一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，包括真空发生器，具内部腔室的液体缓存装置，连接真空发生器与液体缓存装置的第一真空管路，与液体缓存装置相连的液体排出管路，以及接入所述液体排出管路的第一阀门，液体缓存装置内设水平设置的隔板，以通过隔板将内部腔室分隔形成上下布置的过滤室与缓存室，隔板开设用以连通过滤室与缓存室的第三流通口，过滤室内填充气液分离过滤器，液体缓存装置的底壁开设连通液体排出管路与缓存室的第一流通口，以供缓存室内液体流入液体排出管路，从而避免缓存室内存储液体过多导致液体外溢流入真空发生器，从而保证了真空发生器不会进液损坏，满足了提高单片式晶圆清洗设备稳定性的需求。稳定性的需求。稳定性的需求。

【技术实现步骤摘要】
一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统


[0001]本技术涉及晶圆设备
，更具体涉及一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统。

技术介绍

[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，单片式晶圆清洗设备是整个晶圆制造工艺中不可或缺的必要步骤。在单片式晶圆清洗设备中，通常以真空发生器的真空产生端与吸附晶圆进行清洗的吸附装置相连，清洗溶液及清洗晶圆后产生的气液混合物难免会流入真空发生器影响真空发生器的效果，甚至损坏真空发生器。
[0003]现有的单片清洗机的厂务系统中，虽然增加了用以保护真空发生器的过滤装置，却依然存在气液混合物难以有效过滤清除，从而导致气液混合物流入真空发生器，以至于损坏真空发生器，使得单片式晶圆清洗设备稳定性变差的缺陷。
[0004]有鉴于此，有必要对现有技术中的单片式晶圆清洗设备的厂务系统的予以改进，以解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于公开一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，用以解决现有技术单片式晶圆清洗设备的厂务系统中，气液混合物流入真空发生器进而损坏真空发生器的缺陷，以满足提高单片式晶圆清洗设备稳定性的需求。
[0006]为实现上述目的，本技术提供了一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，包括：
[0007]真空发生器，具内部腔室的液体缓存装置，连接所述真空发生器与所述液体缓存装置的第一真空管路，与所述液体缓存装置相连的液体排出管路，所述液体排出管路接入控制液体排出所述缓存室的第一阀门；
[0008]所述液体缓存装置内设水平设置的隔板，以通过所述隔板将所述内部腔室分隔形成上下布置的过滤室与缓存室，所述隔板形成用以连通所述过滤室与缓存室的第三流通口；
[0009]所述过滤室内填充用以分离流入所述过滤室内气液混合物的气液分离过滤器；
[0010]液体缓存装置的底壁开设连通所述液体排出管路与缓存室的第一流通口，以供缓存室内液体流入所述液体排出管路。
[0011]作为本技术的进一步改进，所述单片式晶圆清洗设备的厂务系统还包括：与所述液体缓存装置连接的第二真空管路；
[0012]液体缓存装置的侧壁开设连通所述过滤室与第二真空管路的第四流通口，以供气液混合物流入所述过滤室，所述侧壁开设连通所述过滤室与第一真空管路的第五流通口，以供气体流出所述过滤室。
[0013]作为本技术的进一步改进，所述液体缓存装置包括：所述侧壁形成用以监测
所述缓存室内液体的视窗。
[0014]作为本技术的进一步改进，所述单片晶圆清洗的厂务系统还包括：与所述液体缓存装置连通的液体流入管路；
[0015]所述侧壁开设连通所述缓存室与液体流入管路的第二流通口，以供清洗液体流入所述缓存室。
[0016]作为本技术的进一步改进，所述液体流入管路接入控制清洗液体流入所述缓存室的第二阀门。
[0017]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0018]在本技术中，用以清洗晶圆的清洗装置与真空发生器之间安装液体缓存装置，在清洗晶圆过程中流入第二真空管路的气液混合物将进入液体缓存装置中的过滤室，过滤室内的气液分离过滤器对气液混合物进行气液分离，使容易损坏真空发生器的液体流入缓存室，单片式晶圆清洗设备结束工作后，第一阀门打开，缓存室内的液体将沿液体排出管路流出缓存室，从而避免缓存室内存储液体过多导致液体外溢流入真空发生器，从而保证了真空发生器不会进液损坏，满足了提高单片式晶圆清洗设备稳定性的需求。
