一种黑臭底泥有机污染原位修复方法技术

本发明专利技术公开了一种黑臭底泥有机污染原位修复方法，具体包括以下步骤：S1、向黑臭水体底泥中投加氧化剂过碳酸钠，S2、待过碳酸钠反应完全后，向黑臭水体底泥中投加菌剂，本发明专利技术涉及环境治理技术领域。该黑臭底泥有机污染原位修复方法，首先，向底泥中投加氧化剂，一方面氧化剂迅速分解生成双氧水，双氧水可以分解底泥中的有机物；其次，氧化剂迅速分解生成氧气，使黑臭底泥溶解氧增高，为好氧微生物提供氧气；另外，氧化剂的添加使大分子有机物分解成小分子有机物，为微生物生长提供底物；最后降解菌的添加促进了小分子有机质的降解，最终达到降解不同分子量的有机物的目的，完成黑具底泥中有机污染的去除目标。有机污染的去除目标。

【技术实现步骤摘要】
一种黑臭底泥有机污染原位修复方法


[0001]本专利技术涉及环境治理
，具体为一种黑臭底泥有机污染原位修复方法。

技术介绍

[0002]水体黑臭是水体有机污染的一种极端现象，主要包括外源污染和内源污染。有机污染物主要包括有机碳、有机氮、有机磷及有机硫等，进入水体后微生物对其分解过程中会消耗大量的溶解氧，造成水体缺氧，厌氧微生物大量繁殖并分解有机物产生大量致黑致臭物质，从而引起水体发黑发臭。研究表明有机物达到1.0g L
‑1的负荷水平就对水体均有致黑作用，其中含硫有机物导致水体黑臭的时间更短。底泥可作为污染的“汇”，水体中有机污染物可以通过沉降、吸附等作用进入底泥；同时，当环境收到扰动时，底泥也可作为污染的“源”，将污染物不断释放到水体中，从而引起水体二次污染。长期以来，我国对于河道治理普遍关注水体治理，轻视底泥的修复，底泥导致的内源释放问题成为了主要的污染问题。近年来，底泥污染物对水体释放造成的水体污染现象屡见不鲜。因此，当外源污染得到控制后，底泥污染的内源治理与控制是改善水质、防止黑臭水体“反弹”的关键。
[0003]目前，黑臭底泥的原位修复法包括：物理法、化学法、生物法及联合修复法。原位物理覆盖法是在受污染底泥上铺一层或多层合适厚度的掩蔽层来控制污染物向水体扩散的方法。该方法有一定的修复效果，但工程量巨大，大面积铺设需要投入大量的成本。原位化学修复一般是在污染底泥中投加一定量的化学氧化试剂，使底泥中的污染物和试剂发生反应直接或间接地达到污染物转化的效果。化学原位修复法显著效果且工程造价低，易于实现，但大部分化学氧化剂对微生物都有灭活作用，氧化剂释放氧气也会导致底泥扰动，向水体释放污染物，且方法针对性较强，而不同水环境下底泥理化性质差异较大，因此需对特定水体进行相关研究。微生物处理技术虽然效果好，无二次污染，但处理周期较长。因此，单一处理技术存在一定的缺陷，开发操作方便、成本低廉、使用广泛的水体黑臭抑制技术具有重要的工程意义。
[0004]联合修复技术可以尽可能的发挥单一修复的优势弥补各自的不足，在实际工程中，生物技术和物理化学技术联合往往才能达到更好的效果。然而，通常化学氧化剂对微生物具有一定的灭活作用，如何高效的将化学氧化方法与微生物法联合使用，需要一定的技巧。化学氧化剂种类的选择、剂量的控制、投加方法、微生物种类的选择、菌剂量的控制、菌剂的比例及投加方式的优化，是底泥有机污染高效去除的关键。

