一种显示基板的制作方法技术

技术编号：35503201 阅读：16 留言：0更新日期：2022-11-09 14:13

本公开实施例公开一种显示基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成位于NMOS晶体管区的第一有源层以及位于PMOS晶体管区的第二有源层；在第一有源层、第二有源层背离衬底基板一侧涂覆第一光刻胶层，对第一光刻胶层构图形成第一图案层，至少暴露出第一有源层两端；以第一图案层为掩膜，对第一有源层两端进行N型重掺杂；对第一图案层进行处理形成第二图案层，至少暴露出第一有源层中间区域；以第二图案层为掩膜，对第一有源层进行沟道掺杂；剥离第二图案层后，对第二有源层两端进行P型重掺杂；在第一有源层、第二有源层背离衬底基板一侧形成与N型重掺杂区电连接的第一源极和第一漏极，以及形成与P型重掺杂区电连接的第二源极和第二漏极。极和第二漏极。极和第二漏极。极和第二漏极。