一种分光光度计系统技术方案

本发明专利技术提供一种分光光度计系统，属于激光技术领域，本发明专利技术的分光光度计系统包括：测试光源、激光调节器、指示光源、合束器和样品参数测试系统。其中，测试光源用于生成测试激光；激光调节器用于调节测试激光的输出功率和偏振方向；指示光源用于生成指示激光；合束器用于引导测试激光和指示激光合束出射；样品参数测试系统位于合束器的出光侧，样品参数测试系统包括样品调节机构和激光功率探测器，样品调节机构用于调节待测样品透射测试激光的位置，激光功率探测器用于检测测试激光经过样品调节机构后的输出功率。本发明专利技术的分光光度计系统，能够生成具有不同偏振态和功率密度的测试激光，从而获得不同待测样品在实际工况下的光学参数。参数。参数。

【技术实现步骤摘要】
一种分光光度计系统


[0001]本专利技术涉及激光
，具体涉及一种分光光度计系统。

技术介绍

[0002]目前，光刻机等高精密光机设备中所使用的光学元件，需要极高质量以保证激光经过光学元件后能量的均匀性，这都对光学器件的面型和表面镀膜提出了极高的指标要求。其中，光学元件表面镀膜的质量会直接影响曝光成像能量的一致性，进而影响后续的工序刻蚀环节，因此测定每片光学元件的镀膜参数，是必不可少的一个生产环节。
[0003]光学元件镀膜指标主要涉及反射率和透射率。在光刻机上使用的光学元件，多数在高功率激光环境下使用，这种能量密度高，脉冲频次高的激光，对光学元件镀膜本身会产生一些微观的变化，比如膜层表面局部的不均匀，导致在高能量密度下的吸收不均匀，引起局部区域的升温，进一步导致反射率的下降等。当前常规的检测光学元件反射率的测试仪器的光源主要为低功率或固定功率以及固定偏振方向，无法模拟光学元件的使用工况，准确标定光学元件实际工作时的反射率指标。故而需要设计一种分光光度计系统，以解决上述问题。

