量，处理大量的氢气往往需要大体积的尾气处理器。

技术实现思路

[0005]鉴于以上分析，本技术旨在提供一种用于有害气体的处理装置，解决了现有技术中反应腔内水壁不均匀、固体颗粒造成反应腔堵塞、散热性能下降和反应腔内壁腐蚀、用于有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于有害气体的处理装置，其特征在于，包括沿尾气流动方向依次连接的热分解腔、反应腔、水箱、喷淋塔和反应气供应单元；所述热分解腔位于反应腔的上方且两者通过流体旋转法兰连通，所述流体旋转法兰的出液口与反应腔连通；所述反应气供应单元的出气口位于热分解腔靠近流体旋转法兰一端的侧壁。2.根据权利要求1所述的用于有害气体的处理装置，其特征在于，所述流体旋转法兰包括法兰基体以及设于法兰基体上的溢流槽和溢流支管；供水单元通过溢流支管与溢流槽连通，所述溢流支管的进液口与溢流槽侧壁的切向的夹角为α≠90
°
。3.根据权利要求2所述的用于有害气体的处理装置，其特征在于，所述溢流支管的数量为2～8个，2～8个溢流支管沿溢流槽的轴向均匀布置。4.根据权利要求1所述的用于有害气体的处理装置，其特征在于，所述反应气供应单元包括多个反应气喷嘴，多个反应气喷嘴沿热分解腔的轴向均匀布置。5.根据权利要求1至4任一项所述的用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：王福清，
申请(专利权)人：上海协微环境科技有限公司，
类型：新型
国别省市：