附图说明
[0019]图1为本技术一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统的整体示意图；
[0020]图2为液体缓存装置的剖视图。
具体实施方式
[0021]下面结合附图所示的各实施方式对本技术进行详细说明，但应当说明的是，这些实施方式并非对本技术的限制，本领域普通技术人员根据这些实施方式所作的功能、方法、或者结构上的等效变换或替代，均属于本技术的保护范围之内。
[0022]需要理解的是，在本申请中，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“径向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术方案和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术方案的限制。
[0023]请参图1至图2所示，本技术揭示了一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统(以下简称“厂务系统”)的具体实施方式。
[0024]在本实施方式中揭示的厂务系统避免气液混合物流入真空发生器20从而保证真空发生器20的正常运行，相对于其他厂务系统而言，在清洗装置1与真空发生器20之间安装液体缓存装置30，单片式晶圆清洗设备工作时流入第二真空管路25的气液混合物会进入液体缓存装置30的过滤室31，过滤室31内的气液分离过滤器311将对气液混合物执行气液分离工作，分离后的液体流入缓存室32，在单片式晶圆清洗设备结束工作后，打开第一阀门332，缓存室32内的液体沿液体排出管路33离开缓存室32，从而保证过滤后的液体不会在缓存室32内堆积，避免缓存室32内暂存的液体过多导致液体外溢流入真空发生器20，从而保证了真空发生器20的正常运行，提高了单片式晶圆清洗设备的稳定性。本申请所揭示的厂务系统及基于该厂务系统所揭示避免气液混合物流入真空发生器20从而保证真空发生器
20的正常运行，进而提高单片式晶圆清洗设备稳定性的实现方式在下文予以详细阐述。
[0025]结合图1与图2所示，在本实施例中，该厂务系统包括：真空发生器20，具内部腔室300的液体缓存装置30，以及连接真空发生器20与液体缓存装置30的第一真空管路24。液体缓存装置30是由侧壁35、顶壁36和底壁37围合构成且在内部形成中空内部腔室300的立体装置，液体缓存装置30内设水平设置的隔板301，以通过隔板301将内部腔室300分隔形成上下布置的过滤室31与缓存室32，隔板301形成用以连通过滤室31与缓存室32的第三流通口302，过滤室31内填充用以分离流入过滤室31内气液混合物的气液分离过滤器311。
[0026]结合图1所示，在本实施例中，单片式晶圆清洗设备中具清洗腔10的清洗装置1通过第二真空管路25与液体缓存装置30连通，液体排出管路33与液体缓存装置30相连，液体排出管路33接入控制液体流出缓存室32的第一阀门332。在单片式晶圆清洗设备正常运行时，需要真空发生器20向设置于清洗腔10内的旋转盘11提供真空吸附力以吸附晶圆。因此需要打开接入气体进入管路21的第三阀门211，以控制干燥气体从干燥气体入口212流入气体进入管路21，干燥气体沿箭头a所示的方向从气体进入管路21流入真空发生器20，真空发生器20利用气体的高速流通形成一定的真空度，前述气体沿箭头c所示的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，包括：真空发生器，具有内部腔室的液体缓存装置，连接所述真空发生器与所述液体缓存装置的第一真空管路，与所述液体缓存装置相连的液体排出管路，以及接入所述液体排出管路用以控制液体流出内部腔室的第一阀门；所述液体缓存装置内设水平设置的隔板，以通过所述隔板将所述内部腔室分隔形成上下布置的过滤室与缓存室，所述隔板形成用以连通所述过滤室与缓存室的第三流通口；所述过滤室内填充用以分离流入所述过滤室内气液混合物的气液分离过滤器；液体缓存装置的底壁开设连通所述液体排出管路与缓存室的第一流通口，以供缓存室内液体流入所述液体排出管路。2.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，所述单片式晶圆清洗设备的厂务系统还包括：与所述液体缓存...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘志刚，
申请(专利权)人：苏州芯图半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：