本发明专利技术的目的是提供一种用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置及清洗方法，包括反应容器、第一磁块、第二磁块和第三磁块；所述反应容器的底部为锥形；所述第一磁块设置于所述第一侧壁的侧面，所述第二磁块设置于所述第二侧壁的一侧，所述第三磁块设置于所述反应容器的底侧；所述反应容器在移动机构的带动下在第一磁块和第二磁块之间摆动并呈折线轨迹上升；使反应容器的底部接近所述第三磁块的一侧，反应容器在移动机构的带动下在第一磁块和第二磁块之间摆动并呈折线轨迹上升，使结合后的磁微粒在反应容器内的反应液中呈折线穿梭，在反应液中穿梭过程中，实现对结合后的磁微粒表面及夹杂在结合后的磁微粒之间的未与磁微粒结合的待测物的清洗。待测物的清洗。待测物的清洗。
【技术实现步骤摘要】
用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置及清洗方法
[0001]本专利技术涉及免疫分析设备
，特别涉及用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置及清洗方法。
技术介绍
[0002]免疫分析设备用于各种抗原、半抗原、抗体、激素等待测物的检测分析技术。磁微粒化学发光免疫分析是用于检测微量待测物的一种标记免疫测定技术，结合后的磁微粒是磁微粒与待测物反应后的结合体。未与磁微粒反应结合的待测物，在后续检测时仍然会影响检测结果的准确性，因此，要将未与磁微粒反应结合的待测物进行清洗，具体是针对附着在结合后的磁微粒表面或夹杂在结合后的磁微粒之间的未与磁微粒反应结合的待测物进行清洗，使未与磁微粒反应结合的待测物被清洗干净，以防未与磁微粒反应结合的待测物对检测精度造成影响。
[0003]在现有的结合后的磁微粒清洗装置中，在反应容器中加入一定量的待测物与磁微粒混合液体后，待测物与磁微粒反应形成结合后的磁微粒，将反应容器移动至磁铁位，磁铁把反应容器中的结合后的磁微粒吸附聚集到容器内壁一侧，通过抽废针将反应容器中的液体抽吸干净，然后，反应容器离开磁铁后加注清洗液，把聚集的结合后的磁微粒冲散至混匀状态，再移动反应容器至相同或同侧的磁铁位，反应容器中的结合后的磁微粒再次吸附聚集后，通过抽废针将反应容器中的液体再次抽吸干净，以上动作重复多次后，完成结合后的磁微粒清洗。
[0004]上述清洗装置及清洗方式，容易清洗不彻底，特别是附着在结合后的磁微粒表面或夹在结合后的磁微粒之间的待测物，这些残留的额待测物将对后续的检测精度造成影响；同时，因存在抽废液和加注清洗液的过程，一方面使系统的液路系统复杂化，另外也容易造成废液，污染环境。
[0005]鉴于此，有必要对现有的清洗装置及清洗方方法予以改进，以解决上述技术问题。
技术实现思路
[0006]为解决上述技术问题，本专利技术的目的是提供一种用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置及清洗方法，通过多个磁块和反应容器之间的移动配合，以实现更彻底地清洗结合后的磁微粒，具体技术方案如下。
[0007]为实现上述第一个专利技术目的，本申请提供了一种用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置，包括反应容器、第一磁块和第二磁块；
[0008]所述反应容器的底部为锥形，所述反应容器包括第一侧壁和第二侧壁；
[0009]所述第一磁块设置于所述第一侧壁的侧面，所述第二磁块设置于所述第二侧壁的一侧；
[0010]所述反应容器在移动机构的带动下在第一磁块和第二磁块之间摆动并呈折线轨迹上升，当反应容器上升至最高处后停止上升。
[0011]优选地，还包括第三磁块，所述第三磁块设置于所述反应容器的底侧；
[0012]当反应容器上升至最高处后停止上升，反应容器移动下降至第三磁块并使反应容器的底部接近所述第三磁块的一侧，使结合后的磁微粒聚集于所述反应容器的底部。
[0013]为实现上述第一个专利技术目的，本申请还提供了一种用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置，包括反应容器、第一磁块和第二磁块；
[0014]所述反应容器的底部为锥形，所述反应容器包括第一侧壁和第二侧壁；
[0015]所述第一磁块设置于所述第一侧壁的侧面，所述第二磁块设置于所述第二侧壁的一侧；
[0016]所述第一磁块和所述第二磁块分别交错地接近反应容器的第一侧壁和第二侧壁并呈折线轨迹下降，第一磁块或所述第二磁块下降最低处且靠近反应容器。
[0017]优选地，还包括第三磁块，所述第三磁块设置于所述反应容器的底侧；
[0018]当第一磁块或所述第二磁块下降最低处且靠近反应容器后，靠近反应容器的第一磁块或所述第二磁块远离所述反应容器，所述第三磁块移动至所述反应容器的底部，使所述第三磁块的一侧接近所述反应容器的底部，使结合后的磁微粒聚集于所述反应容器的底部。
[0019]优选地，所述反应容器的底部设置微型孔，所述反应容器的顶部设置移液器。
[0020]优选地，所述第一磁块、第二磁块和第三磁块的形状均为矩形、圆形或异形所述第一磁块、第二磁块和第三磁块分别由若干个磁块拼接而成。