技术实现思路

[0005](一)解决的技术问题
[0006]针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种黑臭底泥有机污染原位修复方法，工艺简单安全、处理效果好，具有操作简单、去除效果好、价格低廉、环境友好。
[0007](二)技术方案
[0008]为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种黑臭底泥有机污染原
位修复方法，具体包括以下步骤：
[0009]S1、向黑臭水体底泥中投加氧化剂过碳酸钠；
[0010]S2、待过碳酸钠反应完全后，向黑臭水体底泥中投加菌剂。
[0011]优选的，所述步骤S1中氧化剂过碳酸的投加量按底泥体积为1
‑
10g/dm3。
[0012]优选的，所述步骤S2中菌剂为阿氏芽孢杆菌和枯草芽孢杆菌的复合菌剂，复合菌剂复配比以1:1、1:10、10:1为向黑臭水体底泥中投加菌剂。
[0013]优选的，所述步骤S2中菌剂投加量按底泥体积为1
‑
10OD
600
/dm3。
[0014]优选的，所述步骤S2中菌剂投加种类为阿氏芽孢杆菌或枯草芽孢杆菌中的一种。
[0015]优选的，所述步骤S1中氧化剂过碳酸钠的投加方式按总量分为单次和多次投加，均匀注射到底泥中。
[0016]优选的，所述步骤S2中菌剂投加方式为在黑臭底泥上覆水中均匀投加或直接均匀注射到黑臭底泥中。
[0017]优选的，所述菌剂是通过纯菌冻干粉进行活化后再扩大培养，扩大培养至菌株生长对数期后的菌液用PBS缓冲液离心，离心转速为8000r/min，离心时间为20min，清洗3次，再用适量的PBS缓冲液重悬成菌剂备用。
[0018](三)有益效果
[0019]本专利技术提供了一种黑臭底泥有机污染原位修复方法。与现有技术相比具备以下有益效果：
[0020](1)、该黑臭底泥有机污染原位修复方法，通过向底泥中投加氧化剂过碳酸钠，其迅速分解生成双氧水，双氧水可以有效氧化降解黑臭底泥中的有机物。
[0021](2)、该黑臭底泥有机污染原位修复方法，通过向底泥中投加氧化剂过碳酸钠，氧化剂迅速分解生成氧气，使黑臭底泥溶解氧增高，为好氧微生物提供氧气，提高底泥中微生物好氧降解有机物的效率。
[0022](3)、该黑臭底泥有机污染原位修复方法，通过向底泥中投加氧化剂过碳酸钠，氧化剂氧化降解大分子有机物成小分子有机物，为微生物生长提供底物。
[0023](4)、该黑臭底泥有机污染原位修复方法，过碳酸钠反应结束后，向底泥中投加降解菌剂，促进了小分子有机物的降解，最终达到降解不同分子量的有机物的目的，完成黑具底泥中有机污染的去除目标。
[0024](5)、该黑臭底泥有机污染原位修复方法，具有操作简单、去除效果好、价格低廉、环境友好等优点，该方法可以改善底泥溶解氧环境，利于黑臭底泥生态环境的恢复，对黑臭水体底泥有机污染治理具有重要意义。
附图说明
[0025]图1为本专利技术的流程图；
[0026]图2为本专利技术实施例中使用本专利技术的黑臭底泥有机污染修复方法30天水体中的DO浓度变化曲线；
[0027]图3为本专利技术实施例中使用本专利技术的黑臭底泥有机污染修复方法30天底泥中的TOC去除效果图。
具体实施方式
[0028]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0029]请参阅图1
‑
3，本专利技术实施例提供三种技术方案：一种黑臭底泥有机污染原位修复方法，具体包括以下实施例：
[0030]实施例1
[0031]本实施所用的底泥取自某市的黑臭底泥，在实验室进行小试。
[0032]一种黑臭底泥有机污染原位修复方法，具体包括以下步骤：
[0033]步骤S1、向黑臭水体底泥中投加氧化剂过碳酸钠。量取1000mL黑臭底泥(含水率60％)倒入2L烧杯中，对应1000mL底泥称量氧化剂过碳酸钠2g(即2g/dm3)，设置3个重复。氧化剂过碳酸钠的投加方式为单次投加，即在处理的第1天将过碳酸钠均匀注射到底泥中。
[0034]步骤S2、待过碳酸钠反应完全后，向黑臭水体底泥中投加阿氏芽孢杆菌菌剂，菌剂投加量按底泥体积为2OD
600
/dm3。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种黑臭底泥有机污染原位修复方法，其特征在于：具体包括以下步骤：S1、向黑臭水体底泥中投加氧化剂过碳酸钠；S2、待过碳酸钠反应完全后，向黑臭水体底泥中投加菌剂。2.根据权利要求1所述的一种黑臭底泥有机污染原位修复方法，其特征在于：所述步骤S1中氧化剂过碳酸的投加量按底泥体积为1
‑
10g/dm3。3.根据权利要求1所述的一种黑臭底泥有机污染原位修复方法，其特征在于：所述步骤S2中菌剂为阿氏芽孢杆菌和枯草芽孢杆菌的复合菌剂，复合菌剂复配比以1:1、1:10、10:1为向黑臭水体底泥中投加菌剂。4.根据权利要求1所述的一种黑臭底泥有机污染原位修复方法，其特征在于：所述步骤S2中菌剂投加量按底泥体积为1
‑
10OD
600
/dm3。5....

【专利技术属性】
技术研发人员：张澜，杭小帅，尤晓慧，周莉，朱冬冬，王燕，汪磊，
申请(专利权)人：生态环境部南京环境科学研究所，
类型：发明
国别省市：