显示面板、显示装置、显示面板的制作方法、设备和介质制造方法及图纸

技术编号:42042228 阅读:24 留言:0更新日期:2024-07-16 23:25
本申请公开了一种显示面板、显示装置、显示面板的制作方法、设备和介质,一般显示设备领域。该显示面板包括:基板;位于基板一侧的遮光层;位于遮光层远离基板的一侧的缓冲层,缓冲层包括层叠设置的第一绝缘层和第二绝缘层;以及位于缓冲层远离基板的一侧的多个薄膜晶体管,多个薄膜晶体管中的至少一个薄膜晶体管包括多晶硅层,其中,遮光层在基板上的正投影与多晶硅层在基板上的正投影至少部分交叠;第一绝缘层覆盖遮光层远离基板的表面和侧面,第一绝缘层包括多个第一绝缘图案,多个第一绝缘图案和多个薄膜晶体管一一对应;多晶硅层在基板的正投影在第一绝缘图案在基板的正投影之内。

【技术实现步骤摘要】

本公开一般涉及显示设备,尤其涉及一种显示面板、显示装置、显示面板的制作方法、设备和介质


技术介绍

1、随着显示技术的发展,显示面板也在不断发展。

2、为了解决显示面板大视角发红的问题,会将显示面板中基板上方的层间介质层(ild)增厚,同时将基板和层间介质层之间的缓冲层设置氧化硅层。

3、然而,由于氧化硅层的介电常层较低,因此,随着使用时长的增加,基板中的导电粒子会容易从基板中分离,并通过氧化硅层向tft沟道层上移,最终到达tft沟道内,造成tft漏电程度增加,影响显示面板的显示效果。


技术实现思路

1、鉴于相关技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种显示面板、显示装置、显示面板的制作方法、设备和介质,能够解决由于氧化硅层的介电常层较低,因此,随着使用时长的增加,基板中的导电粒子会容易从基板中分离,并通过氧化硅层向tft沟道层上移,最终到达tft沟道内,造成tft漏电程度增加,影响显示面板的显示效果的问题。。

2、第一方面,提供了一种显示面板,所述显示面板包括:

3本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘层中第一绝缘图案的形状与所述多晶硅层的轮廓形状相同。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘层中第一绝缘图案的中心点与所述多晶硅层的轮廓中心点重合。

4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘层中第一绝缘图案的轮廓边界任一点和所述多晶硅层的轮廓边界之间的最短距离恒定。

5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘层中第一绝缘图案的在所述基板上的正投影,在所述薄膜晶体管在所述基板上的正投...

【技术特征摘要】

1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘层中第一绝缘图案的形状与所述多晶硅层的轮廓形状相同。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘层中第一绝缘图案的中心点与所述多晶硅层的轮廓中心点重合。

4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘层中第一绝缘图案的轮廓边界任一点和所述多晶硅层的轮廓边界之间的最短距离恒定。

5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘层中第一绝缘图案的在所述基板上的正投影,在所述薄膜晶体管在所述基板上的正投影之内。

6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括层间介质层;

7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘层的厚度、所述遮光层的厚度与所述层间介质层的厚度之和,与所述显示面板的厚度之间的比值在预设比例范围之内。

8.根据权利要求1至7任一项所述的显示面板,其特征在于,所述第一绝缘图案包括至少一种图案类型。

9.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1至8任一项所述的显示面板。

10.一种显示面板的制作方法,其特征在于,所述显示面板包括基板、位于所述基板一侧的遮光层,位于所述遮光层远离所述基板的一侧的缓冲层,以及位于所述缓冲层远离所述基板的一侧的多个薄膜晶体管,所述多个薄膜晶体管中的至少一个薄膜晶体管包括多晶硅层,所述方法包括:

11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述第一绝缘层中第一绝缘图案的形状与所述多晶硅层的轮廓形状相同。

12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述第一绝缘层的轮廓中心点与所述多晶硅层的轮廓中心点重合。

13....

【专利技术属性】
技术研发人员:冯晓青徐敬义王志强刘华锋
申请(专利权)人:鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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