[0021]为实现上述第二个专利技术目的，本申请提供了一种免疫分析设备的磁微粒清洗方法，包括以下步骤：
[0022]在反应容器中配置包括待测物与磁微粒的反应液，磁微粒与待测物结合形成结合后的磁微粒；
[0023]反应容器在相对固定的第一磁块和第二磁块之间摆动并呈折线轨迹上升；
[0024]当反应容器上升至最高处后，反应容器下降并移动至第三磁块，使反应容器的底部接近所述第三磁块的一侧，使结合后的磁微粒聚集于所述反应容器的底部。
[0025]为实现上述第二个专利技术目的，本申请还提供了一种免疫分析设备的磁微粒清洗方法，包括以下步骤：
[0026]在反应容器中配置包括待测物与磁微粒的反应液，磁微粒与待测物结合形成结合后的磁微粒；
[0027]设置在相对固定的反应容器两侧的第一磁块和第二磁块交错接近反应容器的侧壁，并呈折线轨迹下降；
[0028]第一磁块或所述第二磁块下降最低处且靠近反应容器后，靠近反应容器的第一磁块或所述第二磁块远离所述反应容器，所述第三磁块移动至所述反应容器的底部，使所述第三磁块的一侧接近所述反应容器的底部，使结合后的磁微粒聚集于所述反应容器的底部。
[0029]优选地，所述反应容器的底部为锥形，所述反应容器的底部设置微型孔，所述反应容器的顶部设置移液器。
[0030]优选地，所述第一磁块、第二磁块和第三磁块的形状均为矩形、圆形或异形，所述第一磁块、第二磁块和第三磁块分别若干两个磁块拼接而成。
[0031]通过上述技术方案，技术效果如下：
[0032](1)反应容器在移动机构的带动下在第一磁块和第二磁块之间摆动并呈折线轨迹上升，具体地，当反应容器摆动至第一磁块时，所述反应容器的第一侧壁贴合或靠近第一磁块，结合后的磁微粒被吸附至第一侧壁对应的内壁，而反应容器摆动至第二磁块时，所述反应容器的第二侧壁贴合或靠近第二磁块，结合后的磁微粒被吸附至第二侧壁对应的内壁；另外，因反应容器在摆动的同时呈折线轨迹上升，使结合后的磁微粒在反应容器内的反应液中呈折线穿梭，在反应液中穿梭过程中，实现对结合后的磁微粒表面及夹杂在结合后的磁微粒之间的未与磁微粒结合的待测物的清洗，以免未与磁微粒结合的待测物对后续的检测精度造成影响。
[0033](2)第一磁块和第二磁块分别交错地接近反应容器的第一侧壁和第二侧壁并呈折线轨迹下降，具体地，当第一磁块贴合或靠近反应容器的第一外壁时，结合后的磁微粒被吸附至第一侧壁对应的内壁后，第一磁块呈折线远离反应容器；第二磁块贴合或靠近反应容器的第二外壁时，结合后的磁微粒被吸附至第二侧壁对应的内壁后，第二磁块呈折线远离反应容器；第一磁块和第二磁块按上述过程交错地接近反应容器的第一侧壁和第二侧壁并呈折线轨迹下降，直至第一磁块或第二磁块下降至反应容器的最低处且靠近反应容器；因第一磁块和第二磁块分别交错地接近反应容器的第一侧壁和第二侧壁并呈折线轨本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置，其特征在于，包括反应容器、第一磁块和第二磁块；所述反应容器的底部为锥形，所述反应容器包括第一侧壁和第二侧壁；所述第一磁块设置于所述第一侧壁的侧面，所述第二磁块设置于所述第二侧壁的一侧；所述反应容器在移动机构的带动下在第一磁块和第二磁块之间摆动并呈折线轨迹上升，当反应容器上升至最高处后停止上升。2.如权利要求1所述的用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置，其特征在于，还包括第三磁块，所述第三磁块设置于所述反应容器的底侧；当反应容器上升至最高处后停止上升，反应容器移动下降至第三磁块并使反应容器的底部接近所述第三磁块的一侧，使结合后的磁微粒聚集于所述反应容器的底部。3.用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置，其特征在于，包括反应容器、第一磁块和第二磁块；所述反应容器的底部为锥形，所述反应容器包括第一侧壁和第二侧壁；所述第一磁块设置于所述第一侧壁的侧面，所述第二磁块设置于所述第二侧壁的一侧；所述第一磁块和所述第二磁块分别交错地接近反应容器的第一侧壁和第二侧壁并呈折线轨迹下降，第一磁块或所述第二磁块下降最低处且靠近反应容器。4.如权利要求3所述的用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置，其特征在于，还包括第三磁块，所述第三磁块设置于所述反应容器的底侧；当第一磁块或所述第二磁块下降最低处且靠近反应容器后，靠近反应容器的第一磁块或所述第二磁块远离所述反应容器，所述第三磁块移动至所述反应容器的底部，使所述第三磁块的一侧接近所述反应容器的底部，使结合后的磁微粒聚集于所述反应容器的底部。5.如权利要求1
‑
4任一所述的用于免疫分析设备的磁微粒清洗装置，其特征在于，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：宋世琦，
申请(专利权)人：宋世琦，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。