技术实现思路

[0004]鉴于以上现有技术的缺点，本专利技术提供了一种分光光度计系统，用以解决现有技术中测试仪器仅能以低功率和固定偏振方向激光测试光学元件的镀膜参数，无法模拟获得光学元件在实际使用工况下光学参数的技术问题。
[0005]为实现上述目的及其它相关目的，本专利技术提供一种分光光度计系统，该分光光度计系统包括：测试光源、激光调节器、指示光源、合束器和样品参数测试系统。
[0006]其中，测试光源用于生成测试激光；所述激光调节器设置在所述测试光源的激光发射端一侧，所述激光调节器用于调节所述测试激光的输出功率和偏振方向；指示光源用于生成指示激光；合束器用于引导所述测试激光和指示激光合束出射；样品参数测试系统位于所述合束器的出光侧，所述样品参数测试系统包括样品调节机构和激光功率探测器，所述样品调节机构用于调节待测样品透射所述测试激光的位置，所述激光功率探测器用于检测所述测试激光经过所述样品调节机构后的输出功率。
[0007]在本专利技术一示例中，所述测试激光为不可见激光，所述指示激光为可见激光。
[0008]在本专利技术一示例中，所述分光光度计系统还包括控制器，所述控制器分别与所述激光调节器和样品参数测试系统相电连，所述控制器调节所述激光调节器和样品调节机构，并通过所述激光功率探测器获取所述待测样品不同位置处的光学参数。
[0009]在本专利技术一示例中，所述分光光度计系统还包括控制器，所述控制器分别与所述激光调节器和样品参数测试系统相电连，所述控制器按设定参数调节所述激光调节器和样品调节机构以自动对所述待测样品进行测试，并通过所述激光功率探测器获取所述待测样品不同位置处的光学参数。
[0010]在本专利技术一示例中，所述分光光度计系统还包括激光状态监测装置，所述激光状态监测装置设置在所述合束器和样品参数测试系统之间，所述激光状态监测装置用于监测所述测试激光和指示激光在同一传输光路上的指向偏差。
[0011]在本专利技术一示例中，所述控制器分别与所述激光状态监测装置和合束器相电连，所述控制器根据所述测试激光和指示激光的指向偏差，通过所述合束器调节所述测试激光和指示激光的指向，使所述测试激光和指示激光合束传输。
[0012]在本专利技术一示例中，所述激光状态监测装置包括至少一个光斑位置监测装置，所述光斑位置监测装置沿所述传输光路依次设置，所述光斑位置监测装置包括分束镜和摄像机，所述分束镜设置在所述传输光路上，所述摄像机正对于所述分束镜，所述摄像机用于拍摄记录所述测试激光和指示激光在所述分束镜上形成的光斑位置。
[0013]在本专利技术一示例中，所述光斑位置监测装置还在所述分束镜的反光面一侧依次设置聚焦镜和功率计，所述聚焦镜将所述分束镜部分反射的测试激光或指示激光聚焦至所述功率计处。
[0014]在本专利技术一示例中，所述激光调节器包括偏振转化器和布儒斯特窗组件，所述偏振转化器用于调节所述测试激光的偏振方向，所述布儒斯特窗组件通过驱使布儒斯特窗片转动来调节所述测试激光的输出功率。
[0015]在本专利技术一示例中，所述样品调节机构包括样品调节架和激光焦距调节器；所述样品调节架用于装载待测样品，并调节所述测试激光在所述待测样品上的透射位置；所述激光聚焦调节器用于将所述测试激光和指示激光聚焦至所述激光功率探测器处，并调节所述测试激光和指示激光在所述待测样品上的光斑大小。
[0016]在本专利技术一示例中，所述测试光源和指示光源的激光出射端各设置有扩束镜。
[0017]本专利技术中分光光度计系统，通过激光调节器获得具有不同偏振态和功率密度的测试激光，同时生成与测试激光合束出射的指示激光以配合样品调节机构调节样品透射测试激光的位置和光斑大小，实现对待测样品任意指定区域在不同参数激光下的光学性能测试，从而获得不同待测样品在实际工况下的光学参数。所以，本专利技术有效克服了现有技术中的一些实际问题从而有很高的利用价值和使用意义。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为本专利技术一实施例中分光光度计系统的结构示意图；图2为本专利技术一实施例中激光调节器的结构示意图；图3为本专利技术一实施例中激光调节器中偏振转化器的结构示意图；图4为本专利技术一实施例中激光调节器中布儒斯特窗组件的结构示意图；图5为本专利技术一实施例中光斑位置监测装置的结构示意图；图6为本专利技术一实施例中样品参数测试系统的结构示意图。
[0020]元件标号说明
100、测试光源；110、第一扩束镜；200、激光调节器；210、偏振转化器；211、半波片；212、第一旋转台；220、布儒斯特窗组件；221、布儒斯特窗片；222、第二旋转台；230、光陷阱；300、指示光源；310、第二扩束镜；400、合束器；410、第一合束镜组件；420、第二合束镜组件；500、样品参数测试系统；510、样品调节机构；511、激光焦距调节器；512、样品调节架；520、激光功率探测器；600、激光状态监测装置；610、光斑位置监测装置；611、分束镜；612、摄像机；613、聚焦镜；614、功率计；700、控制器；800、激光同轴检测器；900、激光指向调节器。
具体实施方式
[0021]以下通过特定的具体实例说明本专利技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其它优点与功效。本专利技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本专利技术的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。还应当理解，本专利技术实施例中使用的术语是为了描述特定的具体实施方案，而不是本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种分光光度计系统，其特征在于，包括：测试光源，其用于生成测试激光；激光调节器，其设置在所述测试光源的激光发射端一侧，所述激光调节器用于调节所述测试激光的输出功率和偏振方向；指示光源，其用于生成指示激光；合束器，其用于引导所述测试激光和指示激光合束出射；样品参数测试系统，其位于所述合束器的出光侧，所述样品参数测试系统包括样品调节机构和激光功率探测器，所述样品调节机构用于调节待测样品透射所述测试激光的位置，所述激光功率探测器用于检测所述测试激光经过所述样品调节机构后的输出功率。2.根据权利要求1所述分光光度计系统，其特征在于，所述测试激光为不可见激光，所述指示激光为可见激光。3.根据权利要求1所述分光光度计系统，其特征在于，所述分光光度计系统还包括控制器，所述控制器分别与所述激光调节器和样品参数测试系统相电连，所述控制器按设定参数调节所述激光调节器和样品调节机构以自动对所述待测样品进行测试，并通过所述激光功率探测器获取所述待测样品不同位置处的光学参数。4.根据权利要求3所述分光光度计系统，其特征在于，所述分光光度计系统还包括激光状态监测装置，所述激光状态监测装置设置在所述合束器和样品参数测试系统之间，所述激光状态监测装置用于监测所述测试激光和指示激光在同一传输光路上的指向偏差。5.根据权利要求4所述分光光度计系统，其特征在于，所述控制器分别与所述激光状态监测装置和合束器相电连，所述控制器根据所述测试激光和指示激光的...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜文武，洪传贵，张继清，李朝阳，
申请(专利权)人：安徽创谱仪器科技有限公司，
类型：发明
国别省市：